CN208088428U - 立式超高压设备自动补水结构 - Google Patents

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杜景东
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Abstract

本实用新型属于超高压技术领域,具体涉及一种立式超高压设备自动补水结构,解决现有超高压处理设备补水过程费时费力的问题,采用的技术方案:包括超高压容器,超高压容器内设超高压腔,超高压容腔的顶部安装有上端盖,其特征在于:所述上端盖一侧的超高压容器上设置有水箱,水箱的水位高于超高压容器的平面,水箱底部开设与超高压腔贯通的进水孔,上端盖置于水箱内并在超高压腔内做往复运动。

Description

立式超高压设备自动补水结构
技术领域
本实用新型属于超高压技术领域,具体涉及一种立式超高压设备自动补水结构。
背景技术
超高压处理技术是依据帕斯卡原理开发的一种超高压技术,广泛用于化工、粉末冶金、金属成型、食品杀菌保鲜等领域。超高压处理技术主要通过卧式超高压处理设备来实现,卧式超高压处理设备主要由超高压容器、端盖、承压机架、增压系统和控制系统组成。
目前,立式超高压设备的补水箱通常是放置于地面上,补水箱高度低于超高压容器,补水时,需要人工拉水管进行补水,为了保证补水的效果还需要结构复杂的排气阀。现有的这种补水结构,占地面积较大,而且操作过程费时费力,严重影响了设备的自动化操作,降低了企业的生产效率。
实用新型内容
为解决现有超高压处理设备补水过程费时费力的问题,本实用新型提供了一种立式超高压设备自动补水结构,本结构减小了超高压设备的占地面积,能够自动完成超高压容器的补水过程。
为实现上述目的,本实用新型所采用的技术方案为:
立式超高压设备自动补水结构,包括超高压容器,超高压容器内设超高压腔,超高压容腔的顶部安装有上端盖,所述上端盖一侧的超高压容器上设置有水箱,水箱的水位高于超高压容器的平面,水箱底部开设与超高压腔贯通的进水孔,上端盖置于水箱内并在超高压腔内做往复运动。
进一步地,所述水箱的底部设置有进水管,进水管外接水泵用于补水。
进一步地,所述水箱的底部设置有溢流管,溢流管的上口高于超高压容器的平面。
本实用新型与现有技术相比,具有以下有益效果:
本实用新型改变了现有人工补水的方式,不需要排气阀,通过在超高压容器的顶部增设水箱,实现了超高压容器的自动补水,整体结构简单,减小了整个超高压设备的占地面积,提升超高压设备的自动化程度,增加了设备的生产效率。
附图说明
图1为加压工位下,本实用新型的结构示意图。
图2为补水工位下,本实用新型的结构示意图。
图中,1为超高压容器,2为上端盖,3为水箱,4为进水管,5为溢流管。
具体实施方式
为了使本实用新型所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
如图1所示,立式超高压设备自动补水结构,包括超高压容器1,超高压容器1内设超高压腔,超高压容腔的顶部安装有上端盖2,上端盖2一侧的超高压容器1上设置有水箱3,水箱3的水位高于超高压容器1的平面,水箱3底部开设与超高压腔贯通的进水孔,上端盖2置于水箱3内并在超高压腔内做往复运动。
水箱3的底部设置有进水管4,进水管4外接水泵用于补水。另外,水箱3的底部设置有溢流管5,溢流管5的上口高于超高压容器1的平面。
本实用新型的工作过程:超高压设备工作时,当物料放入超高压腔后,需先向超高压腔中充满常压水,然后盖上上端盖2施压,水箱3的位置如图1所示。
如图2所示,水箱3上设有进水管和溢流管,当上端盖2开启时,水箱3里的存水即可自流充满超高压腔,另外连接进水管4的水泵(图中未标示)在上端盖2开启时自动开机,向水箱3充水,使水箱3的水位高于超高压容器1的上平面,与溢流管5的上口平齐,多余的水从溢流管5溢出,流回地面蓄水池。上端盖2进入超高压容器1时,水泵自动关机,此时水箱3中的水面与溢流口平齐。以上表述,为一个工作循环。
本实用新型的自动补水结构解决了原有超高压设备的超高压腔需要人工补水的问题,取消了排气阀,实现了自流补水,提升了工作效率。
所述上面结合附图对本实用新型的实施例作了详细说明,但是本实用新型并不限于上述实施例,在本领域普通技术人员所具备的知识范围内,还可以在不脱离本实用新型宗旨的前提下作出各种变化。

Claims (3)

1.立式超高压设备自动补水结构,包括超高压容器(1),超高压容器(1)内设超高压腔,超高压容器腔的顶部安装有上端盖(2),其特征在于:所述上端盖(2)一侧的超高压容器(1)上设置有水箱(3),水箱(3)的水位高于超高压容器(1)的平面,水箱(3)底部开设与超高压腔贯通的进水孔,上端盖(2)置于水箱(3)内并在超高压腔内做往复运动。
2.根据权利要求1所述的立式超高压设备自动补水结构,其特征在于:所述水箱(3)的底部设置有进水管(4),进水管(4)外接水泵用于补水。
3.根据权利要求1或2所述的立式超高压设备自动补水结构,其特征在于:所述水箱(3)的底部设置有溢流管(5),溢流管(5)的上口高于超高压容器(1)的平面。
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