CN207608617U - 一种金刚石薄膜真空沉积炉装置 - Google Patents

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Abstract

一种金刚石薄膜真空沉积炉装置,包括底座、炉体、上盖、沉积台总成和等离子发生器,所述的底座设置在底部,炉体设置在底座的上部,上盖设置在炉体的上部,沉积台总成设置在底座的中心上部,等离子发生器设置在上盖的中心下部;所述的炉体为圆筒结构,炉体的上下贯通,炉体为双层结构,在内层和外层之间设置有炉体水道,内层的内侧为炉体内腔,炉体的侧面设置有炉口,炉口外侧设置有炉门座;通过本实用新型的实施,达到了良好的使用效果:金刚石薄膜真空沉积炉装置有效的克服了传统的炉体温度过高的问题,极大的提高了炉体的稳定性,减少了废品的产生,并且避免了温度过高对炉体的损坏,提高了生产安全,给企业带来更高的效益。

Description

一种金刚石薄膜真空沉积炉装置
技术领域
本实用新型涉及人造金刚石领域,主要涉及一种金刚石薄膜真空沉积炉装置。
背景技术
在机械工业制造和光学应用领域 ,经常会使用到金刚石,由于天然金刚石的价格非常高,而且力学性能差,实际应用非常有限,但是随着人造金刚石的产生,使金刚石在生产生活中的应用越来越多,人造金刚石的价格合理,使用方便,力学性能超过天然金刚石,所以受到了工业多领域的关注,在人造金刚石的制造工艺中,应用最广泛的是气相沉积法制造金刚石薄膜的制造工艺,由于在制造中产生了大量的高温,所以使用的真空沉积炉的散热就非常重要,如果温度过高就会对真空沉积炉体和产品质量产生重大影响,现有的真空沉积炉普遍存在散热不好的问题,因此需要一种高效的真空沉积炉来解决现有的散热不好的问题。
发明内容
本实用新型的目的是提出了一种金刚石薄膜真空沉积炉装置 ,用于解决现有的现有的真空沉积炉普遍存在散热不好造成金刚石薄膜质量差的问题。
本实用新型的目的可以采用以下的技术方案实现:
一种金刚石薄膜真空沉积炉装置,包括底座、炉体、上盖、沉积台总成和等离子发生器,所述的底座设置在底部,炉体设置在底座的上部,上盖设置在炉体的上部,沉积台总成设置在底座的中心上部,等离子发生器设置在上盖的中心下部;所述的炉体为圆筒结构,炉体的上下贯通,炉体为双层结构,在内层和外层之间设置有炉体水道,内层的内侧为炉体内腔,炉体的侧面设置有炉口,炉口外侧设置有炉门座,炉门座的座体内设置有冷却水道与炉体水道连通,炉门座外侧设置有炉门,炉体的上部端面外侧设置有上连接法兰,上连接法兰上面外侧圆周上设置有上密封圈,炉体的下部端面外侧上设置有下连接法兰,下连接法兰下面外侧圆周上设置有下密封圈,上连接法兰和下连接法兰上均设置有连接螺纹孔,炉体外层上设置有炉体进水管和炉体出水管,炉体进水管的下部设置有真空抽取管,真空抽取管与炉体内腔连通。
所述的上盖上部为圆盘结构,下部为圆柱体结构,上盖的上部圆周外侧均匀设置有通孔,通孔内设置有上盖连接螺栓,上盖连接螺栓的位置与炉体上部的连接螺纹孔对应连接,上盖下部的圆柱体直径小于炉体内腔直径,上盖的中心设置有安装孔,上盖的内部设置有环形的上盖水道,上盖的安装孔两侧设置有上盖进水管和上盖出水管与上盖水道连通。
所述的底座为圆柱体结构,底座内部为中空的底座水道,底座的上面外侧设置有底座法兰,底座法兰上均匀设置有通孔,通孔内设置有底座连接螺栓,底座连接螺栓的位置与炉体上部的连接螺纹孔位置对应连接,底座的中心轴位置设置有上下贯通的套管,套管下部的底座下面上设置有旋转密封环,底座的外侧面上设置有底座进水管和底座出水管与底座水道连通。
通过本实用新型的实施,达到了良好的使用效果:金刚石薄膜真空沉积炉装置有效的克服了传统的炉体温度过高的问题,极大的提高了炉体的稳定性,减少了废品的产生,并且避免了温度过高对炉体的损坏,提高了生产安全,给企业带来更高的效益。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图。
图中:1、底座,1.1、底座水道,2、底座进水管, 3、炉体,3.1、炉体水道,4、真空抽取管, 5、炉体进水管,6、上盖,6.1、上盖水道,7、上盖进水管,8、安装孔,9、等离子发生器,10、上盖出水管,11、上盖连接螺栓,12、上密封圈,13、炉门,14、炉门座,15、炉体出水管,16、下密封圈,17、底座连接螺栓,18、底座出水管,19、套管,20、旋转密封环,21、沉积台总成。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型进一步描述:
如图1所示的一种金刚石薄膜真空沉积炉装置,包括底座1、炉体3、上盖6、沉积台总成21和等离子发生器9;所述的炉体3设置在底座1的上部,炉体3为圆筒结构,炉体3的上下贯通,炉体3为双层结构,在内层和外层之间设置有炉体水道3.1,内层的内侧为炉体内腔22,炉体3的侧面设置有炉口,炉口外侧设置有炉门座14,炉门座14的座体内设置有冷却水道与炉体水道3.1连通,炉门座14外侧设置有炉门13,炉体3的上部端面外侧设置有上连接法兰,上连接法兰上面外侧圆周上设置有上密封圈12,炉体3的下部端面外侧上设置有下连接法兰,下连接法兰下面外侧圆周上设置有下密封圈16,上连接法兰和下连接法兰上均设置有连接螺纹孔,炉体3外层上设置有炉体进水管5和炉体出水管15,炉体进水管5的下部设置有真空抽取管4,真空抽取管4与炉体内腔22连通;所述的底座1设置在底部,底座1为圆柱体结构,底座1内部为中空的底座水道1.1,底座1的上面外侧设置有底座法兰,底座法兰上均匀设置有通孔,通孔内设置有底座连接螺栓17,底座连接螺栓17的位置与炉体3上部的连接螺纹孔位置对应连接,底座3的中心轴位置设置有上下贯通的套管19,套管19下部的底座下面上设置有旋转密封环20,底座3的外侧面上设置有底座进水管2和底座出水管18与底座水道1.1连通;所述的上盖6设置在炉体3的上部,上盖6上部为圆盘结构,下部为圆柱体结构,上盖6的上部圆周外侧均匀设置有通孔,通孔内设置有上盖连接螺栓11,上盖连接螺栓11的位置与炉体3上部的连接螺纹孔对应连接,上盖6下部的圆柱体直径小于炉体内腔22直径,上盖6的中心设置有安装孔8,上盖6的内部设置有环形的上盖水道6.1,上盖6的安装孔8两侧设置有上盖进水管7和上盖出水管10与上盖水道6.1连通;所述的沉积台总成21设置在底座的中心上部;所述的等离子发生器9设置在上盖6的中心安装孔8内。
在使用时,首先关闭炉门13,把真空抽取管4与真空泵连接,冷却装置与上盖6、炉体3和底座1上的进水管和出水管连接,之后抽取炉体内腔22中的空气,使炉体内腔22成真空状态,启动等离子发生器9,给等离子发生器9供应所需的沉积原料气体,启动冷却装置给各水道循环供应冷却水对整个装置冷却,随着时间的变化,最终在沉积台面上沉积形成金刚石薄膜,完成金刚石薄膜的制造过程。
本实用新型未详述部分为现有技术。

Claims (3)

1.一种金刚石薄膜真空沉积炉装置,其特征是:包括底座、炉体、上盖、沉积台总成和等离子发生器,所述的底座设置在底部,炉体设置在底座的上部,上盖设置在炉体的上部,沉积台总成设置在底座的中心上部,等离子发生器设置在上盖的中心下部;所述的炉体为圆筒结构,炉体的上下贯通,炉体为双层结构,在内层和外层之间设置有炉体水道,内层的内侧为炉体内腔,炉体的侧面设置有炉口,炉口外侧设置有炉门座,炉门座的座体内设置有冷却水道与炉体水道连通,炉门座外侧设置有炉门,炉体的上部端面外侧设置有上连接法兰,上连接法兰上面外侧圆周上设置有上密封圈,炉体的下部端面外侧上设置有下连接法兰,下连接法兰下面外侧圆周上设置有下密封圈,上连接法兰和下连接法兰上均设置有连接螺纹孔,炉体外层上设置有炉体进水管和炉体出水管,炉体进水管的下部设置有真空抽取管,真空抽取管与炉体内腔连通。
2.根据权利要求1所述的一种金刚石薄膜真空沉积炉装置,其特征是:所述的上盖上部为圆盘结构,下部为圆柱体结构,上盖的上部圆周外侧均匀设置有通孔,通孔内设置有上盖连接螺栓,上盖连接螺栓的位置与炉体上部的连接螺纹孔对应连接,上盖下部的圆柱体直径小于炉体内腔直径,上盖的中心设置有安装孔,上盖的内部设置有环形的上盖水道,上盖的安装孔两侧设置有上盖进水管和上盖出水管与上盖水道连通。
3.根据权利要求1所述的一种金刚石薄膜真空沉积炉装置,其特征是:所述的底座为圆柱体结构,底座内部为中空的底座水道,底座的上面外侧设置有底座法兰,底座法兰上均匀设置有通孔,通孔内设置有底座连接螺栓,底座连接螺栓的位置与炉体上部的连接螺纹孔位置对应连接,底座的中心轴位置设置有上下贯通的套管,套管下部的底座下面上设置有旋转密封环,底座的外侧面上设置有底座进水管和底座出水管与底座水道连通。
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