CN205982899U - 隐形眼镜清洗仪 - Google Patents

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Abstract

本实用新型涉及一种隐形眼镜清洗装置,尤其涉及一种隐形眼镜清洗仪;包括清洗仪主体、设置于清洗仪主体上的清洗槽和清洗机构,清洗机构包括电源、电路板和电极组,电极组包括多组相配合的正电极和负电极,电极组、电路板与电源电连接;清洗槽包括左清洗槽和右清洗槽,左清洗槽和右清洗槽内均相对设置有至少一组正电极和负电极;本实用新型的隐形眼镜清洗仪,清洗效率较高。

Description

隐形眼镜清洗仪
技术领域
本实用新型涉及一种隐形眼镜清洗装置,尤其涉及一种隐形眼镜清洗仪。
背景技术
有相当多近视的人们,为了美观或行动方便,选择使用隐形眼镜。然而,隐形眼镜长期使用后会造成蛋白沉积,使镜片失去透氧性能,配戴后会造成眼角膜的损伤,因此,当隐形眼镜配戴一定时间后,必须加以清洗,以供再次使用。
目前隐形眼镜最常使用的清洗方式,是将隐形眼镜的镜片分别放入隐形眼镜清洗盒的两个容器内,分别注入清洁药水,再以手指揉搓,以清除隐形眼镜镜片上的灰尘、蛋白质沉积、粘液、油渍等秽物,维持镜片的透氧率。然而,上述清洗方式容易因手指的不洁而无法达到良好的效果,且在清洁的过程中,相当耗费时间。
目前市面上还存在一些隐形眼镜清洗装置,采用超声波、加热型电磁搅拌器、紫外线或臭氧等方式,然而:1)清洗隐形眼镜的超声波频率需高达100KHz以上,镜片易受物理破坏,且对电路与频率之间的匹配性要求较高,生产成本也较高;2)加热型电磁搅拌器利用电磁原理加热搅拌,添加清洁剂使该镜片的粘着物分离,加热温度高有误触烫伤及损伤镜片的可能性;3)紫外线对细菌有强大的杀伤力,臭氧则是一种良好的氧化剂及消毒剂,但无法完全去除附着在镜片上的粘着物。
如图1所示,中国专利公布号为CN105759461A的发明专利以及授权公告号为CN204964930U的实用新型专利,公开了一种隐形眼镜还原仪,包括底座1、中座2、盖体3以及清洁机构,中座2闭合在底座1的上方并与底座围成电子元件室,盖体3闭合在中座2的上方并与中座围成眼镜室;中座2的顶面设置有两个用于放置隐形眼镜且相互连通的容置槽4,容置槽4上扣合有密封盖;清洁机构包括电源、电路板、导电片以及电极5;电路板设置于电子元件室内,并与电源电连接;导电片为两个、均设置于电子元件室内,并且其中一端均与电路板电连接;电极5为两个、分别贯穿设置于两个容置槽4的底部、并与容置槽底部相互密封连接,电极的顶端均外露于容置槽内、底端均外露于电子元件室,电极5的底端与导电片的另一端电连接。然而这种隐形眼镜还原仪,由于电极距离较远,存在清洗效率较低的问题。同时左右清洗槽由于是连通的,因此容易导致左右隐形眼镜的病毒交叉感染。
有鉴于上述的缺陷,本设计人,积极加以研究创新,以期创设一种新型结构的隐形眼镜清洗仪,使其更具有产业上的利用价值。
实用新型内容
为解决上述技术问题,本实用新型的目的是提供一种清洗效率较高的隐形眼镜清洗仪。
本实用新型的隐形眼镜清洗仪,包括清洗仪主体、设置于清洗仪主体上的清洗槽和清洗机构,所述清洗机构包括电源、电路板和电极组,所述电极组包括多组相配合的正电极和负电极,所述电极组、电路板与电源电连接;所述清洗槽包括左清洗槽和右清洗槽,所述左清洗槽和右清洗槽内均相对设置有至少一组正电极和负电极。
进一步的,所述左清洗槽和右清洗槽内的前侧和后侧均相对设置有一组正电极和负电极。
进一步的,所述左清洗槽和右清洗槽之间相互分离设置。
进一步的,所述左清洗槽和右清洗槽上分别设置有左密封盖和右密封盖。
进一步的,所述左清洗槽和右清洗槽的左侧和右侧分别均相对设置有一组正电极和负电极。
进一步的,所述左清洗槽和右清洗槽之间相互连通设置。
进一步的,所述清洗槽上扣合有密封盖。
进一步的,所述密封盖包括底盖和顶盖,所述底盖扣合在所述清洗槽上,所述底盖顶面设置有隐形眼镜容置槽,所述顶盖密封在所述隐形眼镜容置槽上。
进一步的,所述隐形眼镜容置槽包括左容置槽和右容置槽,所述顶盖包括左顶盖和右顶盖,所述左顶盖和右顶盖分别密封在所述左容置槽和右容置槽上。
进一步的,所述正电极和负电极为柱状、片状或块状。
进一步的,所述清洗机构还包括振动器,所述振动器设置于清洗仪主体上或清洗槽内侧。
进一步的,所述清洗机构还包括导电片,所述导电片的一端与电路板电连接、另一端与电极组电连接。
进一步的,所述清洗机构还包括转接座,所述转接座的底端固定设置在电路板上,所述转接座的顶端与电极组电连接。
借由上述方案,本实用新型至少具有以下优点:(1)提高清洗效率,可以缩短电极间的相对距离,使一组电极间仅放置一片隐形眼镜,避免多个隐形眼镜镜片在电极间的电泳通道上;(2)分离独立设置的清洗槽可以避免两片隐形眼镜上潜在可能的病毒交叉感染,更有利于眼睛健康;(3)避免了清洗槽形状对清洗效率的影响,可以有效提高隐形眼镜的清洗效率。(4)分离设计的左右清洗槽有利于降低密封盖的设计难度,对材料要求不高。
上述说明仅是本实用新型技术方案的概述,为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段,并可依照说明书的内容予以实施,以下以本实用新型的较佳实施例并配合附图详细说明如后。
附图说明
图1是现有技术的隐形眼镜清洗仪的结构示意图;
图2是本实用新型第一种实施方式的俯视图;
图3是本实用新型第二种实施方式的俯视图;
图4是本实用新型第三种实施方式的俯视图;
图5是本实用新型第四种实施方式的俯视图;
图6是本实用新型第五种实施方式的俯视图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例,对本实用新型的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型,但不用来限制本实用新型的范围。
参见图2,本实用新型一较佳实施例的一种隐形眼镜清洗仪,包括清洗仪主体10、设置于清洗仪主体10上的清洗槽11和清洗机构,清洗机构包括电源、电路板和电极组,电极组包括多组相配合的正电极12和负电极13,电极组、电路板与电源电连接;清洗槽包括左清洗槽和右清洗槽,左清洗槽和右清洗槽内均相对设置有至少一组正电极和负电极。
应当说明的是,本实用新型的工作原理与中国专利公布号为CN105759461A的发明专利以及授权公告号为CN204964930U的实用新型专利基本相同,不同点在于电极的布置,由于设置有多个电极,且分别设置于左清洗槽和右清洗槽中,可以缩短电极间的相对距离,使一组电极间仅放置一片隐形眼镜,避免多个隐形眼镜镜片在电极间的电泳通道上,同时也避免了清洗槽形状对清洗效率的影响,可以有效提高隐形眼镜的清洗效率。
应当说明的是,左清洗槽和右清洗槽内设置多组正电极和负电极,清洗效果的确会进一步提高,然而其本质上并没有改变隐形眼镜所处的电泳通道,同时出于成本考虑,如图2所示,左清洗槽和右清洗槽内的前侧和后侧均相对设置有一组正电极和负电极即可,另外,图2中,正电极虽然位于清洗槽的后侧,但并不表明正电极和负电极的相对位置限定为正电极和负电极分别位于清洗槽的后侧和前侧,实际也可反向设置。
应当说明的是,如图2所示,左清洗槽和右清洗槽之间可以相互分离设置,这样两个隐形眼镜分别单独清洗,有效防止佩戴者某一眼睛存在炎症等病原体的情况下,导致的隐形眼镜镜片的交叉污染,进而导致隐形眼镜佩戴者双眼交叉感染的情况。相应的,左清洗槽和右清洗槽上分别设置有左密封盖和右密封盖,左密封盖和右密封盖可以通过螺纹安装在清洗槽上。另外,既然左清洗槽和右清洗槽相互分离设置,那么正电极和负电极也并不局限于前侧和后侧的布置方式,可以如图3所示,左清洗槽和右清洗槽的左侧和右侧分别均相对设置有一组正电极12和负电极13。
应当说明的是,如图4所示,左清洗槽和右清洗槽之间也可相互连通设置,这样,使用时清洗液的注入,清洗槽的清洗均较为方便,不会出现两个清洗槽液面高低不同,清洗效果有差异的情况。相应的,清洗槽上还扣合有密封盖。
应当说明的是,若左清洗槽和右清洗槽采用槽底通过通孔相互连通的方式,则左清洗槽和右清洗槽的上部还可设置相互分离的开口,并设置外螺纹,以方便密封盖的旋拧;若左清洗槽和右清洗槽采用敞口的相互连通方式,则密封盖采用扣合的方式固定在清洗槽上;密封盖连接方式的不同,其区别点在于,若通过螺纹连接,则密封效果较好,可以在不清洗时,将隐形眼镜保存在清洗槽中携带,若采用扣合方式,密封效果不好,隐形眼镜并不能存放于清洗槽中以携带。在扣合方式下,可将密封盖设置为便携式的隐形眼镜镜盒,即密封盖包括底盖和顶盖,底盖扣合在清洗槽上,底盖顶面设置有隐形眼镜容置槽,顶盖密封在隐形眼镜容置槽上,这样以解决上述问题。
相应的,隐形眼镜容置槽包括左容置槽和右容置槽,顶盖包括左顶盖和右顶盖,左顶盖和右顶盖分别密封在左容置槽和右容置槽上。
应当说明的是,正电极和负电极的作用在于通电以电泳并吸附隐形眼镜中的泪蛋白和其他杂质,对此,正电极和负电极的形状并不限定,可以如图2至图4为柱状,也可如图5设置为片状,或如图6设置为块状,以提高吸附效果。
清洗机构还包括振动器,振动器设置于清洗仪主体上或清洗槽内侧,振动器的作用在于促进泪蛋白和杂质与隐形眼镜的脱离,进而提高电泳隐形眼镜镜片中的杂质的分离效果。
应当说明的是,设置于清洗槽中的电极,其与电路板的连接方式可设置为间接连接或直接连接;若为间接连接,则清洗机构还包括导电片,导电片的一端与电路板电连接、另一端与电极组电连接。若为直接连接,清洗机构还包括转接座,转接座的底端固定设置在电路板上,转接座的顶端与电极组电连接,转接座为标准化的转接座接口,或非标准化的接线插槽,。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,并不用于限制本实用新型,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型技术原理的前提下,还可以做出若干改进和变型,这些改进和变型也应视为本实用新型的保护范围。

Claims (10)

1.一种隐形眼镜清洗仪,其特征在于:包括清洗仪主体、设置于清洗仪主体上的清洗槽和清洗机构,所述清洗机构包括电源、电路板和电极组,所述电极组包括多组相配合的正电极和负电极,所述电极组、电路板与电源电连接;所述清洗槽包括左清洗槽和右清洗槽,所述左清洗槽和右清洗槽内均相对设置有至少一组正电极和负电极。
2.根据权利要求1所述的隐形眼镜清洗仪,其特征在于:所述左清洗槽和右清洗槽内的前侧和后侧均相对设置有一组正电极和负电极。
3.根据权利要求1所述的隐形眼镜清洗仪,其特征在于:所述左清洗槽和右清洗槽之间相互分离设置。
4.根据权利要求3所述的隐形眼镜清洗仪,其特征在于:所述左清洗槽和右清洗槽上分别设置有左密封盖和右密封盖。
5.根据权利要求1所述的隐形眼镜清洗仪,其特征在于:所述左清洗槽和右清洗槽之间相互连通设置。
6.根据权利要求5所述的隐形眼镜清洗仪,其特征在于:所述清洗槽上扣合有密封盖。
7.根据权利要求1所述的隐形眼镜清洗仪,其特征在于:所述正电极和负电极为柱状、片状或块状。
8.根据权利要求1所述的隐形眼镜清洗仪,其特征在于:所述清洗机构还包括振动器,所述振动器设置于清洗仪主体上或清洗槽内侧。
9.根据权利要求1所述的隐形眼镜清洗仪,其特征在于:所述清洗机构还包括导电片,所述导电片的一端与电路板电连接、另一端与电极组电连接。
10.根据权利要求1所述的隐形眼镜清洗仪,其特征在于:所述清洗机构还包括转接座,所述转接座的底端固定设置在电路板上,所述转接座的顶端与电极组电连接。
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