CN208076453U - 一种检测厚壁深裂纹缺陷的双频激励圆形涡流探头 - Google Patents
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Abstract
本实用新型属于无损检测技术领域，涉及一种检测厚壁深裂纹缺陷的双频激励圆形涡流探头。所述双频激励圆形涡流探头，包括双频激励探头组件、检测探头组件和固定架；所述激励探头组件有两组，以检测探头组件为中心，呈左右对称分布；所述激励探头组件由激励线圈和激励线圈安装立柱组成；所述检测探头组件由检测线圏和检测线圈安装立柱组成；所述固定架由固定连接的立柱固定板和扫查部件连接件组成；所述激励线圈安装立柱底端和所述检测线圈安装立柱底端安装在立柱固定板上；所述激励线圈为圆形涡流线圈，采用正弦双频率交流电流激励。采用该双频激励探头可提高涡流渗透深度和探头对深裂纹的检测能力，其渗透深度可达到21mm左右。
Description
技术领域
本发明属于无损检测技术领域，涉及一种用于工业检测缺陷的涡流探头，尤其涉及一种检测厚壁深裂纹缺陷的双频激励圆形涡流探头。
背景技术
涡流检测是常规无损检测技术之一，是以电磁感应原理为基础，依据材料电磁性能变化来对材料及构件实施缺陷探测和性能测试的电磁检测方法，其基本原理是以电磁学的理论为基础的。涡流检测方法具有非接触、检测速度快和浅裂纹定量方面的优势，是一种对结构表面和近表面缺陷进行定量无损评价的有效方法。涡流在线检测技术在工业中已被广泛应用于大型、重型、特种设备以及航空航天关键零部件制造中，因此，裂纹的检测技术对保障设备运行安全、评定设备寿命、降低设备维护成本等至关重要。
目前常规涡流检测采用单一频率的涡流探头进行检测，基本停留在近表层缺陷的检测，因为存在明显的集肤效应，所以对装备零件中较深缺陷以及深层缺陷识别能力有限。虽然通过优化探头结构参数、降低激励频率等措施，可以在一定程度上提高对深裂纹的检测效果，但同时存在其他问题：如采用低频激励虽然可以增大涡流渗透深度、提高探头检测深层缺陷的能力，但同时会导致探头分辨率低、信噪比低、检测速度和信号幅值过低，并引发了探头速度效应和检测信号分辨困难等问题。即使通过采用干涉仪（SQUID）、巨磁阻传感器（GMR）、霍尔元件等磁敏元件以及磁路屏蔽等方式可以改进灵敏度，但检测速度过低的问题始终不能得到很好地解决，因而无法应用于大面积高速检测场合。
因此，研究适用于大面积厚壁深裂纹缺陷高速检测的涡流检测探头，在保障设备安全运行、评定设备寿命、降低设备维护成本等方面具有重要意义和前景。
发明内容
为了克服现有技术的不足，解决上述现有技术中存在的问题，本发明的目的在于提供一种检测厚壁深裂纹缺陷的双频激励圆形涡流探头及检测方法，通过两个不同频率的激励线圈同时反向激励，在试件材料中产生复合的涡流场，从而达到改变材料中涡流场的分布状态和增加渗透深度的目的。和单一频率（低频激励）、采用磁敏元件等现有技术相比，本发明可有效解决探头分辨率低、灵敏度下降、检测速度低、检测信号分辨困难等问题，可用于厚壁构件深层裂纹缺陷的大批量高速检测，为工业实际中厚壁深裂纹缺陷的检测和评估提供准确可靠的判断依据。
本发明采用的技术方案是：一种检测厚壁深裂纹缺陷的双频激励圆形涡流探头，其特征在于：包括激励探头组件、检测探头组件和固定架；所述激励探头组件有两组，以检测探头组件为中心，呈左右对称分布；所述激励探头组件每组由1个激励线圈和1个相应的激励线圈安装立柱组成，所述激励线圈套在激励线圈安装立柱上；所述检测探头组件由检测线圈和检测线圈安装立柱组成，所述检测线圈套在检测线圈安装立柱上；所述固定架由立柱固定板和扫查部件连接件组成，所述立柱固定板与扫查部件连接件固定连接；所述激励线圈安装立柱底端和所述检测线圈安装立柱底端安装在立柱固定板上；所述立柱固定板与扫查部件连接件固定连接。
进一步，所述双频激励圆形涡流探头整体通过所述扫查部件连接件与扫查部件可拆卸安装。
进一步，所述检测探头组件有一组，由1个检测线圈3和1个对应的检测线圈安装立柱4组成。
进一步，所述激励线圈为圆形涡流线圈，采用正弦双频率交流电流激励。
进一步，所述检测线圈为圆形涡流线圈。
进一步，所述激励线圈及对应的激励线圈安装立柱的直径分别大于所述检测线圈及对应的检测线圈安装立柱的直径。
进一步，所述激励线圈完全套在激励线圈安装立柱上，其顶端面与激励线圈安装立柱顶端面保持在同一平面内，以保持激励线圈在检测过程中固定的相对位置关系。
进一步，所述检测线圈完全套在检测线圈安装立柱上，其顶端面与检测线圈安装立柱顶端面保持在同一平面内，以保持检测线圈在检测过程中固定的相对位置关系。
进一步，所述扫查部件连接件为连接板，所述连接板上设置有安装孔，所述连接板通过安装孔将所述双频激励圆形涡流探头整体安装在扫查部件上。
优选地，所述安装孔有多个，对称分布于连接板上。
进一步，所述激励线圈安装立柱、检测线圈安装立柱和固定架均由PVC材料制成。
进一步，所述激励线圈和检测线圈均由漆包线绕制而成。
进一步，所述两组激励线圈之间的间隙距离S=(1.4-2)×Ro，Ro为激励线圈的外半径。
优选地，所述两组激励线圈之间的间隙距离S=16mm。
基于上述方案，本发明采用的另一个技术方案是：一种用上述双频激励圆形涡流探头对厚壁深裂纹缺陷进行检测的方法，其特征在于：
S1. 通过同步交流电源，向两组激励线圈中持续通入频率和大小不同的稳态正弦激励电流，该正弦激励电流在金属平板试件中产生涡流场；
S2. 通过扫查控制台，使检测探头组件在试件表面进行C扫，缺陷处的涡流场受到缺陷的扰动，通过扰动磁场将缺陷信息反馈到检测线圈中；
S3. 将检测线圈中的检测信号输入到滤波器中，利用滤波器过滤除去其中的高频噪声，输出到示波器；
S4. 将过滤除去高频噪声的检测信号输入到放大器中，通过放大器将微弱的检测信号放大；
S5. 将试件缺陷信号在示波器上实时显示出来，发现缺陷，通过标准试件的标定曲线计算出该缺陷的实际深度。
进一步，两组激励线圈之间的间隙距离S=(1.4-2)×Ro，Ro为激励线圈的外半径；激励线圈之间的间隙距离对探头的整体尺寸和探头的检测性能起着重要作用，直接影响深裂纹的检测结果，保持合适的距离可有效提高探头对裂纹的检测深度。本发明优选采取两个较大的圆形涡流线圈作为激励元件，一个较小的圆形涡流线圈作为检测信号采集元件，检测线圈位于两个圆形激励线圈中心连线的中点位置，通过分析试验证明，两个圆形激励线圈的间距为S=(1.4-2)×Ro这个距离范围时，可实现对深度缺陷的检测。
进一步，两组激励线圈中，频率较高的一侧激励线圈选配较小的激励电流，频率较低的一侧选配较大的激励电流，每个激励线圈中电流大小保持在向其中通入的激励频率的0.5-0.7倍。探头的配置主要包括激励线圈中激励电流大小和激励频率的配置、激励线圈之间的间隙的配置等。两个激励线圈中激励电流大小的分配直接影响涡流深度的大小。激励线圈电流在试件表面产生的涡流密度大小受激励频率和激励电流这两种因素的制约。不同激励频率、不同激励电流大小在试件表面产生的涡流密度大小均不同，通过同时调整激励频率和激励电流比例，使其达到合适值时，就可有效降低试件表面的集肤效应。大电流能够产生较大的涡流密度，频率较高的一侧激励线圈选配较小的激励电流，频率较低的一侧选配较大的激励电流，通过分析试验，本发明当电流大小保持在激励频率的0.5-0.7倍时可得到较理想的效果。
本发明的原理是：
首先，向两组激励线圈持续通入频率和大小不同的稳态正弦激励电流，该正弦激励电流会在试件表面及内部产生交变磁场，变化的磁场会在试件内部及试件表面感生出交变涡流，涡流会受到试件内部缺陷的扰动，涡流感生的次生磁场以及检测信号会被圆形检测线圈拾取，通过对检测信号进行处理并与无缺陷试件的检测信号进行比较，从而判断当前位置是否存在缺陷；如果存在缺陷，则继续通过标准试件的标定曲线即可推断出该缺陷的实际深度。
本发明的有益效果：
1、本发明采用对方向不敏感的圆形涡流线圈作为激励和检测元件，在实际检测过程中，克服了矩形激励线圈产生的涡流对裂纹方向敏感、以及不易检出与涡流流向平行的裂纹缺陷的问题，从而有效避免裂纹漏检情况的发生。
2、本发明双线圈激励探头采用正弦双频率交流激励的方式，不同频率产生的涡流在试件内部的衰减程度不尽相同，通过设置适当的激励参数，使被测试件表面某点产生反向可以相互抵消的涡流，来削弱试件表面涡流密度，使材料内部深处的涡流密度相对变大，相对增大了深层裂纹的检测信号，增大了检测信号的信噪比，从而有效降低试件表面的涡流集肤效应对深层裂纹缺陷检测的影响，提高涡流渗透深度和探头对深裂纹的检测能力，以表面涡流密度为基准，双频激励探头的渗透深度可达到单频激励时的1.6倍以上。
3、本发明双激励线圈之间的间隙距离S与探头的尺寸和探头的检测性能之间密切相关，其直接影响深裂纹的检测结果，保持合适的距离可有效提高探头对裂纹的检测深度。试验表明，在本发明中将双探头的间隙距离设置为S=(1.4-2)×Ro，可检测到的裂纹缺陷其深度可达到21mm左右。
4、采用本发明的双频激励圆形涡流探头，检测效率高，可避免探头分辨率低、灵敏度下降、检测速度低等问题。
5、采用本发明的双频激励圆形涡流探头，解决了现有技术中存在以下问题：试件表面涡流集肤效应影响深裂纹缺陷检测的问题；试件内部检测信号过小，检测不到内部缺陷的问题；涡流渗透深度小，涡流探头对深裂纹的检测能力低的问题。
附图说明
图1为双频激励探头装配图；
图2为双频激励探头检测方案原理图；
图3为双频激励探头在5kHz、20kHz两种激励频率组合时涡流密度变化曲线；
图4为单频激励探头在5kHz、20kHz两种激励频率分别激励时涡流密度变化曲线；
图5为双频激励探头在30kHz、80kHz两种激励频率组合时涡流密度变化曲线；
图6为单频激励探头在30kHz、80kHz 两种激励频率分别激励时的涡流密度变化曲线。
图中零部件、部位及编号：1-为激励线圈；2-为激励线圈安装立柱；3-为检测线圈；4-为检测线圈安装立柱；5-为立柱固定板；6-为扫查部件连接件；7-为连接板；8-安装孔；9-为电流源；10-为滤波器；11-为放大器；12-为示波器；13-为试件；14-为扫查路径；15-为裂纹。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的技术方案进行详细说明，但本发明的内容并不局限于此。
实施例1：
如图1所示，一种检测厚壁深裂纹缺陷的双频激励圆形涡流探头，其特征在于：包括激励探头组件、检测探头组件和固定架；所述激励探头组件有两组，以检测探头组件为中心，呈左右对称分布；所述激励探头组件每组由1个激励线圈1和1个对应的激励线圈安装立柱2组成，所述激励线圈1套在激励线圈安装立柱2上；所述检测探头组件由检测线圈3和检测线圈安装立柱4组成，所述检测线圈3套在检测线圈安装立柱4上；所述固定架由立柱固定板5和扫查部件连接件6组成，所述立柱固定板5与扫查部件连接件6固定连接；所述激励线圈安装立柱2底端和所述检测线圈安装立柱4底端安装在立柱固定板5上。
所述双频激励圆形涡流探头整体通过所述扫查部件连接件6与扫查部件可拆卸安装。
所述检测探头组件有一组，由1个检测线圈3和1个对应的检测线圈安装立柱4组成。
所述激励线圈1与所述检测线圈3均为圆形涡流线圈。
所述激励线圈1及对应的激励线圈安装立柱2的直径分别大于所述检测线圈3及对应的检测线圈安装立柱4的直径。
所述激励线圈1采用正弦双频率交流电流激励。
所述激励线圈1完全套在激励线圈安装立柱2上，其顶端面与激励线圈安装立柱2顶端面保持在同一平面内，以保持激励线圈1在检测过程中固定的相对位置关系；
所述检测线圈3完全套在检测线圈安装立柱4上，其顶端面与检测线圈安装立柱4顶端面保持在同一平面内，以保持检测线圈3在检测过程中固定的相对位置关系。
所述扫查部件连接件6为连接板7，所述连接板7上设置有安装孔8，所述连接板7通过安装孔8将所述双频激励圆形涡流探头整体安装在扫查部件上。
所述安装孔8有2个，对称分布于连接板7左右两侧。
所述激励线圈安装立柱2、检测线圈安装立柱4和固定架均由PVC材料制成。
所述激励线圈1和检测线圈3均由漆包线绕制而成。
所述两组激励线圈1之间的间隙距离S=(1.4-2)×Ro，Ro为激励线圈的外半径。
所述两组激励线圈1中，频率较高的一侧激励线圈1选配较小的激励电流，频率较低的一侧选配较大的激励电流，每个激励线圈1中电流大小保持在向其中通入的激励频率的0.5-0.7倍。
由实施例1所得双频激励探头组件的装配图，见图1。
实施例2：
如图2所示，在实施例1 的基础上，一种用双频激励圆形涡流检测探头对厚壁深裂纹缺陷进行检测的方法，其特征在于：包括如下步骤：
S1. 通过同步交流电源9，向两组激励线圈1持续通入频率和大小不同的稳态正弦激励电流，该正弦激励电流在金属平板试件13中产生涡流场；
S2. 通过扫查控制台，使检测探头组件在试件13表面进行C扫，缺陷处的涡流场受到缺陷的扰动，通过扰动磁场将缺陷信息反馈到检测线圈3中；
S3. 将检测线圈3中的检测信号输入到滤波器10中，利用滤波器10过滤除去其中的高频噪声；
S4. 将过滤除去高频噪声的检测信号输入到放大器11中，通过放大器11将微弱的检测信号放大，输出到示波器12；
S5. 将试件13缺陷信号在示波器12上实时显示出来，发现缺陷，通过标准试件的标定曲线，利用ansys软件，通过有限元分析计算出该缺陷的实际深度。
实施例3：
为验证双频激励圆形涡流检测探头对厚壁深裂纹缺陷进行检测时的渗透深度优于相应单频率激励探头，在实施例2的基础上，用5kHz、20kHz两种激励频率，进行单频率激励涡流探头和双频率激励涡流探头的渗透深度对比实验。
1. 采用双频激励圆形涡流检测探头进行实验时，向位于检测线圈3左侧的激励线圈1中输入5kHz、1.3A的电流，向位于检测线圈3右侧的激励线圈1中输入20kHz、0.7A的电流；双频率激励涡流探头的配置参数、检测方法及结果具体如下：
1）配置参数
①两组激励线圈1基本尺寸：外半径Ro =12mm，内半径Ri =9mm，高度H=6mm；
②两组激励线圈1的激励频率分别为：f left =5kHz和 f right =20kHz
③两组激励线圈1中的激励电流大小分别为：I left =1.3A和I right =0.7A
④两组激励线圈1之间的距离：S=16mm
2）检测方法：
如图2所示，按照实施例2中的方法，进行检测；
3）检测结果：
由实施例3所得双频激励圆形涡流探头在5kHz、20kHz两种激励频率组合时的涡流密度变化曲线，见图3，由图3中曲线可计算得出，使用5kHz和20kHz激励频率组合时，渗透深度可以达到21.28mm。
2. 在实施例1和2的基础上，只安装一组激励线圈1，使用单频率激励涡流探头进行实验。采用单频激励圆形涡流检测探头进行实验时，依次向激励线圈1中输入5kHz、0.7A的电流和20kHz、0.7A的电流；所用激励线圈1基本尺寸、检测方法及结果具体如下：
1）激励线圈1基本尺寸：外半径Ro =12mm，内半径Ri =9mm，高度H=6mm；
2）检测方法及结果：
①向激励线圈1中输入频率f 1 =5kHz、电流I 1 =0.7A的稳态正弦激励电流，采用与安装两组激励线圈1时相同的方法进行实验；所得单频激励圆形涡流探头在5kHz激励频率激励时涡流密度变化曲线，见图4；由图4中曲线可计算得出，5kHz单频率激励时的渗透深度为13.7mm；
②向激励线圈1中输入频率f 2 =20kHz、电流I 2 =0.7A的稳态正弦激励电流，采用与安装两组激励线圈1时相同的方法进行实验；所得单频激励圆形涡流探头在20kHz激励频率激励时涡流密度变化曲线，见图4。由图4中曲线可计算得出，20kHz单频率激励时的渗透深度为10.08mm。
3. 双频激励与单频激励检测结果对比：
双频激励圆形涡流探头在5kHz和20kHz激励频率组合时的渗透深度和单频激励圆形涡流探头在5kHz和20kHz两种激励频率分别激励时所得的渗透深度的对比，见表1：
由以上结果可知，使用双频率激励涡流探头在5kHz和20kHz激励频率组合时，渗透深度可达21.28mm，大于相应单频率分别激励所得渗透深度。
实施例4：
为进一步验证双频激励圆形涡流检测探头对厚壁深裂纹缺陷进行检测时的渗透深度优于相应单频率激励探头，在实施例2的基础上，进一步用30kHz、80kHz两种激励频率，进行单频率激励涡流探头和双频率激励涡流探头的渗透深度对比实验。
1. 采用双频激励圆形涡流检测探头进行实验时，向位于检测线圈3左侧的激励线圈1中输入30kHz、1.3A的电流，向位于检测线圈3右侧的激励线圈1中输入80kHz、0.7A的电流；双频率激励涡流探头的配置参数、检测方法及结果具体如下：
1）配置参数：
①两组激励线圈1基本尺寸：外半径Ro =12mm，内半径Ri =9mm，高度H=6mm；
②两组激励线圈1的激励频率分别为：f left =30kHz和 f right =80kHz
③两组激励线圈1中的激励电流大小分别为：I left =1.3A和I right =0.7A
④两组激励线圈1之间的距离：S=16mm
2）检测方法：
如图2所示，按照实施例2中的方法，进行检测；
3）检测结果：
由实施例4所得双频激励圆形涡流探头在30kHz、80kHz两种激励频率组合时的涡流密度变化曲线，见图5，由图5中曲线可计算得出，使用30kHz和80kHz激励频率组合时，渗透深度可以达到13.87mm。
2. 在实施例1和2的基础上，只安装一组激励线圈1，使用单频率激励涡流探头进行实验。采用单频激励圆形涡流检测探头进行实验时，依次向激励线圈1中输入30kHz、0.7A的电流和80kHz、0.7A的电流；所用激励线圈1基本尺寸、检测方法及结果具体如下：
1）激励线圈1基本尺寸：外半径Ro =12mm，内半径Ri =9mm，高度H=6mm；
2）检测方法及结果：
①向激励线圈1中输入f 1 =30kHz、I 1 =0.7A的稳态正弦激励电流，采用与安装两组激励线圈1时相同的方法进行实验；所得单频激励圆形涡流探头在30kHz激励频率激励时涡流密度变化曲线，见图6。由图6中曲线可计算得出，30kHz单频率激励时的渗透深度为8.663mm；
②向激励线圈1中输入f 2 =80kHz、I 2 =0.7A的稳态正弦激励电流，采用与安装两组激励线圈1时相同的方法进行实验；所得单频激励圆形涡流探头在80kHz激励频率激励时涡流密度变化曲线，见图6。由图6中曲线可计算得出，80kHz单频率激励时的渗透深度为6.447mm。
3. 双频激励与单频激励检测结果对比：
双频激励圆形涡流探头在30kHz和80kHz激励频率组合时的渗透深度和单频激励圆形涡流探头在30kHz和80kHz两种激励频率分别激励时所得的渗透深度的对比，见表2：
由以上结果可知，使用双频率激励涡流探头在30kHz和80kHz激励频率组合时，渗透深度可达13.87mm，达到相应单频激励探头所得渗透深度的1.6倍以上。
以上所述，仅是本发明的较佳实施例，并非用以限制本发明的权利范围。任何以本申请专利范围所涵盖的权利范围实施的技术方案，或者任何熟悉本领域的技术人员，利用上述揭示的方法内容做出许多可能的变动和修饰的方案，均属于本发明的保护范围。
Claims (10)
1.一种检测厚壁深裂纹缺陷的双频激励圆形涡流探头，其特征在于：包括激励探头组件、检测探头组件和固定架；所述激励探头组件有两组，以检测探头组件为中心，呈左右对称分布；所述激励探头组件每组由1个激励线圈(1)和1个对应的激励线圈安装立柱(2)组成，所述激励线圈(1)套在激励线圈安装立柱(2)上；所述检测探头组件由检测线圈(3)和检测线圈安装立柱(4)组成，所述检测线圈(3)套在检测线圈安装立柱(4)上；所述固定架由立柱固定板(5)和扫查部件连接件(6)组成，所述立柱固定板(5)与扫查部件连接件(6)固定连接；所述激励线圈安装立柱(2)底端和所述检测线圈安装立柱(4)底端安装在立柱固定板(5)上。
2.如权利要求1所述的一种检测厚壁深裂纹缺陷的双频激励圆形涡流探头，其特征在于：所述双频激励圆形涡流探头整体通过所述扫查部件连接件(6)与扫查部件可拆卸安装。
3.如权利要求1所述的一种检测厚壁深裂纹缺陷的双频激励圆形涡流探头，其特征在于：所述检测探头组件有一组，由1个检测线圈(3)和1个对应的检测线圈安装立柱(4)组成。
4.如权利要求1所述的一种检测厚壁深裂纹缺陷的双频激励圆形涡流探头，其特征在于：所述激励线圈(1)与所述检测线圈(3)均为圆形涡流线圈；所述激励线圈(1)及对应的激励线圈安装立柱(2)的直径分别大于所述检测线圈(3)及对应的检测线圈安装立柱(4)的直径；
所述激励线圈(1)采用正弦双频率交流电流激励。
5.如权利要求1所述的一种检测厚壁深裂纹缺陷的双频激励圆形涡流探头，其特征在于：所述激励线圈(1)完全套在激励线圈安装立柱(2)上，其顶端面与激励线圈安装立柱(2)顶端面保持在同一平面内，以保持激励线圈(1)在检测过程中固定的相对位置关系；
所述检测线圈(3)完全套在检测线圈安装立柱(4)上，其顶端面与检测线圈安装立柱(4)顶端面保持在同一平面内，以保持检测线圈(3)在检测过程中固定的相对位置关系。
6.如权利要求1所述的一种检测厚壁深裂纹缺陷的双频激励圆形涡流探头，其特征在于：所述扫查部件连接件(6)为连接板(7)，所述连接板(7)上设置有安装孔(8)，所述连接板(7)通过安装孔(8)将所述双频激励圆形涡流探头整体安装在扫查部件上。
7.如权利要求6所述的一种检测厚壁深裂纹缺陷的双频激励圆形涡流探头，其特征在于：所述安装孔(8)有多个，对称分布于连接板(7)上。
8.如权利要求1所述的一种检测厚壁深裂纹缺陷的双频激励圆形涡流探头，其特征在于：所述激励线圈安装立柱(2)、检测线圈安装立柱(4)和固定架均由PVC材料制成；
所述激励线圈(1)和检测线圈(3)均由漆包线绕制而成。
9.如权利要求1所述的一种检测厚壁深裂纹缺陷的双频激励圆形涡流探头，其特征在于：两组激励线圈(1)之间的间隙距离S=(1.4-2)×Ro，Ro为激励线圈的外半径。
10.如权利要求9所述的一种检测厚壁深裂纹缺陷的双频激励圆形涡流探头，其特征在于：两组激励线圈(1)之间的间隙距离S=16mm。
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Cited By (1)
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|---|---|---|---|---|
| CN108344798A (zh) * | 2018-04-20 | 2018-07-31 | 北方民族大学 | 一种检测厚壁深裂纹缺陷的双频激励圆形涡流探头及方法 |
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2018
- 2018-04-20 CN CN201820570011.7U patent/CN208076453U/zh active Active
Cited By (2)
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| CN108344798A (zh) * | 2018-04-20 | 2018-07-31 | 北方民族大学 | 一种检测厚壁深裂纹缺陷的双频激励圆形涡流探头及方法 |
| CN108344798B (zh) * | 2018-04-20 | 2024-01-26 | 北方民族大学 | 一种检测厚壁深裂纹缺陷的双频激励圆形涡流探头及方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |