CN207313821U - 一种立体双面提花带 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种立体双面提花带，包括本体(1)，本体(1)由提花经纱和地组织组成，地组织由地经和地纬组成，提花经纱通过与地组织织造同时在地组织正面和反面形成正面提花组织和反面提花组织，本体的上下表面设有透明耐磨涂层(2)，地组织采用平纹组织，地经为390D的尼龙长丝，地纬为200D的尼龙长丝，提花经纱采用390D的长绒棉纱线，该提花带的经密为70根/cm，纬密为18.2根/cm。与现有技术相比，本实用新型具有抗拉强度高，图案质感和耐用性好等优点。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种提花带，尤其是涉及一种立体双面提花带。
背景技术
着人们生活水平的提高，对各种生活用品的需求也越来越多样化，对于织带产品有着更好的品质和功能性的要求，体现在产品的图案的选择上。提花织带质地柔软、细腻、爽滑的独特质感，光泽度好，悬垂性及透气性好，色牢度高(纱线染色)。通过织造实现的图案变化比依靠印花所获得的图案更饱满和环保。但是目前的提花带普遍存在图案质感差、不耐用的问题。
发明内容
本实用新型的目的就是为了克服上述现有技术存在的缺陷而提供一种立体双面提花带。
本实用新型的目的可以通过以下技术方案来实现：
一种立体双面提花带，包括本体，所述的本体由提花经纱和地组织组成，所述的地组织由地经和地纬组成，提花经纱通过与地组织织造同时在地组织正面和反面形成正面提花组织和反面提花组织，本体的上下表面设有透明耐磨涂层，所述的地组织采用平纹组织，地经为390D的尼龙长丝，地纬为200D的尼龙长丝，提花经纱采用390D的长绒棉纱线，该提花带的经密为70根/cm，纬密为18.2根/cm。
优选地，正面提花组织为五高一低斜纹组织，反面提花组织为一高五低斜纹组织。
优选地，所述的提花经纱和地经按照2:1的方式排列。
优选地，所述的透明耐磨涂层采用通过喷涂形成的不连续的有机硅透明耐磨涂层。
优选地，所述的有机硅透明耐磨涂层的厚度为0.01～0.05mm。
优选地，所述的透明耐磨涂层内均匀分布有纳米银颗粒，所述的纳米银颗粒的粒径为100～200nm。
与现有技术相比，本实用新型具有以下有益效果：
通过不同织物组织的配合，提花经纱按照设计的图案，在织带的正反两面形成凸起的立体图案。
本实用新型通过设定低纬密，采用较细的纬线，降低织带的厚度，减少经纱的屈曲度，提高经纱的取向度，提高织带的断裂强力，降低织带的收缩。
提花经纱采用长绒棉纱线能够很好的凸显提花图案的质感。通过有机硅透明耐磨涂层的使用，能够很好的起到耐磨和保持图案质感的作用，使织造获得的图案使用效果更耐久，有机硅透明耐磨涂层中的纳米银颗粒不但能够起到抗菌的作用，而且在能够通过反光，给予提花带一种美轮美奂的光影效果。采用通过喷涂形成的不连续的有机硅透明耐磨涂层，保证了提花带的弯曲性能，同时也起到很好的透气效果，接触人体使用时，舒适性高。
附图说明
图1为本实用新型的剖面结构示意图；
图2为本实用新型的地组织示意图；
图3为本实用新型的正面提花组织示意图；
图4为本实用新型的反面提花组织示意图。
图中，1为本体，2为透明耐磨涂层，3为纳米银颗粒，X为经组织点，O为纬组织点。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本实用新型进行详细说明。
实施例1
一种立体双面提花带，如图1～4所示，包括本体1，本体1由提花经纱和地组织组成，地组织由地经和地纬组成，提花经纱通过与地组织织造同时在地组织正面和反面形成正面提花组织和反面提花组织，地组织采用平纹组织，正面提花组织为五高一低斜纹组织，反面提花组织为一高五低斜纹组织，经组织点X和纬组织点O的排列见图2～4。地经为390D的尼龙长丝，地纬为200D的尼龙长丝，提花经纱采用390D的长绒棉纱线，该提花带的经密为70根/cm，纬密为18.2根/cm。提花经纱和地经按照2:1的方式排列。本体的上下表面设有透明耐磨涂层2，该透明耐磨涂层2采用通过喷涂形成的不连续的有机硅透明耐磨涂层，厚度根据需要选择0.01～0.05mm范围，并且，本实施例中的透明耐磨涂层2内均匀分布有纳米银颗粒，纳米银颗粒的粒径根据需要选用100～200nm范围。
Claims (6)
1.一种立体双面提花带，其特征在于，包括本体(1)，所述的本体(1)由提花经纱和地组织组成，所述的地组织由地经和地纬组成，提花经纱通过与地组织织造同时在地组织正面和反面形成正面提花组织和反面提花组织，本体的上下表面设有透明耐磨涂层(2)，所述的地组织采用平纹组织，地经为390D的尼龙长丝，地纬为200D的尼龙长丝，提花经纱采用390D的长绒棉纱线，该提花带的经密为70根/cm，纬密为18.2根/cm。
2.根据权利要求1所述的一种立体双面提花带，其特征在于，正面提花组织为五高一低斜纹组织，反面提花组织为一高五低斜纹组织。
3.根据权利要求1所述的一种立体双面提花带，其特征在于，所述的提花经纱和地经按照2:1的方式排列。
4.根据权利要求1所述的一种立体双面提花带，其特征在于，所述的透明耐磨涂层(2)采用通过喷涂形成的不连续的有机硅透明耐磨涂层。
5.根据权利要求4所述的一种立体双面提花带，其特征在于，所述的有机硅透明耐磨涂层的厚度为0.01～0.05mm。
6.根据权利要求5所述的一种立体双面提花带，其特征在于，所述的透明耐磨涂层(2)内均匀分布有纳米银颗粒，所述的纳米银颗粒的粒径为100～200nm。
Priority Applications (1)
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| CN201720997635.2U CN207313821U (zh) | 2017-08-10 | 2017-08-10 | 一种立体双面提花带 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
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Family
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Family Applications (1)
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Country Status (1)
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2017
- 2017-08-10 CN CN201720997635.2U patent/CN207313821U/zh active Active
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