CN206270655U - 一种led阵列光源曝光系统 - Google Patents

一种led阵列光源曝光系统 Download PDF

Info

Publication number
CN206270655U
CN206270655U CN201621389037.9U CN201621389037U CN206270655U CN 206270655 U CN206270655 U CN 206270655U CN 201621389037 U CN201621389037 U CN 201621389037U CN 206270655 U CN206270655 U CN 206270655U
Authority
CN
China
Prior art keywords
light source
led array
array light
exposure system
lens set
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN201621389037.9U
Other languages
English (en)
Inventor
蔡志国
龚田
李小明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Suzhou Weiying Laser Technology Co ltd
Original Assignee
Hubei Kaichang Photoelectric Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hubei Kaichang Photoelectric Technology Co Ltd filed Critical Hubei Kaichang Photoelectric Technology Co Ltd
Priority to CN201621389037.9U priority Critical patent/CN206270655U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN206270655U publication Critical patent/CN206270655U/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Led Device Packages (AREA)

Abstract

本实用新型实施例公开了一种LED阵列光源曝光系统,该LED阵列光源曝光系统包括LED阵列光源,包括多个呈矩阵式排列的单组光源,每个单组光源包括依次设置的LED芯片、半球镜片以及聚光镜片;光束整形镜片组,设置于聚光镜片远离LED芯片的一侧;反射镜,与光束整形镜片组远离LED阵列光源的一侧对应设置;DMD芯片,与反射镜上下对应设置;投影镜片组,与DMD芯片上下对应设置。本实用新型的LED阵列光源曝光系统大大缩减了设备的光源成本,延长了设备的使用寿命,通过阵列的摆放方式,在一开始就得到均匀的出光,简化了光束整形镜片组的结构,同时整体光学引擎的尺寸得到大幅缩减,减小了曝光机的空间压力。

Description

一种LED阵列光源曝光系统
技术领域
本实用新型涉及一种直写式曝光系统,尤其涉及一种LED阵列光源曝光系统。
背景技术
目前市场上的曝光机普遍采用紫外激光二极管、汞氙灯作为光源,这两种光源缺点都比较明显,紫外激光二极管成本较高,同时衰减也比较严重;而汞氙灯使用寿命较短,需要经常更换光源,影响生产,维护成本高。
实用新型内容
本实用新型实施例所要解决的技术问题在于,针对目前市场上的曝光机的光源成本高,使用过程中衰减严重,并且寿命短,维护成本高的问题,提出了一种LED阵列光源曝光系统。
为了解决上述技术问题,本实用新型实施例提供了一种LED阵列光源曝光系统,该LED阵列光源曝光系统包括:LED阵列光源,包括多个呈矩阵式排列的单组光源,每个单组光源包括依次设置的LED芯片、半球镜片以及聚光镜片;光束整形镜片组,设置于聚光镜片远离LED芯片的一侧;反射镜,与光束整形镜片组远离LED阵列光源的一侧对应设置;DMD芯片,与反射镜上下对应设置,光束整形镜片组将从LED阵列光源获取的光斑缩小到DMD芯片的大小,然后通过反射镜反射到DMD芯片上;投影镜片组,与DMD芯片上下对应设置,DMD芯片上的光斑反射到投影镜片组,最终成像到曝光面。
其中,单组光源为15-20个,呈横竖矩阵式排列。
其中,每两个单组光源之间的间距均为12mm。
其中,LED阵列光源与光束整形镜片组一体化设置。
其中,光束整形镜片组包括多个尺寸不同且依次设置的第一镜片。
其中,投影镜片组包括多个尺寸不同且依次设置的第二镜片。
实施本实用新型实施例,具有如下有益效果:本实用新型的LED阵列光源曝光系统大大缩减了设备的光源成本,延长了设备的使用寿命,提高了生产效率,通过阵列的摆放方式,在一开始就得到均匀的出光,简化了光束整形镜片组的结构,同时整体光学引擎的尺寸得到大幅缩减,极大的减小了曝光机的空间压力。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本实用新型提供的LED阵列光源曝光系统的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
本实用新型提供了一种LED阵列光源曝光系统,请参见图1,图1是本实用新型提供的LED阵列光源曝光系统的结构示意图。该LED阵列光源曝光系统包括:LED(LightEmitting Diode,发光二极管)阵列光源10、单组光源11、LED芯片12、半球镜片13、聚光镜片14、光束整形镜片组20、反射镜30、DMD(Digital Micro mirror Device,聚酯薄膜聚酯纤维非织布柔软复合箔)芯片40以及投影镜片组50。
LED阵列光源10包括15-20个呈矩阵式排列的单组光源11,在本实施例中,单组光源11为15个,呈3×5的矩阵排列。每个单组光源11包括依次设置的LED芯片12、半球镜片13以及聚光镜片14。每两个单组光源11之间的间距均为12mm。
光束整形镜片组20设置于聚光镜片14远离LED芯片12的一侧。LED阵列光源10与光束整形镜片组20一体化设置。光束整形镜片组20包括多个尺寸不同且依次设置的第一镜片。
反射镜30与光束整形镜片组20远离LED阵列光源10的一侧对应设置。
DMD芯片40与反射镜30上下对应设置,光束整形镜片组20将从LED阵列光源10获取的光斑缩小到DMD芯片40的大小,然后通过反射镜40反射到DMD芯片40上。
投影镜片组50与DMD芯片40上下对应设置,DMD芯片40上的光斑反射到投影镜片组50,最终成像到曝光面。投影镜片组50包括多个尺寸不同且依次设置的第二镜片。
该LED阵列光源曝光系统通过LED阵列光源10中的半球镜片13和聚光镜片14收集LED芯片12的光,以阵列摆放的方式获得均匀化的光斑,然后通过光束整形镜片组20缩小光斑到DMD芯片40的大小,用反射镜30反射到DMD芯片40上,再由DMD芯片40反射到投影镜片组50,最终成像到曝光面。
在不改变以前的曝光投影镜头的基础上,将LED光源与光束整形部分一体化,再结合以前的镜头形成新的曝光光路,替换掉体积大成本高的紫外激光光源,大大缩减了设备的光源成本;使用紫外波长的LED阵列光源,与激光光源相比,在输出光功率相同时,使用LED的成本大幅降低,使用寿命大大增加;通过阵列的摆放方式,在一开始就得到均匀的出光,简化了光束整形镜片组的结构,同时整体光学引擎的尺寸得到大幅缩减,极大的减小了曝光机的空间压力。
通过阵列的摆放方式,简化了光束整形镜片组的结构,缩减了光学引擎的尺寸,减小了整个曝光机的空间压力,延长了光源寿命,降低了生产和维护成本,同时出光更加均匀稳定,提高了出光质量。
实施本实用新型实施例,具有如下有益效果:本实用新型的LED阵列光源曝光系统大大缩减了设备的光源成本,延长了设备的使用寿命,通过阵列的摆放方式,在一开始就得到均匀的出光,简化了光束整形镜片组的结构,同时整体光学引擎的尺寸得到大幅缩减,极大的减小了曝光机的空间压力。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种LED阵列光源曝光系统,其特征在于,所述LED阵列光源曝光系统包括:
LED阵列光源,包括多个呈矩阵式排列的单组光源,每个所述单组光源包括依次设置的LED芯片、半球镜片以及聚光镜片;
光束整形镜片组,设置于所述聚光镜片远离所述LED芯片的一侧;
反射镜,与所述光束整形镜片组远离所述LED阵列光源的一侧对应设置;
DMD芯片,与所述反射镜上下对应设置,所述光束整形镜片组将从所述LED阵列光源获取的光斑缩小到所述DMD芯片的大小,然后通过所述反射镜反射到所述DMD芯片上;
投影镜片组,与所述DMD芯片上下对应设置,所述DMD芯片上的光斑反射到所述投影镜片组,最终成像到曝光面。
2.根据权利要求1所述的LED阵列光源曝光系统,其特征在于,所述单组光源为15-20个,呈横竖矩阵式排列。
3.根据权利要求2所述的LED阵列光源曝光系统,其特征在于,每两个所述单组光源之间的间距均为12mm。
4.根据权利要求1所述的LED阵列光源曝光系统,其特征在于,所述LED阵列光源与所述光束整形镜片组一体化设置。
5.根据权利要求1所述的LED阵列光源曝光系统,其特征在于,所述光束整形镜片组包括多个尺寸不同且依次设置的第一镜片。
6.根据权利要求1所述的LED阵列光源曝光系统,其特征在于,所述投影镜片组包括多个尺寸不同且依次设置的第二镜片。
CN201621389037.9U 2016-12-16 2016-12-16 一种led阵列光源曝光系统 Expired - Fee Related CN206270655U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201621389037.9U CN206270655U (zh) 2016-12-16 2016-12-16 一种led阵列光源曝光系统

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201621389037.9U CN206270655U (zh) 2016-12-16 2016-12-16 一种led阵列光源曝光系统

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN206270655U true CN206270655U (zh) 2017-06-20

Family

ID=59046226

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201621389037.9U Expired - Fee Related CN206270655U (zh) 2016-12-16 2016-12-16 一种led阵列光源曝光系统

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN206270655U (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN116400325A (zh) * 2022-09-14 2023-07-07 苏州睿新微系统技术有限公司 一种光发射组件及激光雷达

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN116400325A (zh) * 2022-09-14 2023-07-07 苏州睿新微系统技术有限公司 一种光发射组件及激光雷达
CN116400325B (zh) * 2022-09-14 2024-01-26 苏州睿新微系统技术有限公司 一种光发射组件及激光雷达

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104949953A (zh) 荧光激发光源装置及系统和荧光显微成像系统
CN201555989U (zh) 一种激光投影系统中的光束整形及均匀化装置
CN104656354A (zh) 照明系统以及投影装置
CN104460023A (zh) 一种消除散斑的激光投影光源系统
CN206270655U (zh) 一种led阵列光源曝光系统
CN203275775U (zh) 一种输出光斑均匀的光学整形器
CN106907583A (zh) 一种新型基于紫外led的3d丝印光源
CN102262342B (zh) 光源系统以及使用该光源系统的投影装置
CN204945617U (zh) 一种用于直写曝光机的uvled阵列光源收集利用装置
CN204215104U (zh) 匀光成像光学系统
CN103105737B (zh) 使用拼接的多光源的光刻装置
CN102819113A (zh) 激光光束匀化装置
CN107390479A (zh) 一种曝光机光源光学模组
CN208253212U (zh) 紫外线会聚光源、远距离聚焦光源模组及小角度cob光源
CN204403813U (zh) 医用检查灯
CN104568877A (zh) 基于led光源的随机光学重建显微成像系统及方法
CN203349029U (zh) 一种led背光模组
CN206431415U (zh) 一种荧光激发结构
CN104608486A (zh) 一种紫外光灯箱
CN204945619U (zh) 一种具有倍率微调功能的光刻远心物镜
CN205447612U (zh) 一种舞台灯
CN204513137U (zh) 一种led曝光灯
CN105116689A (zh) 一种用于直写曝光机的uvled阵列光源收集利用装置
CN202719447U (zh) 一种红外led灯装置
CN204422937U (zh) 用于补充物体特征点的投影灯

Legal Events

Date Code Title Description
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
TR01 Transfer of patent right
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20191122

Address after: 518000, Shenzhen, Guangdong, Baoan District province Xixiang Industrial Road, No. 3012, West building, veterans building, two floor

Patentee after: CAIZ OPTRONICS Corp.

Address before: 432000 Chengnan Industrial Zone, Xiaochang Economic Development Zone, Xiaogan, Hubei

Patentee before: HUBEI KAICHANG PHOTOELECTRIC TECHNOLOGY Co.,Ltd.

TR01 Transfer of patent right
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20200217

Address after: No.85, Torch Road, high tech Zone, Suzhou, Jiangsu

Patentee after: SUZHOU WEIYING LASER TECHNOLOGY CO.,LTD.

Address before: 518000, Shenzhen, Guangdong, Baoan District province Xixiang Industrial Road, No. 3012, West building, veterans building, two floor

Patentee before: CAIZ OPTRONICS CORP.

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20170620