CN208224582U - 大相对孔径高变倍比红外连续变焦光学系统 - Google Patents
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Abstract
本专利公开了一种大相对孔径高变倍比红外连续变焦光学系统,从物面到像面依次包括前固定透镜组、第一变倍透镜组、补偿透镜组、第二变倍透镜组、后固定透镜组。在变焦过程中,采用第一变倍透镜组加补偿透镜组加第二变倍透镜组依次连续放置,沿光轴前后独立运动的方式,可同时获得超过50倍的高变倍比和F数恒定为2的大相对孔径,变焦光学型式简洁,变焦轨迹平滑,固定组元与运动组元可分开装调定位,易于光机工程实现,可连续变焦,变倍比大,相对孔径大,镜片数目少,能量收集能力高;尤其适用于中波3~5um与长波8~12um红外波段的变焦系统;可实现100%冷光阑匹配。
Description
技术领域:
本专利涉及一种红外热成像光学系统,涉及一种大相对孔径高变倍比红外连续变焦光学系统。
背景技术:
红外变焦光学系统包括分档变焦和连续变焦两种形式,依据使用探测器的不同,又可分为与制冷型探测器配合的红外变焦光学系统和与非制冷型探测器配合的红外变焦光学系统。其中,连续变焦的红外光学系统能够在变焦过程中,实现景物大小的连续改变,有效避免了分档变焦在视场切换时丢失快速运动目标的问题,可实现连续成像,具有更高的应用价值。与制冷型探测器配合的红外连续变焦光学系统,不仅满足大视场搜索目标、连续变焦距跟踪目标、小视场观察目标细节的需求,而且能够借助制冷型探测器灵敏度更高的优势,获取更为理想的观测效果,因此具有很高的研究价值。
受限于红外光学材料种类有限、且与制冷型红外探测器配合,光学系统的出瞳需要限制位于探测器冷光阑处等因素影响,与制冷型探测器配合的红外连续变焦光学系统设计限制多、难度大。传统的红外变焦光学系统,其变倍比往往较低,很难实现大变倍比,主流常见的红外变焦光学系统的变倍比往往在10倍左右,F数往往为4。尤其是同时具有大变倍比与大相对孔径于一体的红外变焦光学系统,更是很难实现。
目前国内已公开发表的文献中,尚未见到同时实现了超过50倍变倍比且大相对孔径(F数不超过2)于一体的红外变焦光学系统报道。已公开报道的系统,变倍比通常不超过30倍,且F数通常为4甚至更大;少数大相对孔径的变焦光学系统,其变倍比通常不高。比如专利号为CN104570297的中国专利公开了一项名称为一种制冷型中波红外分档变焦跟踪镜头的技术方案,该光学系统F数为2具有大相对孔径的优点,但其变倍比仅为2倍,无法满足高变倍比的应用场合。
又比如操超等人(操超,廖志远,白瑜等.一种新型复合变焦光学系统.光学学报),2017,37(11):1108001-1~1108001-7)设计了一套变倍比高达36倍,短焦部分F数为2、长焦部分F数为4的非制冷长波连续变焦光学系统。但是该系统的F数仅在短焦部分为2,在长焦部分仍为4,无法做到F数恒定为2,使得系统在长焦端远距离观测时,能量接收水平较低。而且系统与非制冷探测器配合,无需考虑冷光阑匹配的问题,设计难度相对较低。
又比如专利号CN103389570的中国专利公开了一项名称为一种具有高变焦比的中波红外连续变焦光学系统的技术方案,该光学系统变倍比为30倍,F数为2,但是其变倍组的二片镜片与补偿组的二片镜片为依次交替放置并两两固联在一起,形成双双组联动结构,这种双双组联动的光学变焦型式使得其变焦机械结构设计复杂,较难工程实现。另外,该系统参与变焦的运动镜片数为4片,运动负荷较大。
发明内容:
为了解决现有的与制冷型探测器配合的大相对孔径红外连续变焦光学系统的变倍比普遍低于30倍、高变倍比的变焦系统F数无法小于4使得相对孔径太小、以及变焦光学型式复杂难以光机工程实现的问题,本专利提供一种可应用于制冷型红外探测器,F数恒定为2且变倍比高于50倍的红外连续变焦光学系统型式。该系统采用第一变倍透镜组加补偿透镜组加第二变倍透镜组依次连续放置的光路形式,可同时实现大于50倍的高变倍比和F数恒定为2的大相对孔径,变焦型式简洁,运动负载小,易于光机工程实现。
本专利的光学系统适用于红外监控、搜索警戒、监视侦察等领域。更高的变倍比可以在短焦端获得更大的视场,实现更快的目标监视和空域警戒;在长焦端获得更长的焦距,实现对目标细节更仔细的分辨以及获得更远的作用距离。更大的相对孔径可以提高光学系统的响应灵敏度,提升像面照度,接收到更强的能量,获得更远的观测距离。本专利的光学系统可同时实现高变倍比与大相对孔径于一体,可有效提升红外连续变焦光学系统的性能,满足更多应用场合的需求。
为了获得更好的性能,系统采用制冷型红外探测器,光学系统光阑与探测器冷光阑100%匹配。这导致红外变焦光学系统在设计过程中,无法通过调整光阑位置,辅助消除像差,增加了系统的设计难度。
本专利是通过以下技术方案实现的:用于红外成像的光学系统从物方至像方按顺序由前固定透镜组、第一变倍透镜组、补偿透镜组、第二变倍透镜组、后固定透镜组组成。其中后固定透镜组又可细分为由后固定透镜前组、中继成像透镜组组成。该光学系统以红外探测器的冷光阑为其孔径光阑。后固定透镜前组将光线会聚到一次像面。中继成像透镜组用于将一次像面的成像再次成像到红外探测器的冷光阑处,以便实现100%的冷光阑匹配,提高系统的响应灵敏度。
进一步地,前固定透镜组由一片弯向像方的正光焦度的弯月型硅透镜组成;第一变倍透镜组由一片弯向像方的负光焦度的弯月型锗透镜组成;补偿透镜组由一片弯向像方的正光焦度的弯月型硅透镜组成;第二变倍透镜组由一片弯向物方的负光焦度的弯月型锗透镜组成;后固定透镜组为负光焦度,它是由正光焦度的后固定透镜前组以及正光焦度的中继成像透镜组组成;其中,后固定透镜前组由一片弯向像方的正光焦度的弯月型硅透镜和一片弯向像方的正光焦度的弯月型锗透镜组成;中继成像透镜组为由一片弯向像方的正光焦度的弯月型硅透镜和一片弯向像方的负光焦度的弯月型锗透镜组成。
进一步地,前固定透镜组为正光焦度,可起到压缩后组镜片孔径、减少镜片重量的作用,并可对大孔径产生的相关像差进行一定程度地校正,提高全焦距范围内的像质。前固定透镜组的镜片为标准球面,以避免在大口径的镜片上加工非球面,降低成本。
进一步地,所述后固定前组用于将物侧景物会聚成成像系统的一次像面,并且压缩光学系统总长;所述中继成像透镜组运用像差互补的方式,消除前面镜组的残余像差,并将系统一次像面的景物再次成像到探测器焦平面上,同时控制实现100%冷光阑匹配。
进一步地,所述第一变倍透镜组、补偿透镜组、第二变倍透镜组均具有非球面,用以校正色差和轴外像差。
进一步地,所述后固定透镜组具有非球面和衍射面;具体可以为:其中一个面为非球面,另一个面为衍射面;或其中一个面同时为非球面加衍射面。
进一步地,为了获得更高的变倍比以及更大的相对孔径,系统在经典机械四组元变焦模型的基础上,引入第二个独立变倍组,采用第一变倍透镜组加补偿透镜组加第二变倍透镜组依次连续放置的光路形式,当系统的焦距由短焦向长焦改变时,第一变倍透镜组沿光轴向像方移动,第二变倍透镜组沿光轴向像方移动,用以改变光学系统焦距;补偿透镜组沿光轴向物方移动,用以补偿在变焦过程中像面位置的变化。通过二个独立变倍透镜组(第一变倍透镜组和第二变倍透镜组)沿光轴前后的独立运动,级联起来,可获得更高的变倍比和更大的相对孔径;通过补偿透镜组的轴向移动,可补偿像面位置的变化。
进一步地,所述大相对孔径高变倍比红外连续变焦光学系统的长焦端的焦距FL与前固定透镜组的焦距F1之间满足如下关系:
0.45<F1/FL<0.75
其中,前固定透镜组为正光焦度,用于会聚收集光线,以便压缩后组镜片尺寸,并校正大孔径带来的相关像差。将F1/FL的数值限制在0.45与0.75之间,可在保证整个变焦过程内像质较为理想的同时,实现镜头体积的压缩控制。若比值低于0.45的限制,可更好地压缩后组镜片尺寸,有助于压缩镜头体积,但是对大视场的像散等像差校正困难;若比值高于0.75的限制,镜头体积会过于庞大。
进一步地,在第一变倍透镜组和第二变倍透镜组中均采用高色散、高折射率的锗材料,在整个变焦范围内更好地校正轴外像差;在补偿透镜组中采用低色散、高折射率的硅材料,可有效校正变倍透镜组带来的初级像差。
由于第一变倍透镜组、补偿透镜组、第二变倍透镜组依次连续放置,互不干扰,变焦轨迹平滑,因此其机械变焦结构相对简洁紧凑,固定组元与运动组元可分开装调定位,由此有效降低难度,提高效率,易于光机工程实现。
本专利的优点在于,本专利的制冷型大相对孔径高变倍比红外连续变焦光学系统,采用第一变倍透镜组加补偿透镜组加第二变倍透镜组,依次连续放置、沿光轴前后独立运动,可同时获得超过50倍的高变倍比和F数恒定为2的大相对孔径,变焦光学型式简洁,变焦轨迹平滑,固定组元与运动组元可分开装调定位,易于光机工程实现,镜片数目少,相对孔径大,能量利用效率高。
更大的变倍比可以使红外变焦光学系统获得更高的观察细节和更宽的视场覆盖,更大的相对孔径可以使红外变焦光学系统接收到更多的能量,提高探测距离。因此,本专利的光学系统可有效提升红外连续变焦光学系统的适用范围和性能水平。
附图说明:
图1为本专利的光学系统在长焦端的光路示意图。
图2为本专利的光学系统在中焦端的光路示意图。
图3为本专利的光学系统在短焦端的光路示意图。
图4为本专利的光学系统在长焦端@33lp/mm的MTF曲线图。
图5为本专利的光学系统在中焦端@33lp/mm的MTF曲线图。
图6为本专利的光学系统在短焦端@33lp/mm的MTF曲线图。
图7为本专利的光学系统的各运动组元变焦曲线图。
图1中,100代表前固定透镜组,200代表第一变倍透镜组,300代表补偿透镜组,400代表第二变倍透镜组,500代表后固定透镜组,其中510代表后固定透镜前组、520代表中继成像透镜组,501代表第五透镜,502代表第六透镜,503代表第七透镜,504代表第八透镜,600代表孔径光阑,700代表像面。
具体实施方式:
按照附图1的示意图所标示,本专利的大相对孔径高变倍比红外连续变焦光学系统,焦距变化范围为6mm至330mm,视场覆盖范围由91.4度至2.1度,在整个变焦范围内,F数恒定为2。整个光轴总长460毫米固定不变。图1、图2、图3分别是其在长焦330毫米、中焦168毫米、短焦6毫米位置的示意图。
来自物方的光束依次通过前固定透镜组100,第一变倍透镜组200,补偿透镜组300,第二变倍透镜组400,后固定透镜前组510(内含第五透镜501与第六透镜502),中继成像透镜组520(内含第七透镜503与第八透镜504),杜瓦窗口、冷滤光片、孔径光阑600,在像面700上成像。
具体来说,前固定透镜组100由一个正光焦度的硅球面透镜组成;第一变倍透镜组200由一个负光焦度的锗材料制成的非球面透镜组成,其后表面是非球面;补偿透镜组300由一个正光焦度的硅材料制成的非球面透镜组成,其前表面是非球面;第二变倍透镜组400由一个负光焦度的锗材料制成的非球面透镜组成,其前表面是非球面;后固定透镜组由第五透镜501、第六透镜502、第七透镜503、第八透镜504组成,其中第五透镜501是正光焦度的硅球面透镜,第六透镜502是正光焦度的锗材料制成的非球面透镜,其前表面是非球面加二元衍射面,第七透镜503是正光焦度的硅材料制成的非球面透镜,其后表面是非球面,第八透镜504是负光焦度的锗材料制成的非球面透镜,其前表面是非球面加二元衍射面;所述孔径光阑600与红外探测器冷光阑位置和大小重合。
进一步地,本专利实施例中,大相对孔径高变倍比红外连续变焦光学系统的长焦端的焦距FL与前固定透镜组100的焦距F1之间满足如下关系:
0.45<F1/FL<0.75
其中,前固定透镜组100为正光焦度,用于会聚收集光线,以便压缩后组镜片尺寸,并校正大孔径带来的相关像差。将F1/FL的数值限制在0.45与0.75之间,可在保证整个变焦过程内像质较为理想的同时,实现镜头体积的压缩控制。若比值低于0.45的限制,可更好地压缩后组镜片尺寸,有助于压缩镜头体积,但是对大视场的像散等像差校正困难;若比值高于0.75的限制,镜头体积会过于庞大。
进一步地,所述后固定前组510用于将物侧景物会聚成成像系统的一次像面,并且压缩光学系统总长;所述中继成像透镜组520运用像差互补的方式,消除前面镜组的残余像差,并将系统一次像面的景物再次成像到探测器焦平面上,同时控制实现100%冷光阑匹配。
进一步地,前固定透镜组100之中避免了使用非球面及衍射面,因为该组元镜片的口径最大,通过控制面型为普通球面镜片,可使得加工工艺较为简单、精度易于保证,同时有效降低加工成本。
进一步地,起变倍作用的是第一变倍透镜组200与第二变倍透镜组400,分别由一片负光焦度的锗材料制成的非球面透镜组成,利用锗材料高色散、高折射率的特性,承担改变光焦度的主要功能。
进一步地,补偿透镜组300由一片正光焦度的硅材料制成的非球面透镜组成,利用硅材料低色散、高折射率的特性,主要用于与承担变焦功能的负光焦度的锗材料互补,实现消除色差以及补偿本系统在变焦过程中产生的像差,保持最终像面位置不变。由于正光焦度的前固定透镜组已对光束口径进行了压缩,因此小口径的硅材料非球面透镜的加工是完全可行的。
在长焦330毫米位置,第一变倍透镜组200靠近物侧端的顶点距离前固定透镜组100靠近像侧端的顶点约89.38毫米;第一变倍透镜组200靠近像侧端的顶点距离补偿透镜组300靠近物侧端的顶点约8.16毫米;补偿透镜组300靠近像侧端的顶点距离第二变倍透镜组400靠近物侧端的顶点约167.6毫米;第二变倍透镜组400靠近像侧端的顶点距离后固定透镜组500靠近物侧端的顶点约1.0毫米。
在中焦168毫米位置,第一变倍透镜组200靠近物侧端的顶点距离前固定透镜组100靠近像侧端的顶点约83.48毫米;第一变倍透镜组200靠近像侧端的顶点距离补偿透镜组300靠近物侧端的顶点约33.07毫米;补偿透镜组300靠近像侧端的顶点距离第二变倍透镜组400靠近物侧端的顶点约139.68毫米;第二变倍透镜组400靠近像侧端的顶点距离后固定透镜组500靠近物侧端的顶点约9.91毫米。
在短焦6毫米位置,第一变倍透镜组200靠近物侧端的顶点距离前固定透镜组100靠近像侧端的顶点约12.96毫米;第一变倍透镜组200靠近像侧端的顶点距离补偿透镜组300靠近物侧端的顶点约205.7毫米;补偿透镜组300靠近像侧端的顶点距离第二变倍透镜组400靠近物侧端的顶点约20.6毫米;第二变倍透镜组400靠近像侧端的顶点距离后固定透镜组500靠近物侧端的顶点约26.88毫米。
第一变倍透镜组200、补偿透镜组300、第二变倍透镜组400的运动变焦曲线如图7所示。从图7可见,本专利所述光学系统的三个运动组元均为单向运动,变焦轨迹平滑流畅。
进一步地,为了矫正色差及大视场像差,本专利在部分镜片表面采用了非球面,或者非球面加衍射面的方式,以便提高像质,减小镜片数目和镜头体积。
进一步地,为了减小变焦光学系统对加工装校的敏感度,系统避免了在运动组元(即第一变倍透镜组200、补偿透镜组300、第二变倍透镜组400)之中添加衍射面,系统衍射面位于后固定透镜组500之中。在后固定透镜组500之中添加衍射面,可以有效消除色差、抵消前面镜组的残余像差,还可以部分补偿温度变化对像质的影响。
进一步地,为了提高能量利用效率,本专利在所有透镜的前后表面,都镀有高质量增透膜,以提高系统响应灵敏度和探测距离。
从图4、图5、图6可见,系统在长焦、中焦、短焦情况下,空间频率为33lp/mm时的MTF曲线值可以看出,均具有较好的成像质量,证明系统在整个焦距范围内像质满足使用需求。
本专利未经描述的技术特征可以通过现有技术实现,在此不再赘述。上述说明仅为本专利的一个实施示例,并非是对本专利的限制,本专利也并不仅限于上述举例,本技术领域的普通技术人员在本专利的实质范围内所做出的变化、改型、添加或替换,例如把镜片材料进行相应的替换,或者同镜组内镜片数目增减,也应属于本专利的保护范围。
Claims (6)
1.一种大相对孔径高变倍比红外连续变焦光学系统,包括前固定透镜组(100)、第一变倍透镜组(200)、补偿透镜组(300)、第二变倍透镜组(400)、后固定透镜组(500),其特征在于,
来自物方的成像光束依次经过前固定透镜组(100)、第一变倍透镜组(200)、补偿透镜组(300)、第二变倍透镜组(400)、后固定透镜组(500);孔径光阑(600)后在像面(700)上成像;在前固定透镜组(100)与后固定透镜组(500)之间,采用第一变倍透镜组(200)加补偿透镜组(300)加第二变倍透镜组(400)依次连续放置,沿光轴前后独立运动的方式,可获得超过50倍的高变倍比和F数恒定为2的大相对孔径系统;当红外变焦光学系统的焦距由短焦向长焦改变时,第一变倍透镜组(200)沿光轴向像方移动,第二变倍透镜组(400)沿光轴向像方移动,用以改变光学系统焦距,补偿透镜组(300)沿光轴向物方移动,用以补偿在变焦过程中像面位置的变化;
所述后固定透镜组(500)由后固定透镜前组(510)、中继成像透镜组(520)组成,其中后固定透镜前组(510)用于将光线汇聚到一次像面,中继成像透镜组(520)用于消除前面镜组的残余像差,并将系统一次像面的像再次成像到像面(700)上;
所述的孔径光阑(600)与系统匹配的红外探测器中冷光阑的位置重合,口径相同。
2.根据权利要求1所述的一种大相对孔径高变倍比红外连续变焦光学系统,其特征在于,所述的前固定透镜组(100)由一片弯向像方的正光焦度的弯月型硅透镜构成,前固定透镜组(100)的焦距F1与大相对孔径高变倍比红外连续变焦光学系统长焦端的焦距FL应满足以下条件式:
0.45<F1/FL<0.75。
3.根据权利要求1所述的一种大相对孔径高变倍比红外连续变焦光学系统,其特征在于,所述的第一变倍透镜组(200)是一片弯向像方的负光焦度的弯月型的非球面锗透镜。
4.根据权利要求1所述的一种大相对孔径高变倍比红外连续变焦光学系统,其特征在于,所述的补偿透镜组(300)是一片弯向像方的正光焦度的弯月型非球面硅透镜。
5.根据权利要求1所述的一种大相对孔径高变倍比红外连续变焦光学系统,其特征在于,所述的第二变倍透镜组(400)是一片弯向物方的负光焦度的弯月型非球面锗透镜。
6.根据权利要求1所述的一种大相对孔径高变倍比红外连续变焦光学系统,其特征在于,后固定透镜组(500)为负光焦度,由正光焦度的后固定透镜前组(510)以及正光焦度的中继成像透镜组(520)组成;其中,后固定透镜前组(510)由第五透镜(501)和第六透镜(502)组成,中继成像透镜组(520)由第七透镜(503)和第八透镜(504)组成;其中第五透镜(501)是正光焦度的硅球面透镜,第六透镜(502)是正光焦度的锗非球面透镜,其前表面是非球面加二元衍射面,第七透镜(503)是正光焦度的硅非球面透镜,其后表面是非球面,第八透镜(504)是负光焦度的锗非球面透镜,其前表面是非球面加二元衍射面。
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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GR01 | Patent grant | ||
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