CN207176666U - 一种排水洞结构 - Google Patents

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杨鹏
贺双喜
张高
韩纯杰
陈娟
高勇
王海燕
王志鹏
祁伟强
曹畑
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Abstract

本实用新型提供了一种排水洞结构,包括洞体;所述洞体的下方设有基底,基底的上方设有衬砌,在基底的两侧设有集中排水沟,衬砌的两端下方设有底部排水孔;所述衬砌的外侧依次设有排水盲材、土工膜、支护层,土工膜、支护层构成一个整体。本实用新型增加排水盲材及土工膜设计,在不大范围改变原有廊道施工工序的前提下,很好的解决了排水洞顶部渗水漫流,形成“水帘洞”给排水洞内检修及施工带来不便的问题,有这良好的经济效益。

Description

一种排水洞结构
技术领域
本实用新型涉及一种排水洞结构,属于水利工程中的排水工程领域。
背景技术
在水利水电工程中,排水洞广泛应用于工程的各个部位,可作为调压井、引水隧洞、压力钢管、地下厂房的排水措施,有效的降低地下水工建筑物的外水压力。大多数排水洞在设计时,主要考虑发挥其排水效果,在排水洞周围打设排水孔,在运行过程中,排水沿排水孔流出,洞内经常呈“水帘洞”状态,如果进入检修及其他需要时,顶部渗水会带来极大的不便。
实用新型内容
为解决上述技术问题,本实用新型提供了一种排水洞结构,该排水洞结构采用新的结构形式,在不增加工程投资及影响工程进度的前提下,解决排水洞“水帘洞”的状态。
本实用新型通过以下技术方案得以实现。
本实用新型提供的一种排水洞结构,包括洞体;所述洞体的下方设有基底,基底的上方设有衬砌,在基底的两侧设有集中排水沟,衬砌的两端下方设有底部排水孔;所述衬砌的外侧依次设有排水盲材、土工膜、支护层,土工膜、支护层构成一个整体。
所述集中排水沟和底部排水孔相邻。
所述支护层的外侧和集中排水沟的底部还设有辐射排水孔,辐射排水孔与排水盲材连通。
所述辐射排水孔沿支护层的轴线方向均匀设置。
所述辐射排水孔内填充有排水盲材。
所述辐射排水孔的孔径不大于50mm。
所述土工膜的厚度不超过1mm。
本实用新型的有益效果在于:增加排水盲材及土工膜设计,在不大范围改变原有廊道施工工序的前提下,很好的解决了排水洞顶部渗水漫流,形成“水帘洞”给排水洞内检修及施工带来不便的问题,有这良好的经济效益。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图;
图中:1-洞体,2-基底,3-衬砌,4-集中排水沟,5-底部排水孔,6-排水盲材,7-土工膜,8-支护层,9-辐射排水孔。
具体实施方式
下面进一步描述本实用新型的技术方案,但要求保护的范围并不局限于所述。
如图1所示,一种排水洞结构,包括洞体1;所述洞体1的下方设有基底2,基底2的上方设有衬砌3,在基底2的两侧设有集中排水沟4,衬砌3的两端下方设有底部排水孔5,衬砌3的厚度根据排水洞洞径及周边围岩情况进行计算,也可以不进行衬砌3;所述衬砌3的外侧依次设有排水盲材6、土工膜7、支护层8,土工膜7、支护层8构成一个整体,所述土工膜7拥有超低渗透性,能确保顶拱排水孔引流水沿环向排水盲材6流出,避免在顶拱流下,形成“水帘洞”,土工膜7可采用临时土钉固定;所述支护层8对土工膜7进行稳固。
进一步地,所述集中排水沟4和底部排水孔5相邻,可将环向排水盲材引6流的渗流水引流至集中排水沟4;所述支护层8的外侧和集中排水沟4的底部还设有辐射排水孔9,辐射排水孔9与排水盲材6连通;所述辐射排水孔9沿支护层8的轴线方向均匀设置,让辐射排水孔9引流的渗流水沿排水盲材6引流至排水的集中排水沟4;所述辐射排水孔9内填充有排水盲材6,可根据地质情况确定是否在孔内填充排水盲材6;所述辐射排水孔9的孔径不大于50mm;所述土工膜7的厚度不超过1mm。
本实用新型在排水洞开挖完成后,立即进行排水盲材6,土工膜7的布置,土工膜7采用土钉等方式进行临时固定,然后进行一次支护8喷混凝土施工,对土工膜7进行永久固定,不需要增加专门的措施进行土工膜7锚固,同时土工膜7铺设很快,不会影响整体支护8的进度,因为排水洞受外水压力极小,主要为渗漏水,土工膜7的厚度不宜超过1mm,便于土工膜7施工,并控制工程投资,随后进行二次衬砌混8凝土施工,并在底部制作集中排水沟4,用来处理及收集因施工等因素造成的局部渗漏,同时可在集中排水沟4底部设置辐射排水孔9,降低排水洞外水压力。

Claims (7)

1.一种排水洞结构,包括洞体(1),其特征在于:所述洞体(1)的下方设有基底(2),基底(2)的上方设有衬砌(3),在基底(2)的两侧设有集中排水沟(4),衬砌(3)的两端下方设有底部排水孔(5);所述衬砌(3)的外侧依次设有排水盲材(6)、土工膜(7)、支护层(8),土工膜(7)、支护层(8)构成一个整体。
2.如权利要求1所述的排水洞结构,其特征在于:所述集中排水沟(4)和底部排水孔(5)相邻。
3.如权利要求1所述的排水洞结构,其特征在于:所述支护层(8)的外侧和集中排水沟(4)的底部还设有辐射排水孔(9),辐射排水孔(9)与排水盲材(6)连通。
4.如权利要求3所述的排水洞结构,其特征在于:所述辐射排水孔(9)沿支护层(8)的轴线方向均匀设置。
5.如权利要求4所述的排水洞结构,其特征在于:所述辐射排水孔(9)内填充有排水盲材(6)。
6.如权利要求5所述的排水洞结构,其特征在于:所述辐射排水孔(9)的孔径不大于50mm。
7.如权利要求1所述的排水洞结构,其特征在于:所述土工膜(7)的厚度不超过1mm。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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