CN208774297U - 一种适用于lcm的连续喷码治具 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种适用于LCM的连续喷码治具，包括喷码头，所述喷码头活动设置于治具本体的正面，治具本体的正面间断安装连接若干光电感应机构，每一个光电感觉机构右侧的治具本体上均开设L形深坑，L形深坑与光电感觉机构之间设有方形浅坑，方形浅坑的拐角设有扩弧；具有结构简单，设计合理，能够使难以定位的产品对其进行精准定位，可以连续喷印多个产品，从而提高产品质量及喷印效率，极大的提高了生产效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及LCM喷码技术领域，特别是涉及一种适用于LCM的连续喷码治具。
背景技术
LCM即LCD显示模组、液晶模块，是指将液晶显示器件,连接件，控制与驱动等外围电路，PCB电路板，背光源,结构件等装配在一起的组件。
在墨水供给泵的压力作用下，油墨从墨水箱经过墨路管道，调节压力、粘度、进入喷枪，随着压力的持续，油墨从喷嘴喷射出，油墨在经过喷嘴时，受压电晶体的作用断裂成一串连续的、间距相等且大小相同的墨滴，喷射墨流向下继续运动经过充电极被充电，在充电极中墨滴从墨线中分离出来。充电极上加了一定的电压，当墨滴从导电墨线分离出来的时候会在瞬间带上与充电极所加电压成正比例的负电荷。通过改变充电极的电压频率，使其与墨滴断裂的频率相同，这样可给每一个墨滴都充上预定的负电荷，在压力的持续下，墨流继续向下运动，从两个分别带有正负电压的偏转板中间通过，带电的墨滴经过偏转板时会发生偏转，偏转程度取决于所带电荷的多少，不带电的墨滴不发生偏转，一直向下飞行，流入回收管，最终经回收管道回到油墨箱中循环使用。带电并偏转的墨滴以一定的速度和角度落到从垂直喷头的前面经过的物体上。
由于目前传统的LCM在喷码过程中，无法对产品进行精准定位，出现喷码偏斜，另外产品体积小，单个拿取不方便，喷码效率非常低，找不到很好的定位点，满足不了产品要求。
实用新型内容
本实用新型的目的是针对现有问题，提供了一种适用于LCM的连续喷码治具。
本实用新型是通过以下技术方案实现的：一种适用于LCM的连续喷码治具，包括喷码头，所述喷码头活动设置于治具本体的正面，治具本体的正面间断安装连接若干光电感应机构，每一个光电感觉机构右侧的治具本体上均开设L形深坑，L形深坑与光电感觉机构之间设有方形浅坑，方形浅坑的拐角设有扩弧。
作为对上述方案的进一步改进，所述的光电感应机构的数量为6个。 作为对上述方案的进一步改进，所述的方形浅坑高于L形深坑，且方形浅坑的底部位于L形深坑的左中部。
作为对上述方案的进一步改进，操作人员通过用右手拿取产品的右下角，将产品放置于方形浅坑内，而右手置于L形深坑内，喷码机的喷头在位移的过程中感觉至光电感觉机构，喷码头就会对产品进行喷码，然后喷码头继续位移对下一个产品进行喷码。
本实用新型相比现有技术具有以下优点：具有结构简单，设计合理，能够使难以定位的产品对其进行精准定位，可以连续喷印多个产品，从而提高产品质量及喷印效率，极大的提高了生产效率。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
图2为图1中治具本体的剖面示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型进一步说明。
如图1-2中所示， 一种适用于LCM的连续喷码治具，包括喷码头6，所述喷码头6活动设置于治具本体1的正面，治具本体1的正面间断安装连接若干光电感应机构2，每一个光电感觉机构2右侧的治具本体1上均开设L形深坑5方便取放喷码产品，L形深坑5与光电感觉机构2之间设有方形浅坑3用于放置需要喷码产品，方形浅坑3的拐角设有扩弧4，可防止产品拐角破损。
作为对上述方案的进一步改进，所述的光电感应机构2的数量为6个。 作为对上述方案的进一步改进，所述的方形浅坑3高于L形深坑4，且方形浅坑3的底部位于L形深坑5的左中部。
作为对上述方案的进一步改进，操作人员通过用右手拿取产品的右下角，将产品放置于方形浅坑内，而右手置于L形深坑内，喷码机的喷头在位移的过程中感觉至光电感觉机构，喷码头就会对产品进行喷码，然后喷码头继续位移对下一个产品进行喷码。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (3)
1.一种适用于LCM的连续喷码治具，包括喷码头，其特征在于，所述喷码头活动设置于治具本体的正面，治具本体的正面间断安装连接若干光电感应机构，每一个光电感觉机构右侧的治具本体上均开设L形深坑，L形深坑与光电感觉机构之间设有方形浅坑，方形浅坑的拐角设有扩弧。
2.根据权利要求1所述的一种适用于LCM的连续喷码治具，其特征在于，所述的光电感应机构的数量为6个。
3.根据权利要求1所述的一种适用于LCM的连续喷码治具，其特征在于，所述的方形浅坑高于L形深坑，且方形浅坑的底部位于L形深坑的左中部。
Priority Applications (1)
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2018
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Legal Events
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