CN205960001U - 一种新型晶体硅太阳能电池 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种新型晶体硅太阳能电池,包括衬底、多晶硅薄膜,衬底与多晶硅薄膜之间设有钝化层,钝化层表面设有氧化硅薄膜,氧化硅薄膜与多晶硅薄膜之间设有上电极;上电极与多晶硅薄膜之间设有P型硅基体层,多晶硅薄膜上设有P‑N结,衬底设置在背面AI电极上;所述背面AI电极与衬底之间设有背面ZnO基薄膜层,P型硅基体层与多晶硅薄膜之间设有正面ZnO基薄膜层,所述正面ZnO基薄膜层、背面ZnO基薄膜层均为ZnO、ZnMgO或ZnCaO薄膜,所述背面AI电极为线状电极,所述背面ZnO基薄膜层的厚度为45—100纳米,所述正面ZnO基薄膜层的厚度为30—100纳米。本实用新型提高太阳能电池的光电转换效率。

Description

一种新型晶体硅太阳能电池
技术领域
本实用新型涉及太阳能电池工程领域,具体涉及一种新型晶体硅太阳能电池。
背景技术
太阳能是取之不尽、用之不竭的绿色可再生能源。太阳能发电是世界各国重点扶持的新能源产业,近几年来世界光伏发电产业均以30%的速度高速增长。2015年全球太阳能电池产能达到15GW,其中晶体硅太阳能电池超过10GW,占整个市场的四分之三以上。目前晶体硅太阳能电池的光电转换效率平均为20%左右,光伏发电成本为1.5—2.2元/度,相对于民用电几个,其成本依然过高,难以并网发电。
由于现有晶体硅太阳能电池的工艺相对简单,电池背面的硅片表面没有钝化,有大量缺陷态存在,电池的光电转换效率降低,影响太阳能电池的性能。
基于此,研究开发设计一种新型晶体硅太阳能电池。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种新型晶体硅太阳能电池,以解决现有技术中太阳能电池的电池光电转换率低等技术问题。
本实用新型通过下述技术方案实现:
一种新型晶体硅太阳能电池,包括衬底、多晶硅薄膜,衬底与多晶硅薄膜之间设有钝化层,钝化层表面设有氧化硅薄膜,氧化硅薄膜与多晶硅薄膜之间设有上电极;上电极与多晶硅薄膜之间设有P型硅基体层,多晶硅薄膜上设有P-N结,衬底设置在背面AI电极上;
所述背面AI电极与衬底之间设有背面ZnO基薄膜层,P型硅基体层与多晶硅薄膜之间设有正面ZnO基薄膜层,所述正面ZnO基薄膜层、背面ZnO基薄膜层均为ZnO、ZnMgO或ZnCaO薄膜,所述背面AI电极为线状电极,所述背面ZnO基薄膜层的厚度为45—100纳米,所述正面ZnO基薄膜层的厚度为30—100纳米。
在P型硅基体层与多晶硅薄膜之间设有正面ZnO基薄膜层,正面ZnO基薄膜层为透明导电薄膜,可同时作为太阳能电池的前电极,减反射层和钝化层,
则整个电池的正面作为有效受光面,实现光线的最大利用率,提高光生载离子的收集效率,大幅提高晶体硅太阳能电池的光电转换效率。
所述背面AI电极与衬底之间设有背面ZnO基薄膜层,背面ZnO基薄膜层,可作为钝化层,能够消除电池背面的硅表面态或体缺陷态,钝化效果好,工艺简单,可大幅降低-空穴复合率,增加电池的光电转换效率;同时,背面ZnO基薄膜层,电池背面具有清晰的界面,可提高光的内部反射率,形成二次吸收,可进一步提高晶体硅太阳能电池的转换效率。
优选,所述多晶硅薄膜为N型多晶硅薄膜,多晶硅薄膜的厚度为5—20微米。
优选,所述氧化硅薄膜的厚度为2—20nm,折射率为2.1—2.4。
优选,所述钝化层为透明导电的氧化物薄层,钝化层的厚度为55—65nm。
优选,所述衬底上设有增加透光率的绒毛层。
优选,所述衬底为非晶硅的玻璃层。
本实用新型与现有技术相比,具有如下的优点和有益效果:
(1)本实用新型通过设置钝化层,在钝化层上设置氧化硅薄膜,这种氧化硅薄膜可以释放在高电势下氮化硅薄膜中储存的正电荷,从而具有抗高电势下衰减的作用,并且提高太阳能电池的光电转换效率。
(2)本实用新型在钝化层的基础上,进一步采用正面ZnO基薄膜层、背面ZnO基薄膜层,两者可以为相同的薄膜,也可采用同一种薄膜沉积方法双面同时镀制而成,技术成熟,工艺简单,成本低。
(3)与现有多晶硅太阳能电池相比,本实用新型所述的晶体硅太阳能电池工艺简单,光电转换效率显著增加,电池性能和稳定性增加,使用周期长。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本实用新型实施例的进一步理解,构成本申请的一部分,并不构成对本实用新型实施例的限定。在附图中:
图1为本实用新型结构示意图;
附图中标记及对应的零部件名称:
1-背面AI电极,2-衬底,3-钝化层,4-氧化硅薄膜,5-上电极,6-多晶硅薄膜,7-背面ZnO基薄膜层,8-P型硅基体层,9-正面ZnO基薄膜层。
具体实施方式
为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明白,下面结合实施例和附图,对本实用新型作进一步的详细说明,本实用新型的示意性实施方式及其说明仅用于解释本实用新型,并不作为对本实用新型的限定。
实施例1:
如图1所示,本实施例一种新型晶体硅太阳能电池,包括衬底2、多晶硅薄膜6,衬底2与多晶硅薄膜6之间设有钝化层3,钝化层3表面设有氧化硅薄膜4,氧化硅薄膜4与多晶硅薄膜6之间设有上电极5;上电极5与多晶硅薄膜6之间设有P型硅基体层8,多晶硅薄膜6上设有P-N结,衬底2设置在背面AI电极1上;
所述背面AI电极1与衬底2之间设有背面ZnO基薄膜层7,P型硅基体层8与多晶硅薄膜6之间设有正面ZnO基薄膜层9,所述正面ZnO基薄膜层9、背面ZnO基薄膜层7均为ZnO、ZnMgO或ZnCaO薄膜,所述背面AI电极为线状电极,所述背面ZnO基薄膜层7的厚度为45—100纳米,所述正面ZnO基薄膜层9的厚度为30—100纳米。
其中,所述多晶硅薄膜6为N型多晶硅薄膜,多晶硅薄膜6的厚度为5—20微米。
其中,所述氧化硅薄膜4的厚度为2—20nm,折射率为2.1—2.4。
其中,所述钝化层3为透明导电的氧化物薄层,钝化层3的厚度为55—65nm。
其中,所述衬底2上设有增加透光率的绒毛层。
其中,所述衬底2为非晶硅的玻璃层。
本实施例中通过设置钝化层,在钝化层上设置氧化硅薄膜,这种氧化硅薄膜可以释放在高电势下氮化硅薄膜中储存的正电荷,从而具有抗高电势下衰减的作用,并且提高太阳能电池的光电转换效率。
本实施例在钝化层的基础上,进一步采用正面ZnO基薄膜层、背面ZnO基薄膜层,两者可以为相同的薄膜,也可采用同一种薄膜沉积方法双面同时镀制而成,技术成熟,工艺简单,成本低。
本实施例中所述晶体硅太阳能电池,与现有多晶硅太阳能电池相比,本实施例所述的晶体硅太阳能电池工艺简单,光电转换效率显著增加,电池性能和稳定性增加,使用周期长。
以上所述的具体实施方式,对本实用新型的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是,以上所述仅为本实用新型的具体实施方式而已,并不用于限定本实用新型的保护范围,凡在本实用新型的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种新型晶体硅太阳能电池,其特征在于,包括衬底(2)、多晶硅薄膜(6),衬底(2)与多晶硅薄膜(6)之间设有钝化层(3),钝化层(3)表面设有氧化硅薄膜(4),氧化硅薄膜(4)与多晶硅薄膜(6)之间设有上电极(5);上电极(5)与多晶硅薄膜(6)之间设有P型硅基体层(8),多晶硅薄膜(6)上设有P-N结,衬底(2)设置在背面AI电极(1)上;
所述背面AI电极(1)与衬底(2)之间设有背面ZnO基薄膜层(7),P型硅基体层(8)与多晶硅薄膜(6)之间设有正面ZnO基薄膜层(9),所述正面ZnO基薄膜层(9)、背面ZnO基薄膜层(7)均为ZnO、ZnMgO或ZnCaO薄膜,所述背面AI电极为线状电极,所述背面ZnO基薄膜层(7)的厚度为45—100纳米,所述正面ZnO基薄膜层(9)的厚度为30—100纳米。
2.根据权利要求1所述的一种新型晶体硅太阳能电池,其特征在于:所述多晶硅薄膜(6)为N型多晶硅薄膜,多晶硅薄膜(6)的厚度为5—20微米。
3.根据权利要求2所述的一种新型晶体硅太阳能电池,其特征在于:所述氧化硅薄膜(4)的厚度为2—20nm,折射率为2.1—2.4。
4.根据权利要求3所述的一种新型晶体硅太阳能电池,其特征在于:所述钝化层(3)为透明导电的氧化物薄层,钝化层(3)的厚度为55—65nm。
5.根据权利要求4所述的一种新型晶体硅太阳能电池,其特征在于:所述衬底(2)上设有增加透光率的绒毛层。
6.根据权利要求5所述的一种新型晶体硅太阳能电池,其特征在于:所述衬底(2)为非晶硅的玻璃层。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106057952A (zh) * 2016-08-22 2016-10-26 四川英发太阳能科技有限公司 一种新型晶体硅太阳能电池及其制备方法

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