CN208776455U - 一种染整工艺中水回用装置 - Google Patents

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李加胜
王磊
李德超
王安位
武新卫
孙孝贤
万大福
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Abstract

本实用新型涉及染整废水处理技术领域,尤其是一种染整工艺中水回用装置,包括阵列设置的若干个处理池,在处理池的上方设置有中水总管,在中水总管上分接有若干中水分管,在每个中水分管上设置有电子控制阀,在处理池的上端设置有一层初滤网,在处理池的下端设置有金属支撑网,在金属支撑网的上方设置有超滤膜,在超滤膜的上方设置有活性炭层,在活性炭层上方设置有石灰岩层,金属支撑网与处理池的底部之间存在间隙,在处理池的底部设置有回用水分管,所有的回用水分管均连接至回用水总管。本实用新型所得到的一种染整工艺中水回用装置,通过合理的结构设计,能有效的实现染整中水分配处理,减少处理池的使用量,提升处理效率和稳定性。

Description

一种染整工艺中水回用装置
技术领域
本实用新型涉及染整废水处理技术领域,尤其是一种染整工艺中水回用装置。
背景技术
现有技术中,对于染整过程中产生的中水一般都无法回用,而且对于中水处理一般都采用一个大型处理池,中水不断进入,并不断处理输出,造成处理池需要持续运行,而且对于池内水的质量无法把控。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决上述技术的不足而提供一种染整工艺中水回用装置,能根据中水量进行自动分配以提升设备处理稳定性。
为了达到上述目的,本实用新型所设计的一种染整工艺中水回用装置,包括阵列设置的若干个处理池,在处理池的上方设置有中水总管,在中水总管上分接有若干中水分管,中水分管分别延伸至不同处理池的上方开口处,在每个中水分管上设置有电子控制阀,在处理池的上端设置有一层初滤网,在处理池的下端设置有金属支撑网,在金属支撑网的上方设置有超滤膜,在超滤膜的上方设置有活性炭层,在活性炭层上方设置有石灰岩层,金属支撑网与处理池的底部之间存在间隙,在处理池的底部设置有回用水分管,所有的回用水分管均连接至回用水总管,在石灰岩层与初滤网之间的处理池内设置有液位检测器,还包括控制器,控制器分别与每个液位检测器和电子控制阀电连接。
上述技术方案,在实际使用过程中,可根据中水量将中水总管内的中水分配至不同的处理池内,并经过初滤网、石灰岩层、活性炭层、超滤膜层进行处理后形成回用水进行收集回用。当中水量不多的情况下,可根据实际选择性的输送至少数的处理池内,以发挥处理池的最大处理量同时可减少处理池的损耗数量。同时当中水量改变时可自动改变处理池的数量,从而提升处理性能及稳定性。同时可根据处理池内的流量检测器检测处理池内的水量,进行合理添加,确保处理池的稳定运行。
在每个回用水分管上设置有止回阀。该结构的设计,在部分处理池未运行的情况下,可有效的避免回用总管内的回用水逆流至处理池内,提升设备的稳定性和可靠性。
本实用新型所得到的一种染整工艺中水回用装置,通过合理的结构设计,能有效的实现染整中水分配处理,减少处理池的使用量,提升处理效率和稳定性。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
下面通过实施例结合附图对本实用新型作进一步的描述。
实施例1:
如图1所示,本实施例描述的一种染整工艺中水回用装置,包括阵列设置的若干个处理池1,在处理池1的上方设置有中水总管2,在中水总管2上分接有若干中水分管3,中水分管3分别延伸至不同处理池1的上方开口处,在每个中水分管3上设置有电子控制阀4,在处理池1的上端设置有一层初滤网5,在处理池1的下端设置有金属支撑网9,在金属支撑网9的上方设置有超滤膜8,在超滤膜8的上方设置有活性炭层7,在活性炭层7上方设置有石灰岩层6,金属支撑网9与处理池1的底部之间存在间隙,在处理池1的底部设置有回用水分管11,所有的回用水分管11均连接至回用水总管10,在石灰岩层6与初滤网5之间的处理池1内设置有液位检测器13,还包括控制器14,控制器14分别与每个液位检测器13和电子控制阀4电连接;在每个回用水分管11上设置有止回阀12。

Claims (2)

1.一种染整工艺中水回用装置,其特征是:包括阵列设置的若干个处理池,在处理池的上方设置有中水总管,在中水总管上分接有若干中水分管,中水分管分别延伸至不同处理池的上方开口处,在每个中水分管上设置有电子控制阀,在处理池的上端设置有一层初滤网,在处理池的下端设置有金属支撑网,在金属支撑网的上方设置有超滤膜,在超滤膜的上方设置有活性炭层,在活性炭层上方设置有石灰岩层,金属支撑网与处理池的底部之间存在间隙,在处理池的底部设置有回用水分管,所有的回用水分管均连接至回用水总管,在石灰岩层与初滤网之间的处理池内设置有液位检测器,还包括控制器,控制器分别与每个液位检测器和电子控制阀电连接。
2.根据权利要求1所述的一种染整工艺中水回用装置,其特征是:在每个回用水分管上设置有止回阀。
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