CN207072967U - 一种真空镀膜装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种真空镀膜装置，包括真空室、第一镀膜锅、第二镀膜锅和离子束发生器，所述真空室的一侧连接有控制面板，所述真空室的底部卡接有底座，所述底座的底端固定卡接有支撑脚，所述真空室的内部底端设有第一镀膜锅，所述第一镀膜锅的底端一侧设有缓冲垫，所述真空室的顶部设有联轴器，所述联轴器的一端传动连接有活塞杆，所述联轴器的另一端连接有驱动气缸。本实用新型结构合理，使用简单，通过将镀膜装置设计为开口锅状，分别为第一镀膜锅和第二镀膜锅，在第二镀膜锅的一端连接有转轴，在转轴的一端连接有活塞杆,活塞杆和转轴使得第二镀膜锅慢慢的转动，从而增加了真空镀膜的效率和质量。

Description

一种真空镀膜装置

技术领域

本实用新型涉及镀膜技术领域，特别涉及一种真空镀膜装置。

背景技术

一种由物理方法产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。在进行真空镀膜的过程中，通常将待镀膜的基片放入真空室内，并由安装在基片承载部上的夹具对基片进行夹持，由离子源对置放在镀膜材料置放部的镀膜材料进行轰击，使镀膜材料溅射并均匀沉积在基片表面，在长期进行镀膜材料的轰击，会在夹具上堆积较多的镀膜材料，就会造成镀膜材料的浪费，增加生产的成本。

实用新型内容

本实用新型提出了一种真空镀膜装置，解决了现有镀膜装置使用效果差等问题。

为了解决上述技术问题，本实用新型提供了如下的技术方案：

本实用新型一种真空镀膜装置，包括真空室、第一镀膜锅、第二镀膜锅和离子束发生器，所述真空室的一侧连接有控制面板，所述真空室的底部卡接有底座，所述底座的底端固定卡接有支撑脚，所述真空室的内部底端设有第一镀膜锅，所述第一镀膜锅的底端一侧设有缓冲垫，所述真空室的顶部设有联轴器，所述联轴器的一端传动连接有活塞杆，所述活塞杆的一端连接有驱动气缸，所述活塞杆的下端卡接有转轴，所述转轴的下端卡接有第二镀膜锅，所述第二镀膜锅的内部底侧安装有卡爪安装盘，所述卡爪安装盘的底侧卡接有卡爪，所述第一镀膜锅的内部底端设有离子束发生器，所述离子束发生器的一侧安装有镀膜料放置腔，所述镀膜料放置腔的一侧设有镀膜喷头，所述第一镀膜锅的一侧安装有电控盒，所述镀膜喷头的一侧开有镀膜喷孔，所述离子束发生器与电控盒电性连接。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述控制面板的表面设有液晶显示屏、电源开关按键和功能按键。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述卡爪设有四个，且卡爪之间等间距分布。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述真空室的内部侧壁上设有密封垫。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述第一镀膜锅和第二镀膜锅的形状大小相同，且第一镀膜锅和第二镀膜锅均为开口状。

本实用新型所达到的有益效果是：本实用新型结构合理，使用简单，通过将镀膜装置设计为开口锅状，分别为第一镀膜锅和第二镀膜锅，在第二镀膜锅的一端连接有转轴，在转轴的一端连接有活塞杆,活塞杆和转轴使得第二镀膜锅慢慢的转动，从而增加了真空镀膜的效率和质量，第一镀膜锅和第二镀膜锅的形状大小相同，并且都可以进行拆卸，在镀膜过的过程中，第二镀膜锅上的基板会出现镀膜料的堆积，然后将基板拆卸，安装在第一镀膜锅上，使用离子束发生器进行镀膜，使得第二镀膜锅上堆积的镀膜料再次利用，避免镀膜料的浪费，减少成本。

附图说明

附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。在附图中：

图1是本实用新型的一种真空镀膜装置的结构示意图；

图2是本实用新型的一种真空镀膜装置的第一镀膜锅结构示意图；

图中：1、真空室；2、控制面板；3、缓冲垫；4、底座；5、支撑脚；6、第一镀膜锅；7、卡爪；8、密封垫；9、第二镀膜锅；10、活塞杆；11、驱动气缸；12、联轴器；13、转轴；14、卡爪安装盘；15、镀膜喷孔；16、离子束发生器；17、镀膜料放置腔；18、电控盒；19、镀膜喷头。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

如图1和图2所示，本实用新型一种真空镀膜装置，包括真空室1、第一镀膜锅6、第二镀膜锅9和离子束发生器16，真空室1的一侧连接有控制面板2，真空室1的底部卡接有底座4，底座4的底端固定卡接有支撑脚5，真空室1的内部底端设有第一镀膜锅6，第一镀膜锅6的底端一侧设有缓冲垫3，真空室1的顶部设有联轴器12，联轴器12的一端传动连接有活塞杆10，活塞杆10的一端连接有驱动气缸11，活塞杆10的下端卡接有转轴13，转轴13的下端卡接有第二镀膜锅9，第二镀膜锅9的内部底侧安装有卡爪安装盘14，卡爪安装盘14的底侧卡接有卡爪7，第一镀膜锅6的内部底端设有离子束发生器16，离子束发生器16的一侧安装有镀膜料放置腔17，镀膜料放置腔17的一侧设有镀膜喷头19，第一镀膜锅6的一侧安装有电控盒18，镀膜喷头19的一侧开有镀膜喷孔15，离子束发生器16与电控盒18电性连接。

进一步，控制面板2的表面设有液晶显示屏、电源开关按键和功能按键。

进一步，卡爪7设有四个，且卡爪7之间等间距分布。

进一步，真空室1的内部侧壁上设有密封垫8，使得内部的真空效果更好。

进一步，第一镀膜锅6和第二镀膜锅9的形状大小相同，且第一镀膜锅6和第二镀膜锅9均为开口状，提高真空镀膜的效率和质量。

本实用新型工作原理：在使用时，首先，打开控制面板2上的电源开关按键，设备开始运行，将镀膜料放置在第一镀膜锅6中的镀膜料放置腔17内，将需要镀膜的物件放置在卡爪7上，驱动气缸11使得活塞杆10向下移动，使得第二镀膜锅9与第一镀膜锅6相吻合，活塞杆10一端的转轴13带动卡爪安装盘14慢慢的转动，卡爪安装盘14从而带动卡爪7慢慢的转动，可以使得需要镀膜的物件均匀的进行镀膜处理，第一镀膜锅6中的离子束发生器16发射出离子束，使得镀膜料放置腔17中的镀膜料通过镀膜喷头19上的镀膜喷孔15喷出，然后在卡爪7上的镀膜物件进行镀膜处理，在镀膜的过程中，第二镀膜锅9上的基板接收到镀膜料，可以将基板拆下，然后安装在第一镀膜锅6上镀膜料放置腔17的一侧，再次使用离子束发生器16进行离子冲击，可以避免镀膜料的浪费，节约了生产的成本。

最后应说明的是：以上仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (5)

1.一种真空镀膜装置，包括真空室(1)、第一镀膜锅(6)、第二镀膜锅(9)和离子束发生器(16)，其特征在于，所述真空室(1)的一侧连接有控制面板(2)，所述真空室(1)的底部卡接有底座(4)，所述底座(4)的底端固定卡接有支撑脚(5)，所述真空室(1)的内部底端设有第一镀膜锅(6)，所述第一镀膜锅(6)的底端一侧设有缓冲垫(3)，所述真空室(1)的顶部设有联轴器(12)，所述联轴器(12)的一端传动连接有活塞杆(10)，所述活塞杆(10)的一端连接有驱动气缸(11)，所述活塞杆(10)的下端卡接有转轴(13)，所述转轴(13)的下端卡接有第二镀膜锅(9)，所述第二镀膜锅(9)的内部底侧安装有卡爪安装盘(14)，所述卡爪安装盘(14)的底侧卡接有卡爪(7)，所述第一镀膜锅(6)的内部底端设有离子束发生器(16)，所述离子束发生器(16)的一侧安装有镀膜料放置腔(17)，所述镀膜料放置腔(17)的一侧设有镀膜喷头(19)，所述第一镀膜锅(6)的一侧安装有电控盒(18)，所述镀膜喷头(19)的一侧开有镀膜喷孔(15)，所述离子束发生器(16)与电控盒(18)电性连接。

2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜装置，其特征在于，所述控制面板(2)的表面设有液晶显示屏、电源开关按键和功能按键。

3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜装置，其特征在于，所述卡爪(7)设有四个，且卡爪(7)之间等间距分布。

4.根据权利要求1所述的一种真空镀膜装置，其特征在于，所述真空室(1)的内部侧壁上设有密封垫(8)。

5.根据权利要求1所述的一种真空镀膜装置，其特征在于，所述第一镀膜锅(6)和第二镀膜锅(9)的形状大小相同。