CN208350622U - 一种化学铜分析控制系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种化学铜分析控制系统，包括分析控制装置、化学铜工作缸、多个添加泵及多个添加缸；分析控制装置包括信号连接的控制主机和铜离子传感器，铜离子传感器包括位于上部的电子箱以及位于下部的光学导管，光学导管浸在化学铜工作缸内的工作液中，电子箱露出于所述化学铜工作缸的液面以上，控制主机设有操作板及多个泵输出线孔，多个泵输出线孔分别通过电缆线与多个添加泵连接，每个添加泵均与一添加缸连通，添加缸内装有铜离子溶液，还设有液位传感器，液位传感器与控制主机信号连接，通过控制主机控制添加泵将所述添加缸内的溶液泵入所述铜缸内，并通过铜离子传感器测得铜缸内的铜离子浓度。本实用新型结构简单紧凑，自动化程度高。

Description

一种化学铜分析控制系统

技术领域

本实用新型涉及金属离子分析技术领域，特别是涉及一种化学铜分析控制系统。

背景技术

化学铜药液的铜离子在生产使用中，需要精确控制其浓度，传统的人工滴定分析和人工控制药液中铜离子的浓度已经难以满足现在的工艺控制要求。因此，有必要设计一种更好的化学铜分析控制系统，以解决上述问题。

实用新型内容

针对现有技术存在的问题，本实用新型提供一种自动控制并添加化学铜溶液，方便测量并显示铜离子浓度的化学铜分析控制系统。

为了实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

一种化学铜分析控制系统，其包括分析控制装置、化学铜工作缸、多个添加泵及多个添加缸；所述分析控制装置包括信号连接的控制主机和铜离子传感器，所述铜离子传感器包括位于上部的电子箱以及位于下部的光学导管，所述光学导管浸在所述化学铜工作缸内的工作液中，所述电子箱露出于所述化学铜工作缸的液面以上，所述控制主机设有操作板及多个泵输出线孔，所述多个泵输出线孔分别通过电缆线与所述多个添加泵连接，每个所述添加泵均与一所述添加缸连通，所述添加缸内装有铜离子溶液，所述添加缸内还设有液位传感器，所述液位传感器连接于所述控制主机，通过所述控制主机控制所述添加泵将所述添加缸内的溶液泵入所述铜缸内，并通过所述铜离子传感器测得所述铜缸内的铜离子浓度，由所述控制主机进行分析。

优选的，所述控制主机的正面旁侧设有USB插口，用于导出数据。

优选的，所述系统还包括报警器，其与所述控制主机通过电缆线连接。

优选的，所述控制主机还设有第一插座和第二插座，分别供所述铜离子传感器和所述液位传感器接入。

优选的，所述第一插座为五芯航空插座，所述第二插座为九芯航空插座。

优选的，所述液位传感器通过八芯信号线连接于所述控制主机，所述八芯信号线的一端连接于航空插头用于与所述第二插座对接，另一端通过分线盒与所述液位传感器连接，其中每芯信号线的颜色对应于不同的液位传感器。

优选的，所述控制主机正面外侧设有防水透明盖，所述防水透明盖一端铰接于所述控制主机，另一端通过锁扣锁在所述控制主机上。

优选的，所述控制主机与所述铜离子传感器通过连接线连接，所述连接线长度小于或等于10m。

相较于现有技术，本实用新型具有以下有益效果：

通过控制主机自动控制添加泵将添加缸内的溶液泵入铜缸内，并通过铜离子传感器测得铜缸内的铜离子浓度，由控制主机进行分析，铜离子传感器包括电子箱和光学导管，用比色法量度铜缸中的铜离子浓度，并在触摸屏上显示铜离子的测量值、目标值、上限值、下限值以及波动值在过去时间的变化趋势，从而对铜缸中化学铜工作液中铜离子进行测量分析。

附图说明

图1为本实用新型化学铜分析控制装置的结构示意图；

图2为图1中铜离子传感器的结构示意图；

图3为图1中触摸屏的主界面示意图；

图中，1—铜离子传感器、2—电子箱、3—光学导管、4—化学铜工作缸、5—连接线、6—控制主机、7—触摸屏、8—电缆线、9—添加泵、10—添加缸、11—液位传感器、12—八芯信号线、13—电源开关按钮、14—电源线、15—电源插头、16—USB插口、17—安装孔、18—报警器。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

需要说明，本实用新型实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

本实用新型提供一种化学铜分析控制系统，该分析控制装置为电子光学仪器，采用比色法量度化学铜缸中的铜离子浓度，主要用于PTH生产线化学铜缸的药水自动添加控制，也可以用于微蚀生产线微蚀铜缸的药水自动添加控制。

如图1及图2，本实施例之化学铜分析控制系统包括分析控制装置、化学铜工作缸4、多个添加泵9及多个添加缸10。化学铜分析控制装置包括控制主机6和铜离子传感器1，控制主机6位于铜离子传感器1的旁侧，通过连接线5连接于铜离子传感器1，铜离子传感器1与控制主机6之间的连接线1长度小于或等于10m，因此，控制主机6放置于距离铜离子传感器1小于10m的位置处。铜离子传感器1垂直的挂在化学铜工作缸边缘，一般是垂直及稳固的挂在化学铜工作缸4缸边或者化学铜工作缸4的副槽缸边。铜离子传感器1包括位于上部的电子箱2以及位于下部的光学导管3，光学导管3浸在化学铜工作缸4内的工作液中，电子箱2露出化学铜工作缸4的液面以上。铜离子传感器1的电子箱2绝不可以随便开启，以免影响里面的电子装置，在铜离子传感器1末端的光学导管3绝对不可自行移动或调整，否则便需要重新送回供应商进行电子校正。铜离子传感器1应放置在工作液混合良好的地方，但不应直接放在打气管之上，要远离热源及补充液进入化学铜工作缸4的位置，更要注意避免被篮架碰撞到。

如图1，控制主机6应垂直的放置在通风、干燥、高于化学铜工作缸液位及方便操作员操作的位置，控制主机6的四个角落设有安装孔17，用于将控制主机6安装于固定板上。控制主机6的正面设有用于供操作的触摸屏7，背面设有多个泵输出线孔，泵输出线孔通过电缆线8分别连接于多个添加泵9，每个添加泵9连接于一添加缸10，添加缸10内装有铜离子溶液。在本实施例中，控制主机6的背面设有7个泵输出线孔，分别对应连接7个添加泵9及添加缸10。添加缸10内还设有液位传感器11，液位传感器11通过八芯信号线12连接于控制主机6，通过控制主机6自动控制添加泵9将添加缸10内的溶液泵入化学铜工作缸内，并通过铜离子传感器1测得化学铜工作缸内的铜离子浓度，由控制主机6进行分析，而液位传感器11则可以测量添加缸10内的溶液量，当发现溶液量低于设定最低值时，则提示向添加缸10内加入化学铜溶液。本实用新型可以用比色法量度铜缸中的铜离子浓度，并在触摸屏7上显示铜离子的测量值、目标值、上限值、下限值以及波动值在过去时间的变化趋势，从而对化学铜工作缸中化学铜工作液中铜离子进行测量分析。

如图1，控制主机6的正面左侧设有可打开或关闭控制主机6供电的电源开关按钮13，背面设有电源输入线孔，电源输入线孔通过电源线14连接于电源插头15，电源插头15插接于外界电源上，在本实施例中，电源线14采用的是三芯电缆线，适合电源线14的外直径为6-8mm，电源线14的铜导线截面积为1.5mm²×3。控制主机6的正面右侧设有USB插口16，用于导出数据。控制主机6的背面设有报警器输出线孔，通过电缆线8连接于报警器18。在本实施例中，连接于添加泵10和报警器18的电缆线8采用的是三芯电缆线，适合电缆线8的外直径为6-8mm，电缆线8的铜导线截面积为0.75-1.5mm²×3。控制主机6的背面还设有第一插座和第二插座，分别供铜离子传感器1和液位传感器11接入，第一插座为五芯航空插座，所述第二插座为九芯航空插座，液位传感器11通过八芯信号线12连接于控制主机6，八芯信号线12的一端连接于航空插头用于与第二插座对接，另一端通过分线盒与液位传感器11连接，其中每芯信号线的颜色对应于不同的液位传感器11。

控制主机6通过专用的防水航空插头或插座与外部的电源插头15、添加泵9、报警器18、铜离子传感器1及液位传感器11相连接。航空插头和插座之间有锁紧帽锁紧，插头、插座两端的对接简单、可靠。控制主机6本身已经装好其中的一端(根据需要连接的通道数量预先装好)，安装接线时仅需要给另一端的电源插头15、添加泵9、报警器18、铜离子传感器1及液位传感器11接线即可。铜离子传感器1的连接线5的两端已经预先装好，因此不需要接线。控制主机6使用的电源、泵浦输出、报警器18输出均为单相AC 220V 50H_Z。

控制主机6正面外侧设有防水透明盖，防水透明盖一端铰接于控制主机6，另一端通过锁扣锁在控制主机6上，当控制主机6使用时，打开防水透明盖，当控制主机6停止使用收起时，关闭防水透明盖，并通过锁扣锁住。

维护时，控制主机6表面只需用布轻轻擦拭即可，铜离子传感器1的光学导管3表面需保持光洁，不能积铜。维护工作可与化学铜工作缸维护同时进行，用化学方法(如过硫酸钠微蚀溶液)清洗，但溶液温度不能超过45℃，且光学导管3表面不能使用任何机械性清洁，以免刮花光学导管3表面而影响测量的准确性。

如图3，本实用新型化学铜分析控制装置的触摸屏7操作界面在画面之间可以无序的跳转切换，在任意画面上点击相应的导向按钮可直接跳转到目标画面，无须按顺序切换画面。在主画面中对应设置多个按钮及显示区域，电机对应的按钮则进入对应的设置画面，中间的显示区域内则显示当前铜离子的测量值，并在旁侧显示当前设定的铜离子目标值、波动值、上限值、下限值。且工作模式可以选择为化学铜模式或者微蚀铜模式，分别用于PTH生产线化学铜缸或者微蚀生产线微蚀铜缸的铜离子的测量。泵1添加时间限制显示泵1添加时间限制的设定值和当前值，当添加时间达到设定值而铜离子浓度仍未达到设定值+波动值时，泵1被关闭并发出报警。添加(秒)设定/当前，显示泵1到泵7的添加时间设定值和当前值，左黑框内为设定值，右黑框内为当前值；泵1在暂停添加计时时，左黑框的内的蓝色字体会变成红色字体，为泵1暂停添加计时的设定值，右黑框内的白色字体变成红色字体，为泵1暂停添加计时的当前值。泵1周期时间累计到设定值时，泵2到泵7添加一次其对应设定值的时间，自动模式下，泵2到泵7是依据该值作添加的。手动模式下，按下相应按钮，对应的泵浦添加一次对应设定值的时间，按钮呈绿色；停止时按钮呈红色。

以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施例对本实用新型进行了详细说明，本领域技术人员应当理解，可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本技术方案的宗旨和范围，其均应涵盖在本实用新型的权利要求范围内。

Claims (8)

1.一种化学铜分析控制系统，其特征在于：其包括分析控制装置、化学铜工作缸、多个添加泵及多个添加缸；所述分析控制装置包括信号连接的控制主机和铜离子传感器，所述铜离子传感器包括位于上部的电子箱以及位于下部的光学导管，所述光学导管浸在所述化学铜工作缸内的工作液中，所述电子箱露出于所述化学铜工作缸的液面以上，所述控制主机设有操作板及多个泵输出线孔，所述多个泵输出线孔分别通过电缆线与所述多个添加泵连接，每个所述添加泵均与一所述添加缸对应连通，所述添加缸内装有铜离子溶液，所述添加缸内还设有液位传感器，所述液位传感器连接于所述控制主机，通过所述控制主机控制所述添加泵将所述添加缸内的溶液泵入所述铜缸内，并通过所述铜离子传感器测得所述铜缸内的铜离子浓度，由所述控制主机进行分析。

2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于：所述系统还包括报警器，其与所述控制主机通过电缆线连接。

3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于：所述控制主机的正面旁侧设有USB插口，用于导出数据。

4.根据权利要求1所述的系统，其特征在于：所述控制主机还设有第一插座和第二插座，分别供所述铜离子传感器和所述液位传感器接入。

5.根据权利要求4所述的系统，其特征在于：所述第一插座为五芯航空插座，所述第二插座为九芯航空插座。

6.根据权利要求5所述的系统，其特征在于：所述液位传感器通过八芯信号线连接于所述控制主机，所述八芯信号线的一端连接于航空插头用于与所述第二插座对接，另一端通过分线盒与所述液位传感器连接，其中每芯信号线的颜色对应于不同的液位传感器。

7.根据权利要求1至6任一所述的系统，其特征在于：所述控制主机正面外侧设有防水透明盖，所述防水透明盖一端铰接于所述控制主机，另一端通过锁扣锁在所述控制主机上。

8.根据权利要求1所述的系统，其特征在于：所述控制主机与所述铜离子传感器通过连接线连接，所述连接线长度小于或等于10m。