CN208444127U - 一种掩膜板及掩膜板存放装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型实施例提供了一种掩膜板及掩膜板存放装置，解决了日常清洁时，使用无尘布和酒精擦拭掩膜板，由于摩擦起电，造成的掩膜板静电损坏的问题。包括：透明基板；遮光层，设置于所述透明基板的第一表面；以及接地的导电层，设置于所述透明基板的与所述第一表面相对的第二表面，其中所述遮光层的图形完全覆盖所述导电层的图形在所述遮光层上的投影。

Description

一种掩膜板及掩膜板存放装置

技术领域

本实用新型涉及显示技术领域，具体涉及一种掩膜板及掩膜板存放装置。

背景技术

目前，掩膜板作为半导体行业非常重要的构图工具，用于实现将掩膜板上的掩膜图形以1:1的比例转移到目标衬底上，形成目标衬底上可导电的图形或狭缝图形。掩膜板包括遮光区域和透光区域，遮光区域设置有多个位于不同区域的遮光层用于遮光，一般的遮光层为刻蚀性能较好的导电金属，容易聚集电荷发生静电释放的不良现象，并且掩膜板尤其是高密度图形掩膜板在日常清洁时，如遇玻璃表面有大面积黏附性灰尘微粒或是一片污渍时，会使用无尘布和酒精擦拭，而此时，由于摩擦起电，使得掩膜板产生静电，这往往带来掩膜板遮光层金属图形的静电损坏事故。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型实施例提供了一种掩膜板及掩膜板存放装置，解决了日常清洁时，使用无尘布和酒精擦拭掩膜板，由于摩擦起电，造成的掩膜板静电损坏的问题。

本实用新型一实施例提供的一种掩膜板及掩膜板存放装置包括：

透明基板；

遮光层，设置于所述透明基板的第一表面；以及

导电层，设置于所述透明基板的与所述第一表面相对的第二表面，其中所述遮光层的图形完全覆盖所述导电层的图形在所述遮光层上的投影。

可选地，所述导电层的图形的线条中心线与所述遮光层的图形的线条中心线在所述透明基板表面上的投影相对应。

可选地，所述透明基板的所述第一表面的四周包括没有被所述遮光层覆盖的非图形区，其中所述导电层延伸至与所述非图形区对应的且位于所述第二表面上的区域与接地线连接。

可选地，进一步包括：设置在所述遮光层远离所述透明基板的一侧的表面的保护膜层。

可选地，所述导电层包括透明的金属线。

可选地，所述金属线的线宽为0.05～0.1μm。

可选地，所述导电层的材料为铬。

可选地，所述遮光层的材料为铬。

一种掩膜板存放装置，包括：

掩膜板盒子，构造为存放掩膜板，其中所述掩膜板盒子与所述非图形区相接触的位置设有导电材料；

如上述任一所述的掩膜板，设置在所述掩膜板盒子内，其中所述导电层在所述非图形区与所述导电材料电连接；

搬送装置，构造为搬送所述掩膜板盒子，其中所述搬送装置设有接地线，所述接地线与所述导电材料电连接；以及

存储装置，存储所述掩膜板盒子，其中所述存储装置设有接地线，所述接地线与所述导电材料电连接。

可选地，所述掩膜板盒子包括：

盖子；

支撑机构，构造为支撑所述掩膜板四周的所述非图形区，其中所述导电材料位于所述支撑机构上。

本实用新型实施例提供的一种掩膜板及掩膜板存放装置，在透明基板上设计有导电层和遮光层，遮光层位于透明基板的第一表面，导电层设置于透明基板的与第一表面相对的第二表面，其中遮光层的图形在透明基板的投影完全覆盖导电层的图形在透明基板有遮光层区域的投影，该掩膜板在擦拭时产生的静电将在玻璃表面积累形成等电势，并且由于导电层与地相连接，可以将静电释放出去，避免静电传导至遮光层一侧导致遮光层损坏，并且不影响掩膜板的成像和透过率。

附图说明

图1所示为本实用新型一实施例提供的一种掩膜板的结构示意图。

图2所示为本实用新型一实施例提供的一种掩膜板的结构示意图。

图3所示为本实用新型一实施例提供的一种搬送装置的结构示意图。

图4所示为本实用新型一实施例提供的一种搬送装置和掩膜板盒子的结构示意图。

图5所示为本实用新型一实施例提供的一种存储装置的结构示意图。

图6所示为本实用新型一实施例提供的一种掩膜板盒子的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

图1所示为本实用新型一实施例提供的一种掩膜板的结构示意图。

如图1所示，该掩膜板包括透明基板2、遮光层3和导电层1。遮光层3设置于透明基板2的第一表面，构造为在光刻过程中用于遮挡光线，从而在待光刻工件表面形成预设图形。导电层1设置于透明基板2远离遮光层3的与第一表面相对的第二表面，遮光层3的图形完全覆盖导电层1的图形在遮光层上的投影，因此不影响掩膜板的成像和透过率，并且在擦拭时产生的静电将在透明基板的导电层和遮光层积累形成等电势，避免静电传导到遮光层3一侧导致遮光层3图形的静电损坏。

透明基板2的材料可为石英玻璃，石英玻璃具体良好的透光性能，极好的化学稳定性和高于普通玻璃的机械性能，使用石英玻璃作为透明基板2不易破损，并且不影响掩膜板的透光性能。可以理解，透明基板2的材料可以为石英玻璃或是其他透明材料等，本实用新型对透明基板2的具体材料不作限定。

本实用新型一实施例中，导电层1的图形的线条中心线与遮光层3的图形的线条的中心线在透明基板2表面上的投影相对应，遮光层3的图形的线条在透明基板2上的投影完全覆盖导电层1的图形的线条在透明基板2上的投影，因此不影响掩膜板的成像和透过率，避免了由于导电层1的图形的线条遮挡而影响工艺效果的问题。

可以理解，遮光层3图形可以为线条也可以为其它形状等，本实用新型对遮光层3的图形的具体样式不作限定。

图2所示为本实用新型一实施例提供的一种掩膜板的结构示意图。

如图2所示，掩膜板还包括非图形区4，设置在透明基板2的外围四周没有遮光层3的区域，其中导电层1延伸到非图形区4，在光刻过程中非图形区4由于没有遮光层3的存在，不用于光刻中的掩膜作用，非图形区4可与光刻设备接触，光刻设备与非图形区4相接触的表面用于支撑掩膜板在预定位置进行掩膜。

可以理解，非图形区4的形状可以为规则形状，也可以为不规则形状，本实用新型对非图形区4的形状不作限定。

本实用新型一实施例中，掩膜板还包括保护膜层，设置在遮光层3远离透明基板2的一侧的表面，该保护膜可为塑料膜，由于塑料膜具有高透过率，所以在不影响掩膜板透过率和光学折射方向的前提下，对遮光层起到保护作用，能够延长遮光层的使用寿命。

可以理解，保护膜可为塑料膜或其他材料等，本实用新型对保护膜的具体材料不作限定。

本实用新型一实施例中，非图形区4在光刻过程中，可与光刻设备接触，因此可将延伸至非图形区4的导电层1与接地线相连接，接地线与延伸至非图形区4的导电层1相接触后，即可将掩膜板上的静电释放出去。由上述可见，导电层1应当覆盖非图形区4和透明基板2，导电层1有益于静电释放。

可以理解，延伸至非图形区4的导电层1可与接地线连接，也可与接地导通电路等连接，本实用新型对延伸至非图形区4的导电层1与何种接地机构连接不作限定。

本实用新型一实施例中，导电层1包括透明的金属线或者铬金属细线，该透明的金属线可为铟锡氧化物等，采用金属线作为导电层1可以将摩擦产生的静电在玻璃面形成等电势，由于金属线为透明的，光刻时光能够穿透导电层1，所以不影响掩膜板的成像和透过率。金属线的材料为铬，金属铬质地坚强、耐腐蚀、刻蚀性能良好且具有超低的反射率，使用金属铬作为掩膜版的导电层1降低了掩膜版表面的反射效应，并且增强了导电层1的强度，延长了使用寿命。

可以理解，金属线的材料可以为铟锡氧化物、铬，或者也可以为其它金属等，本实用新型对金属线的具体材料不作限定。

本实用新型一实施例中，遮光层的图形可为线条，金属线的线宽可为0.05～0.1μm，由于遮光层3的线宽远远大于金属线的线宽，遮光层3的图形在透明基板2的投影完全覆盖导电层1的图形在透明基板2有遮光层3区域的投影，并且由于现有曝光机的最大分辨率不小于3μm，所以采用此线宽的金属线作为导电层1，不会将导电层1的图案形成在待光刻组件上，对待光刻组件上待形成的图案无任何影响。

可以理解，金属线的线宽为0.05～0.1μm，还可以为其它小于遮光层3的线宽的尺寸，本实用新型对金属线的具体线宽不作限定。

本实用新型一实施例中，遮光层3的材料为铬，金属铬质地坚强、耐腐蚀、刻蚀性能较好且具有超低的反射率，使用金属铬作为掩膜版的遮光层3降低了掩膜版表面的反射效应，并且增强了掩膜板的强度，延长了使用寿命。

可以理解，遮光层3的材料可以为铬，也可以是其它金属等，本实用新型对遮光层3的具体材料不作限定。

本实用新型一实施例中，遮光层3和导电层1均通过光刻工艺制成，由于光刻工艺分辨率高，并且不受温度等环境的影响，所以采用光刻工艺制得的遮光层3和导电层1精确度较高，制备过程简单。

可以理解，遮光层3和导电层1均通过光刻工艺制成，也可以通过其他工艺制得，本实用新型对遮光层3和导电层1的制备工艺不作限定。

图3所示为本实用新型一实施例提供的一种搬送装置的结构示意图。图4所示为本实用新型一实施例提供的一种搬送装置和掩膜板盒子的结构示意图。图5所示为本实用新型一实施例提供的一种存储装置的结构示意图。

如图3、图4和图5所示，该掩膜板存放装置包括掩膜板盒子6，掩膜板在不曝光使用时，需要保存在掩膜板盒子6内，掩膜板盒子6对掩膜板起到保护作用，掩膜板盒子6与掩膜板四周非图形区域相接触的位置设置有导电材料，该导电材料与掩膜板非图形区域表面的导电层接触实现电连接，用于静电释放。搬送装置5，可用于搬送装有掩膜板的掩膜板盒子6往返于曝光机和存储装置7之间，搬送装置5上可设有接地线，在搬送过程中接地线可与掩膜板盒子6上的导电材料进行接触，将静电释放。存储装置7，用于存储暂时不使用的装有掩膜板的掩膜板盒子6，存储装置7可为铁架组成的框形结构，一侧敞开可装有门，其余侧面均用铁板密封覆盖，存储装置7上可设有接地线，将装有掩膜板的掩膜板盒子6放入存储装置7后，接地线可与掩膜板盒子6上的导电材料进行接触，将静电释放。该掩膜板存放装置可以将掩膜板在工作时产生的静电将在玻璃表面积累形成等电势，并通过接地线释放出去，避免静电传导至遮光层3一侧导致遮光层3损坏，并且不影响掩膜板的成像和透过率。

可以理解，掩膜板盒子6可为正方体、长方体或其他任意形状等，本实用新型对掩膜板盒子6的具体形状不作限定。

还可以理解，存储装置7可存储一个掩膜板盒子6或多个掩膜板盒子6，本实用新型对存储装置7具体可存储的掩膜板盒子6数量不作限定。

图6所示为本实用新型一实施例提供的一种掩膜板盒子的结构示意图。

如图6所示，该掩膜板的盒子可为正方体，分为上层61和下层62，上层61为盖子，该盖子的材料可为金属材料或者玻璃材料等，下层62为存放掩膜板的层，下层62的材料可为金属，下层62盒子的四周可有用于支撑掩膜板的支撑机构63，支撑机构63与掩膜板四周的非图形区4接触。下层62的支撑机构63上设计有导电材料，与掩膜板非图形区4的导电层1进行接触实现电连接，用于静电释放。掩膜板盒子6的四周可设有插孔64，用于搬送装置5插入插孔64进行搬运。掩膜板盒子6还包括限定上层61盒子位置的定位机构65。此掩膜板盒子6可用于存储和保护掩膜板，延长掩膜板的使用寿命，并且便于搬送和运输。

可以理解，掩膜板盒子6上层61的材料可为金属材料、玻璃材料或者金属和玻璃的混合材料等，本实用新型对掩膜板盒子6上层61的具体材料不作限定。

还可以理解，掩膜板盒子6下层62的材料可为金属材料或者其它材料等，本实用新型对掩膜板盒子6下层62的具体材料不作限定。

还可以理解，接地线可位于搬送装置5，接地线可位于存储装置7，或者接地线可同时位于搬送装置5和存储装置7等，本实用新型对接地线的具体位置不作限定。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种掩膜板，其特征在于，包括：

透明基板；

遮光层，设置于所述透明基板的第一表面；以及

导电层，设置于所述透明基板的与所述第一表面相对的第二表面，其中所述遮光层的图形完全覆盖所述导电层的图形在所述遮光层上的投影。

2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述导电层的图形的线条中心线与所述遮光层的图形的线条中心线在所述透明基板表面上的投影相对应。

3.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述透明基板的所述第一表面的四周包括没有被所述遮光层覆盖的非图形区，其中所述导电层延伸至与所述非图形区对应的且位于所述第二表面上的区域与接地线连接。

4.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，进一步包括：设置在所述遮光层远离所述透明基板的一侧的表面的保护膜层。

5.根据权利要求1-4任一项所述的掩膜板，其特征在于，所述导电层包括透明的金属线。

6.根据权利要求5所述的掩膜板，其特征在于，所述金属线的线宽为0.05～0.1μm。

7.根据权利要求1-4任一项所述的掩膜板，其特征在于，所述导电层的材料为铬。

8.根据权利要求1-4任一项所述的掩膜板，其特征在于，所述遮光层的材料为铬。

9.一种掩膜板存放装置，其特征在于，包括：

如上述权利要求1-8任一所述的掩膜板，其中所述透明基板的所述第一表面的四周包括没有被所述遮光层覆盖的非图形区；

掩膜板盒子，构造为存放所述掩膜板，其中所述掩膜板盒子与所述非图形区相接触的位置设有导电材料，所述导电层在所述非图形区与所述导电材料电连接；

搬送装置，构造为搬送所述掩膜板盒子，其中所述搬送装置设有接地线，所述接地线与所述导电材料电连接；以及

存储装置，存储所述掩膜板盒子，其中所述存储装置设有接地线，所述接地线与所述导电材料电连接。

10.根据权利要求9所述的掩膜板存放装置，其特征在于，所述掩膜板盒子包括：

盖子；

支撑机构，构造为支撑所述掩膜板四周的所述非图形区，其中所述导电材料位于所述支撑机构上。