CN206321492U - 一种单质汞气源 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种单质汞气源。本实用新型的技术方案是：包括盛放有液态汞的密闭容器，密闭容器的顶部设置有取料部，取料部包括封闭密闭容器顶部的橡皮膜和固定橡皮膜的固定层，固定层上设置有若干个用于供注射器插入的取料孔，橡皮膜的厚度为5~10mm，橡皮膜的厚度为6mm，密闭容器为圆柱状，所述密闭容器包括螺纹连接的上壳体和下壳体，所述固定层包括设置在橡皮膜下方且开设有通孔的支撑部以及设置在橡皮膜上方的抵设部，所述取料孔设置在抵设部上，所述注射器的最大量程为2.5ml。本实用新型提供的方案结构简单，仅需要将液态汞密封保存在密闭容器中，即可为试验研究提供稳定可靠的汞气源，可长期保存，依然保持稳定的性能，可重复使用，环保。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种单质汞标准气体发生装置，属于环境监测技术领域，特别涉及用于环境空气或固定污染源废气中单质汞测量时，标定仪器、制定标准曲线所需要的汞标准气体的制备。
背景技术
汞标准气体的国标方法为双瓶恒温法，即在两个50mL药液瓶中加入几滴99.9%纯汞，旋紧瓶盖，然后用不锈钢管（或PVC管两端带注射器针）将两个瓶连接，在进气口覆上橡皮膜。从药液瓶的顶部空间抽取标准样品洗涤注射器至少3次，再用注射器取定量标准样品。该国标方法原理上很正确，但是实现困难，在试验研究及生产应用中难以控制所需要的相对精确的汞释放量及浓度。
而且，该方法的汞标源不易长期保存，需要现用现配。另外，每次用剩的汞无法收集，排放到环境中，增加汞污染。
实用新型内容
针对现有技术存在的不足，本实用新型的主要目的在于提供一种结构简单、方便制备汞标准气体且性能可靠的单质汞气源。
为实现上述目的，本实用新型提供了如下技术方案：一种单质汞气源，包括盛放有液态汞的密闭容器，所述密闭容器的顶部设置有取料部，所述取料部包括封闭密闭容器顶部的橡皮膜和固定橡皮膜的固定层，所述固定层上设置有若干个用于供注射器插入的取料孔。
优选的，所述密闭容器为圆柱状，所述密闭容器包括螺纹连接的上壳体和下壳体。
优选的，所述固定层包括设置在橡皮膜下方且开设有通孔的支撑部以及设置在橡皮膜上方的抵设部，所述取料孔设置在抵设部上。
本实用新型相对于现有技术具有如下优点，在某一温度环境下，用注射器抽取容器顶部空间的气体，即可得到定量的汞蒸气。密闭容器采用塑料制作而成，该装置结构简单，仅需要将液态汞密封保存在密闭容器中，即可为试验研究提供稳定可靠的汞气源。该装置可长期保存，依然保持稳定的性能。该装置可重复使用，环保。气密性好，能有效避免汞蒸气泄漏，安全可靠，避免了人员汞中毒事故的发生，采用手动采样，操作方便。
附图说明
图1为本实用新型的一种单质汞气源的结构示意图；
图2为实施例一的汞标准曲线；
图3为实施例二的汞标准曲线。
图中：1、密闭容器；2、取料部；3、橡皮膜；4、注射器；5、取料孔；6、上壳体；7、下壳体；8、支撑部；9、通孔；10、抵设部。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步说明。
如图1所示，一种单质汞气源，包括盛放有液态汞的密闭容器1，所述密闭容器1的顶部设置有取料部2，所述取料部2包括封闭密闭容器1顶部的橡皮膜3和固定橡皮膜3的固定层，所述固定层上设置有若干个用于供注射器4插入的取料孔5。
本实用新型的一种单质汞气源，利用在封闭条件下，密闭容器1内气态、液态两相汞保持一定的动态平衡，在某一温度环境下，用注射器4抽取容器顶部空间的气体，即可得到定量的汞蒸气。密闭容器1采用塑料制作而成，该装置结构简单，仅需要将液态汞密封保存在密闭容器1中，即可为试验研究提供稳定可靠的汞气源。该装置可长期保存，依然保持稳定的性能。该装置可重复使用，环保。气密性好，能有效避免汞蒸气泄漏，安全可靠，避免了人员汞中毒事故的发生，采用手动采样，操作方便。
优选的，所述橡皮膜3的厚度为5~10mm。橡皮膜3的厚度能够影响到密闭容器1的气密性，橡皮膜3的厚度在5~10mm范围内能够使得密闭容器1的气密性较好。
最佳的，所述橡皮膜3的厚度为6mm。
优选的，所述密闭容器1为圆柱状，所述密闭容器1包括螺纹连接的上壳体6和下壳体7。密闭容器1的形状为圆柱状，且包括能够分离的上壳体6和下壳体7，这样设置的目的是方便向密闭容器1内补充液态汞。
优选的，所述固定层包括设置在橡皮膜3下方且开设有通孔9的支撑部8以及设置在橡皮膜3上方的抵设部10，所述取料孔5设置在抵设部10上。橡皮膜3被夹在支撑部8和抵设部10之间，且抵设部10能够取下，方便更换橡皮膜。
优选的，所述注射器4的最大量程为2.5ml。
实施例一
将本实用新型的单质汞气源置于18℃恒温环境，用注射器4在顶部空间抽取气体洗涤注射器4至少3次，再用注射器4分别取0.5、1.0、1.5、2.0、2.5 mL的气体，绘制汞标准曲线，如附图2所示。
实施例二
将单质汞气源置于20℃恒温环境，用注射器45在顶部空间抽取气体洗涤注射器4至少3次，再用注射器4分别取0.5、1.0、1.5、2.0、2.5 mL的气体，绘制汞标准曲线，如附图3所示。
从附图2和附图3所示，本实用新型的单质汞气源能够方便制作汞标准气体，性能可靠。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
Claims (3)
1.一种单质汞气源，其特征在于：包括盛放有液态汞的密闭容器，所述密闭容器的顶部设置有取料部，所述取料部包括封闭密闭容器顶部的橡皮膜和固定橡皮膜的固定层，所述固定层上设置有若干个用于供注射器插入的取料孔。
2.根据权利要求1所述的一种单质汞气源，其特征在于：所述密闭容器为圆柱状，所述密闭容器包括螺纹连接的上壳体和下壳体。
3.根据权利要求1所述的一种单质汞气源，其特征在于：所述固定层包括设置在橡皮膜下方且开设有通孔的支撑部以及设置在橡皮膜上方的抵设部，所述取料孔设置在抵设部上。
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