CN206385572U - 一种抗压式自复位井盖 - Google Patents
一种抗压式自复位井盖 Download PDFInfo
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Abstract
本实用新型公开了一种抗压式自复位井盖，其特征在于，所述井盖由若干拼接块拼接而成，相邻拼接块之间留有间隙a，所述拼接块的边缘具有与另一拼接块拼接的凹部及凸部，所述拼接块上表面设置有若干通道结构，所述通道结构以倾斜角a嵌入于拼接块表面内部，沿所述通道结构走向分布有若干分流结构，所述拼接块为多层结构，所述拼接块包括由上至下依次设置有上板层、第一缓冲板层、加强板层、第二缓冲板层、下板层。
Description
技术领域
本实用新型涉及市政基础设施，具体涉及一种抗压式自复位井盖。
背景技术
井盖，用于遮盖道路，防止人或者物体坠落。按材质可分为金属井盖、高强度纤维水泥混凝土井盖、树脂井盖等。目前，偏僻的地区时有发生井盖被盗丢失现象，也有井盖因过往车辆受迫振动位移，井口裸露，出现交通安全隐患，给市政管理增加负担。
实用新型内容
本实用新型是针对现有技术中的不足，提供一种抗压式自复位井盖，彻底解决井盖受迫振动位移，提高井盖整体抗压强度，降低井盖裂纹现象。
为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：
一种抗压式自复位井盖，所述井盖由若干拼接块拼接而成，相邻拼接块之间留有间隙a，所述拼接块的边缘具有与另一拼接块拼接的凹部及凸部，所述拼接块上表面设置有若干通道结构，所述通道结构以倾斜角a嵌入于拼接块表面内部，沿所述通道结构走向分布有若干分流结构，所述拼接块为多层结构，所述拼接块包括由上至下依次设置有上板层、第一缓冲板层、加强板层、第二缓冲板层、下板层。
作为本实用新型进一步改进，所述间隙a为0.1mm至0.5mm。
作为本实用新型进一步改进，所述通道结构的横截面呈拱形的通道结构。
作为本实用新型进一步改进，所述分流结构横截面呈“Y”字型的分流结构。
作为本实用新型进一步改进，所述“Y”字型的分流结构从拼接块上板层上表面贯穿至拼接块下板层下表面。
作为本实用新型进一步改进，所述第一缓冲板层和第二缓冲板层的上、下表面均设置有若干凸起的颗粒结构。
作为本实用新型进一步改进，所述上板层、加强板层、下板层的表面均设置有与第一缓冲板层和第二缓冲板层凸起颗粒结构相配合的限位结构。
作为本实用新型进一步改进，所述凸起颗粒结构与限位结构之间留有间隙b。
作为本实用新型进一步改进，所述间隙b为0.1mm至0.5mm。
作为本实用新型进一步改进，所述上板层、第一缓冲板层、加强板层、第二缓冲板层、下板层为一体结构设计。
本实用新型的优点在于：
1、通过设计模块化拼接组合井盖，当任意一拼接块损坏，可对其进行更换，提高井盖使用寿命延长；同时在相邻拼接块之间留有间隙，防止受迫振动产生共振。
2、通过在拼接块上表面设计拱形通道结构，以及沿通道结构走向设计“Y”字型分流结构，提高井盖排水效率，同时设计拱形通道结构，有效防止生活垃圾直接覆盖堵塞排水口。
3、通过将拼接块上的上板层、第一缓冲板层、加强板层、第二缓冲板层、下板层，提高井盖结构强度。
4、通过在第一缓冲板层和第二缓冲板层的上、下表面均设计凸起的颗粒结构，以及在上板层、加强板层、下板层的表面均设计与凸起颗粒结构相配合的限位结构，缓冲共振强度，有效形成自回位，降低井盖拼接块内部受迫共振。
为更清楚地阐述本实用新型的结构特征和功效，下面结合附图与具体实施例来对其进行详细说明。
附图说明
图1是本实用新型拼接块1的示意图；
图2是本实用新型拼接块1的剖面图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
参阅附图1至附图2，本实施例的抗压式自复位井盖，井盖由若干拼接块1拼接而成，相邻拼接块1之间留有0.1mm至0.5mm间隙，拼接块1的边缘具有与另一拼接块1拼接的凹部及凸部，拼接块1上表面设置有若干通道结构14，通道结构14的横截面呈拱形的通道结构，通道结构14以倾斜角a嵌入于拼接块1表面内部，沿通道结构14走向分布有若干分流结构15，分流结构15横截面呈“Y”字型的分流结构，拼接块1为多层结构，拼接块1包括由上至下依次设置有上板层10、第一缓冲板层11、加强板层12、第二缓冲板层11、下板层13，“Y”字型的分流结构14从拼接块1上板层10上表面贯穿至拼接块1下板层13下表面。第一缓冲板层11和第二缓冲板层11的上、下表面均设置有若干凸起的颗粒结构。上板层10、加强板层12、下板层13的表面均设置有与第一缓冲板层11和第二缓冲板层11凸起颗粒结构相配合的限位结构。凸起颗粒结构与限位结构之间留有0.1mm至0.5mm间隙，上板层10、第一缓冲板层11、加强板层12、第二缓冲板层11、下板层13为一体结构设计。
以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作任何形式上的限制。任何熟悉本领域的技术人员，在不脱离本实用新型技术方案范围情况下，都可利用上述揭示的方法和技术内容对本实用新型技术方案作出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例。故凡是未脱离本实用新型技术方案的内容，依据本实用新型之形状、构造及原理所作的等效变化，均应涵盖于本实用新型的保护范围内。
Claims (10)
1.一种抗压式自复位井盖，其特征在于，所述井盖由若干拼接块拼接而成，相邻拼接块之间留有间隙a，所述拼接块的边缘具有与另一拼接块拼接的凹部及凸部，所述拼接块上表面设置有若干通道结构，所述通道结构以倾斜角a嵌入于拼接块表面内部，沿所述通道结构走向分布有若干分流结构，所述拼接块为多层结构，所述拼接块包括由上至下依次设置有上板层、第一缓冲板层、加强板层、第二缓冲板层、下板层。
2.根据权利要求1所述抗压式自复位井盖，其特征在于，所述间隙a为0.1mm至0.5mm。
3.根据权利要求1所述抗压式自复位井盖，其特征在于，所述通道结构的横截面呈拱形的通道结构。
4.根据权利要求1所述抗压式自复位井盖，其特征在于，所述分流结构横截面呈“Y”字型的分流结构。
5.根据权利要求4所述抗压式自复位井盖，其特征在于，所述“Y”字型的分流结构从拼接块上板层上表面贯穿至拼接块下板层下表面。
6.根据权利要求1所述抗压式自复位井盖，其特征在于，所述第一缓冲板层和第二缓冲板层的上、下表面均设置有若干凸起的颗粒结构。
7.根据权利要求6所述抗压式自复位井盖，其特征在于，所述上板层、加强板层、下板层的表面均设置有与第一缓冲板层和第二缓冲板层凸起颗粒结构相配合的限位结构。
8.根据权利要求7所述抗压式自复位井盖，其特征在于，所述凸起颗粒结构与限位结构之间留有间隙b。
9.根据权利要求8所述抗压式自复位井盖，其特征在于，所述间隙b为0.1mm至0.5mm。
10.根据权利要求1所述抗压式自复位井盖，其特征在于，所述上板层、第一缓冲板层、加强板层、第二缓冲板层、下板层为一体结构设计。
Priority Applications (1)
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Publications (1)
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2016
- 2016-12-19 CN CN201621394002.4U patent/CN206385572U/zh not_active Expired - Fee Related
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