CN208417527U - 一种带清洗功能的密封圈调整装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种带清洗功能的密封圈调整装置;属于电解铜箔技术领域;其技术要点包括支架,所述支架两侧分别设有第一导向轮,两个导向轮之间的支架上设有第二导向轮,所述第二导向轮连接有水平位移调节机构;所述支架上设有储水槽,所述储水槽连接有虹吸式滴水机构,所述虹吸式滴水机构的出水口与密封圈相对,在密封圈下方设有与虹吸式滴水机构的出水口相对的接水槽;本实用新型旨在提供一种操作简单及使用效果良好的带清洗功能的密封圈调整装置;用于电解铜箔生产。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种密封圈调整装置,更具体地说,尤其涉及一种带清洗功能的密封圈调整装置。
背景技术
电解铜箔是生箔机生产出来的,生箔机在生产的过程中,需要对阴极辊两侧实现密封,现在一般都是采用导向轮和密封圈的配合对其进行密封,同时密封圈对电解铜箔两侧的边部整齐度也有着重要作用。但是,阴极辊在旋转的过程中,会使旋转出电解区域的密封圈沾附有少量的硫酸铜溶液,这些硫酸铜溶液会在空气中结晶形成颗粒,随着密封圈循环转动,从而导致密封性能降低,严重时可能会引起生产中的铜箔产生撕边、长铜屑和烧边现象。
实用新型内容
本实用新型的目的在于针对上述现有技术的不足,提供一种操作简单及使用效果良好的带清洗功能的密封圈调整装置。
本实用新型的技术方案是这样实现的:一种带清洗功能的密封圈调整装置,包括支架,所述支架两侧分别设有第一导向轮,两个导向轮之间的支架上设有第二导向轮,所述第二导向轮连接有水平位移调节机构;所述支架上设有储水槽,所述储水槽连接有虹吸式滴水机构,所述虹吸式滴水机构的出水口与密封圈相对,在密封圈下方设有与虹吸式滴水机构的出水口相对的接水槽。
上述的一种带清洗功能的密封圈调整装置中,所述水平位移调节机构由活动设置在支架上的调节丝杆、设置在调节丝杆两侧且与调节丝杆平行的导向槽、与调节丝杆螺纹连接的水平滑座、设置在水平滑座两端且与导向槽相配合的导向滑块及与调节丝杆自由端固定连接的操作手柄组成;所述活动块上连接有转轴,所述第二导向轮与转轴活动连接。
上述的一种带清洗功能的密封圈调整装置中,所述虹吸式滴水机构主要由设置在储水槽上的导向定位组件、设置在导向定位组件上的吸水棉线及设置在导向定位组件靠近密封圈一端近端部的滴水调节组件组成;所述吸水棉线一端位于储水槽内,另一端与密封圈相对。
上述的一种带清洗功能的密封圈调整装置中,所述导向定位组件由U形导向软管和设置在储水槽内、外壁上的定位卡箍组成;所述U形导向软管通过定位卡箍固定在储水槽上,所述吸水棉线设置在U形导向软管内。
上述的一种带清洗功能的密封圈调整装置中,所述吸水棉线与密封圈相对的一端与密封圈之间的间距为0.5-1.5cm。
上述的一种带清洗功能的密封圈调整装置中,所述滴水调节组件由套设在U形导向软管外围且与支架固定连接的定位环、沿定位环径向设置且与定位环螺纹连接的调节螺丝及活动设置在调节螺丝自由端且与U形导向软管相对的调节压板组成。
上述的一种带清洗功能的密封圈调整装置中,所述支架上设有与储水槽相配合的支承座,在支承座上沿周向设有若干弹性定位片,在弹性定位片自由端设有与储水槽相对的定位凸块,在储水槽外壁上设有与定位凸块相配合的定位凸环。
本实用新型采用上述结构后,通过第一、二导向轮和水平位移调节机构的配合,可使密封圈保持紧致状态,防止因密封圈的松弛而影响铜箔生产过程中的密封性。同时,通过储水槽和虹吸式滴水机构的配合,可对密封圈上沾附的少量硫酸铜溶液起到清洗的作用,防止因密封圈上的硫酸铜溶液在空气中形成的颗粒影响密封性和使铜箔产生撕边、长铜屑、烧边等现象。
附图说明
下面结合附图中的实施例对本实用新型作进一步的详细说明,但并不构成对本实用新型的任何限制。
图1是本实用新型的结构示意图;
图2是图1中A处的局部放大示意图;
图3是图1中B-B向的剖视结构示意图;
图4是图3中C处的局部放大示意图;
图5是图3中D处的局部放大示意图。
图中:支架1、第一导向轮1a、第二导向轮1b、水平位移调节机构2、调节丝杆2a、导向槽2b、水平滑座2c、导向滑块2d、操作手柄2e、转轴2f、储水槽3、定位凸环3a、虹吸式滴水机构4、导向定位组件4a、吸水棉线4b、滴水调节组件4c、U形导向软管4d、定位卡箍4e、定位环4f、调节螺丝4g、调节压板4h、接水槽5、支承座6、弹性定位片6a、定位凸块6b。
具体实施方式
参阅图1所示,本实用新型的一种带清洗功能的密封圈调整装置,包括支架1,所述支架1两侧分别设有第一导向轮1a,两个第一导向轮1a之间的支架1上设有第二导向轮1b,所述第二导向轮1b连接有水平位移调节机构2。具体地,所述水平位移调节机构2由活动设置在支架1上的调节丝杆2a、设置在调节丝杆2a两侧且与调节丝杆2a平行的导向槽2b、与调节丝杆2a螺纹连接的水平滑座2c、设置在水平滑座2c两端且与导向槽2b相配合的导向滑块2d及与调节丝杆2a自由端固定连接的操作手柄2e组成。所述水平滑座2c上连接有转轴2f,所述第二导向轮1b与转轴2f活动连接。通过第一、二导向轮和水平位移调节机构的配合,可使密封圈保持紧致状态,防止因密封圈的松弛而影响铜箔生产过程中的密封性。
所述支架1上设有储水槽3,所述储水槽3连接有虹吸式滴水机构4,所述虹吸式滴水机构的出水口与密封圈相对,在密封圈下方设有与虹吸式滴水机构4的出水口相对的接水槽5。通过储水槽和虹吸式滴水机构的配合,可对密封圈上沾附的少量硫酸铜溶液起到清洗的作用,防止因密封圈上的硫酸铜溶液在空气中形成的颗粒影响密封性和使铜箔产生撕边、长铜屑、烧边等现象。
在本实施例中,所述虹吸式滴水机构4主要由设置在储水槽3上的导向定位组件4a、设置在导向定位组件4a上的吸水棉线4b及设置在导向定位组件4a靠近密封圈一端近端部的滴水调节组件4c组成。所述吸水棉线4b一端位于储水槽3内,另一端与密封圈相对。采用吸水棉线的结构,可防止水量过大而浪费水资源,起到节约用水的作用。
优选他,所述导向定位组件4a由U形导向软管4d和设置在储水槽3内、外壁上的定位卡箍4e组成。所述U形导向软管4d通过定位卡箍4e固定在储水槽3上,所述吸水棉线4b设置在U形导向软管4d内。通过虹吸原理,可将储水槽内的水通过U形导向软管滴到密封圈上,直接对密封圈进行清洗。通过定位卡箍可使U形导向软管固定在储水槽上。
优选地,所述滴水调节组件4c由套设在U形导向软管4d外围且与支架1固定连接的定位环4f、沿定位环4f径向设置且与定位环4f螺纹连接的调节螺丝4g及活动设置在调节螺丝4g自由端且与U形导向软管4d相对的调节压板4h组成。通过定位环、调节螺丝和U形导向软管的配合,可有效的控制吸水棉线的出水量,不仅可以节约用水,不会造成水资源的浪费,也能起到对密封圈进行清洗的作用。采用调节压板的结构,可防止因调节螺丝直接与U形导向软管接触而造成U形导向软管的损坏。
同时,所述吸水棉线4b与密封圈相对的一端与密封圈之间的间距为0.5-1.5cm。合理的间距可防止液体流出并滴到密封圈时弹到周围设备或者地面上,保证了周围设备或者地面的干燥。
在本实施例中,所述支架1上设有与储水槽3相配合的支承座5,在支承座5上沿周向设有若干弹性定位片5a,在弹性定位片5a自由端设有与储水槽3相对的定位凸块5b,在储水槽3外壁上设有与定位凸块5b相配合的定位凸环3a。定位凸环和定位凸块的配合,可使储水槽在支承座上更加稳固,防止因储水槽掉下而使储水槽内的水撒出造成地面的潮湿,严重时撒出的水可能会进去到生箔机的阴极辊内影响生箔机生箔效果。
使用时,通过旋转操作手柄,使与操作手柄固定连接的调节丝杆旋转,并带动与调节丝杆螺纹连接的水平滑座移动,从而使第二导向轮移动,并拖动设置在第一、二导向轮上的密封圈,使密封圈保持紧致状态。利用虹吸原理,使储水槽内的液体通过U形导向软管和U形导向软管内的吸水棉线滴入到与吸水棉线相对的密封圈上,当吸水棉线的出水量太大或者太小时,通过操作调节螺丝来控制吸水棉线的出水量。
以上所举实施例为本实用新型的较佳实施方式,仅用来方便说明本实用新型,并非对本实用新型作任何形式上的限制,任何所属技术领域中具有通常知识者,若在不脱离本实用新型所提技术特征的范围内,利用本实用新型所揭示技术内容所作出局部更动或修饰的等效实施例,并且未脱离本实用新型的技术特征内容,均仍属于本实用新型技术特征的范围内。
Claims (7)
1.一种带清洗功能的密封圈调整装置,包括支架(1),其特征在于,所述支架(1)两侧分别设有第一导向轮(1a),两个第一导向轮(1a)之间的支架(1)上设有第二导向轮(1b),所述第二导向轮(1b)连接有水平位移调节机构(2);所述支架(1)上设有储水槽(3),所述储水槽(3)连接有虹吸式滴水机构(4),所述虹吸式滴水机构的出水口与密封圈相对,在密封圈下方设有与虹吸式滴水机构(4)的出水口相对的接水槽(5)。
2.根据权利要求1所述的一种带清洗功能的密封圈调整装置,其特征在于,所述水平位移调节机构(2)由活动设置在支架(1)上的调节丝杆(2a)、设置在调节丝杆(2a)两侧且与调节丝杆(2a)平行的导向槽(2b)、与调节丝杆(2a)螺纹连接的水平滑座(2c)、设置在水平滑座(2c)两端且与导向槽(2b)相配合的导向滑块(2d)及与调节丝杆(2a)自由端固定连接的操作手柄(2e)组成;所述水平滑座(2c)上连接有转轴(2f),所述第二导向轮(1b)与转轴(2f)活动连接。
3.根据权利要求1所述的一种带清洗功能的密封圈调整装置,其特征在于,所述虹吸式滴水机构(4)主要由设置在储水槽(3)上的导向定位组件(4a)、设置在导向定位组件(4a)上的吸水棉线(4b)及设置在导向定位组件(4a)靠近密封圈一端近端部的滴水调节组件(4c)组成;所述吸水棉线(4b)一端位于储水槽(3)内,另一端与密封圈相对。
4.根据权利要求3所述的一种带清洗功能的密封圈调整装置,其特征在于,所述导向定位组件(4a)由U形导向软管(4d)和设置在储水槽(3)内、外壁上的定位卡箍(4e)组成;所述U形导向软管(4d)通过定位卡箍(4e)固定在储水槽(3)上,所述吸水棉线(4b)设置在U形导向软管(4d)内。
5.根据权利要求3或4所述的一种带清洗功能的密封圈调整装置,其特征在于,所述吸水棉线(4b)与密封圈相对的一端与密封圈之间的间距为0.5-1.5cm。
6.根据权利要求3所述的一种带清洗功能的密封圈调整装置,其特征在于,所述滴水调节组件(4c)由套设在U形导向软管(4d)外围且与支架(1)固定连接的定位环(4f)、沿定位环(4f)径向设置且与定位环(4f)螺纹连接的调节螺丝(4g)及活动设置在调节螺丝(4g)自由端且与U形导向软管(4d)相对的调节压板(4h)组成。
7.根据权利要求1所述的一种带清洗功能的密封圈调整装置,其特征在于,所述支架(1)上设有与储水槽(3)相配合的支承座(6),在支承座(6)上沿周向设有若干弹性定位片(5a),在弹性定位片(5a)自由端设有与储水槽(3)相对的定位凸块(5b),在储水槽(3)外壁上设有与定位凸块(5b)相配合的定位凸环(3a)。
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