CN206059349U - 单片湿法作业的药液喷洒装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供了一种单片湿法作业的药液喷洒装置，包括喷头，所述喷头相对硅片的喷射角度可调。本实用新型中，由于喷头的喷射角度可调，药液喷洒角度随硅片位置的喷射位置发生变化，如此使得硅片不同点上的速度不同，药液喷洒角度也不同，但相对速度可以相同，从而保证药液效果的均一性。
Description
技术领域
本实用新型设计单片湿法作业，尤其设计一种单片湿法作业的药液喷洒装置。
背景技术
当前半导体制程中的单片湿法作业中，请参考图1，药液喷洒方向与硅片表面垂直，同时硅片以自身圆心为圆心旋转。
在喷洒过程中，碰头沿着平行于硅片表面的方向移动，当喷头移动至硅片边缘时，药液的相对速度大，而移动至中心处，药液的相对速度小，由此导致硅片表面清洗效果不均匀，中心与边缘有差异。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题如何解决喷洒方向单一造成来的清洗效果不均匀的问题。
为了解决这一技术问题，本实用新型提供了一种单片湿法作业的药液喷洒装置，包括喷头，所述喷头相对所述硅片的喷射角度可调。
可选的，所述喷头通过旋转运动实现对所述硅片的喷射角度的调整。
可选的，所述的单片湿法作业的药液喷洒装置还包括旋转驱动装置，所述喷头安装于所述旋转驱动装置。
可选的，所述旋转驱动装置包括旋转驱动源、输出轴和传动轴，所述传动轴平行连接于所述输出轴，所述喷头安装于所述传动轴，所述驱动源驱动所述输出轴旋转，进而传动所述传动轴旋转。
本实用新型中，由于喷头的喷射角度可调，药液喷洒角度随硅片位置的喷射位置发生变化，如此使得硅片不同点上的速度不同，药液喷洒角度也不同，但相对速度可以相同，从而保证药液效果的均一性。
附图说明
图1是现有技术中单片湿法作业的药液喷洒的示意图；
图2是本实用新型一实施例中单片湿法作业的药液喷洒装置的喷洒示意图；
图3是本实用新型一实施例中单片湿法作业的药液喷洒装置的示意图；
1-喷头；2-硅片；3-旋转驱动装置；31-驱动源；32-输出轴；33-传动轴。
具体实施方式
以下将结合图2和图3对本实用新型提供的单片湿法作业的药液喷洒装置进行详细的描述，其为本实用新型可选的实施例，可以认为，本领域技术人员在不改变本实用新型精神和内容的范围内，能够对其进行修改和润色。
请参考图2和图3，本实用新型提供了一种单片湿法作业的药液喷洒装置，包括喷头1，所述喷头1相对硅片的喷射角度可调。
为了实现喷射角度的可调，就其运动方式来说：
所述喷头通过旋转运动实现对所述硅片的喷射角度的调整。进一步可选的实施例中，所述喷头旋转的轴心与硅片的直径重合。所述喷头旋转的轴心与所述硅片相对于所述喷头的直线运动方向平行。当然，在其他可选实施例中，所述喷头可沿弧线运动方向，所述喷头可以依据弧线的运动进行旋转驱动，以达到所需的喷射方向。无论运用场景如何，只要实现了喷头喷射角度的可调，就是本实用新型可选方案之一，而不限于任何一种方案。
本实用新型不排除任何能完成上文运动方式的机构，本实用新型图3示意的实施例中，提供了一种可选的形状与构造方案：
所述的单片湿法作业的药液喷洒装置还包括旋转驱动装置3，所述喷头安装于所述旋转驱动装置3。进一步来说，所述旋转驱动装置3包括旋转驱动源31、输出轴32和传动轴33，所述传动轴33平行连接于所述输出轴32，两者可通过连接件连接，以实现同步的旋转，所述喷头1安装于所述传动轴33，所述驱动源31驱动所述输出轴32旋转，进而传动所述传动轴33旋转。该驱动源31可以是电机等，依据预设的逻辑进行旋转或摆动运动。
除了旋转运动，在本实用新型可选的实施例中，若喷头相对硅片做直线运动，那么，为了实现喷头相对于硅片的直线运动，所述的单片湿法作业的药液喷洒装置还包括直线驱动装置，所述喷头由所述直线驱动装置驱动相对所述硅片2做直线移动。若喷头相对硅片做弧线运动，则为了实现喷头相对于硅片的弧线运动，所述的单片湿法作业的药液喷洒装置还包括弧线驱动装置，所述喷头由所述弧线驱动装置驱动相对所述硅片2做弧线移动。无论是弧线驱动还是直线驱动，在本领域中，都有若干可选方案可实现，所以即使不做展开阐述，也不会造成公开不充分等问题。
综上所述，本实用新型中，由于喷头的喷射角度可调，药液喷洒角度随硅片位置的喷射位置发生变化，如此使得硅片不同点上的速度不同，药液喷洒角度也不同，但相对速度可以相同，从而保证药液效果的均一性。
Claims (2)
1.一种单片湿法作业的药液喷洒装置，其特征在于：包括喷头，硅片以自身圆心为圆心旋转，所述喷头沿着平行于硅片表面的方向移动，所述喷头相对硅片的喷射角度可调；
还包括旋转驱动装置，所述喷头安装于所述旋转驱动装置，所述旋转驱动装置包括旋转驱动源、输出轴和传动轴，所述传动轴平行连接于所述输出轴，所述喷头安装于所述传动轴，所述驱动源驱动所述输出轴旋转，进而传动所述传动轴旋转，所述驱动源采用电机。
2.如权利要求1所述的单片湿法作业的药液喷洒装置，其特征在于：所述喷头通过旋转运动实现对所述硅片的喷射角度的调整。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201620438768.1U CN206059349U (zh) | 2016-05-13 | 2016-05-13 | 单片湿法作业的药液喷洒装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CN201620438768.1U CN206059349U (zh) | 2016-05-13 | 2016-05-13 | 单片湿法作业的药液喷洒装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| CN206059349U true CN206059349U (zh) | 2017-03-29 |
Family
ID=58371728
Family Applications (1)
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| CN201620438768.1U Active CN206059349U (zh) | 2016-05-13 | 2016-05-13 | 单片湿法作业的药液喷洒装置 |
Country Status (1)
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|---|---|
| CN (1) | CN206059349U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109712865A (zh) * | 2018-12-27 | 2019-05-03 | 北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所） | 一种湿法化学腐蚀装置及湿法化学腐蚀工艺 |
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2016
- 2016-05-13 CN CN201620438768.1U patent/CN206059349U/zh active Active
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109712865A (zh) * | 2018-12-27 | 2019-05-03 | 北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所） | 一种湿法化学腐蚀装置及湿法化学腐蚀工艺 |
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