CN205885800U - 一种推拿按摩结构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种推拿按摩结构，包括底座、电机、传动轴、至少一组按摩组件，按摩组件包括按摩滚轮、偏心轮，偏心轮设置于按摩滚轮上，按摩滚轮上阵列设置有脚趾按摩头，电机设置于底座上并通过传动轴驱动按摩滚轮滚动，按摩组件还包括推拿按摩件、限位销，推拿按摩件上分别阵列设置有足跟按摩头、足弓按摩头，所述的推拿按摩件末端设置于偏心轮上，推拿按摩件前端设置有长孔，限位销设置于底座上并穿过推拿按摩件前端的长孔。该推拿按摩结构在按摩过程中，能对脚趾进行滚动按摩，对足跟以及足弓部位进行前后推拿以及上下按压，从而起到推拿按摩效果，既丰富了足部按摩的形式，且能对足部进行全方位的按摩，使按摩效果更佳。

Description

一种推拿按摩结构

技术领域

本实用新型涉及按摩结构，尤其涉及一种推拿按摩结构。

背景技术

足部按摩机或者说足疗机是一种能够对足底进行按摩的健身器材，能够促进人体的血液循环和新陈代谢。目前市场上的足疗机在对足底进行按摩时，其按摩结构一般是通过对足底进行滚动式按摩以及按压式按摩来达到对足底进行按摩的目的，但这种按摩结构在按摩时形式较为单一，只是简单地对足底的某一区域进行按压或滚动，按摩效果不佳。

发明内容

本实用新型针对现有技术中存在的按摩时形式较为单一、按摩效果不佳等缺陷，提供了一种新的推拿按摩结构。

为了解决上述技术问题，本实用新型通过以下技术方案实现：

一种推拿按摩结构，包括底座、电机、传动轴、至少一组按摩组件，所述的按摩组件包括按摩滚轮、偏心轮，所述的偏心轮设置于按摩滚轮上，所述的按摩滚轮上阵列设置有脚趾按摩头，所述的电机设置于底座上并通过传动轴驱动按摩滚轮滚动，所述的按摩组件还包括推拿按摩件、限位销，所述的推拿按摩件上分别阵列设置有足跟按摩头、足弓按摩头，所述的推拿按摩件末端设置于偏心轮上，推拿按摩件前端设置有长孔，所述的限位销设置于底座上并穿过推拿按摩件前端的长孔。

本实用新型中的电机通过传动轴的传动能够带动按摩组件的偏心轮进行转动，从而带动按摩滚轮做偏心转动，并同时带动推拿按摩件前后移动，又因推拿按摩件前端的长孔被底座上的限位销所限位，且推拿按摩件的末端是设置于偏心轮上，则推拿按摩件被前后移动到位后，随着偏心轮的继续转动，将被向上顶起或被向下按压。因此在按摩过程中，按摩滚轮上的脚趾按摩头将对脚趾进行滚动按摩，推拿按摩件在前后移动以及上下移动的过程中，推拿按摩件上的足跟按摩头、足弓按摩头将会对足跟以及足弓部位进行前后推拿以及上下按压，起到推拿按摩效果，从而丰富了足部按摩的形式，且能对足部进行全方位的按摩，按摩效果更佳。

作为优选，上述所述的一种推拿按摩结构，所述的底座上还设置有限位销固定座，所述的限位销两端位于限位销固定座上。限位销固定座用来配合限位销的使用，可以使按摩过程中推拿按摩件更加稳固。

作为优选，上述所述的一种推拿按摩结构，所述的推拿按摩件呈凸字型。凸字型推拿按摩件符合人的脚前宽后窄的特点，在使用过程中能够更好地与足部贴合，按摩效果更好。

作为优选，上述所述的一种推拿按摩结构，所述的推拿按摩件上阵列设置的足弓按摩头呈中间高两边低的正态分布。人的足弓中部穴位最为密集，且受压力能力最强，两侧穴位相对较少，且受压力能力较弱。按摩头中间高、两侧低的正态分布设计，在按压过程中对足部中间按压力较强，对两侧的按压力相对较小，既能着重按压足弓中部的密集穴位，又能防止过重按压两侧导致疼痛。并且，人的足弓中部略微凹陷，阵列设置的足弓按摩头呈中间高、两边低的正态分布设计能够更好地与足弓贴合。

作为优选，上述所述的一种推拿按摩结构，所述的推拿按摩件上阵列设置的足跟按摩头呈中间低两边高的倒正态分布。人的足跟中部略突出，中间低两边高的倒正态分布的足跟按摩头正好可以托住足跟部分，在按摩过程中能够更好地与足跟贴合，避免打滑，起到更好的按摩效果。

作为优选，上述所述的一种推拿按摩结构，所述的足跟按摩头、足弓按摩头顶部还设置有软垫。软垫能在按摩过程中起到缓冲作用，且质地柔软，富有弹性，按摩时更加舒适。

作为优选，上述所述的一种推拿按摩结构，所述的按摩滚轮上阵列设置的脚趾按摩头呈交错分布且各个脚趾按摩头呈弧型。按摩滚轮在使用时是滚动运转的，人的脚趾较为柔软，且脚趾分为脚趾头和脚趾关节，凹凸不平，弧型的脚趾按摩头相对平滑，既符合按摩滚轮滚动的特点，也可以避免按痛脚趾，按摩效果更好。

所谓优选，上述所述的一种推拿按摩结构，所述的按摩组件为2组。2组按摩组件能更好地配合人的双足进行按摩，按摩效果更好。

附图说明

图1为本实用新型一种推拿按摩结构的结构示意图；

图2为本实用新型一种推拿按摩结构的爆炸图；

图3为本实用新型一种推拿按摩结构的剖面结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图1-3和具体实施方式对本实用新型作进一步详细描述，但它们不是对本实用新型的限制：

实施例1

如图1、图2、图3所示，一种推拿按摩结构，包括底座8、电机9、传动轴4、至少一组按摩组件3，所述的按摩组件3包括按摩滚轮2、偏心轮12，所述的偏心轮12设置于按摩滚轮2上，所述的按摩滚轮2上阵列设置有脚趾按摩头1，所述的电机9设置于底座8上并通过传动轴4驱动按摩滚轮2滚动，所述的按摩组件3还包括推拿按摩件5、限位销13，所述的推拿按摩件5上分别阵列设置有足跟按摩头11、足弓按摩头10，所述的推拿按摩件5末端设置于偏心轮12上，推拿按摩件5前端设置有长孔6，所述的限位销13设置于底座8上并穿过推拿按摩件5前端的长孔6。

正常使用时，底座8上的电机9带动传动轴4轴向转动，传动轴4带动按摩组件3中的偏心轮12转动，则按摩滚轮2将在偏心轮12的带动下做偏心转动从而使得按摩滚轮2上的脚趾按摩头1对足部的脚趾进行滚动按摩，推拿按摩件5在偏心轮12的带动下将前后移动，推拿按摩件5在前后移动的过程中，又因推拿按摩件5上的长孔6被限位销13所限位，则推拿按摩件5在前后移动到位后，随着偏心轮12的继续转动，推拿按摩件5将上下移动，从而使得推拿按摩件5上的足跟按摩头11、足弓按摩头10能够分别对足部的足跟、足弓进行前后推拿按摩以及上下按压按摩，起到了对足部的全方面按摩的效果。

作为优选，所述的底座8上还设置有限位销固定座7，所述的限位销13两端位于限位销固定座7上。

作为优选，所述的推拿按摩件5呈凸字型。

作为优选，所述的推拿按摩件5上阵列设置的足弓按摩头10呈中间高两边低的正态分布。

作为优选，所述的推拿按摩件5上阵列设置的足跟按摩头11呈中间低两边高的倒正态分布。

作为优选，所述的足跟按摩头11、足弓按摩头10顶部还设置有软垫。

作为优选，所述的按摩滚轮2上阵列设置的脚趾按摩头1呈交错分布且各个脚趾按摩头1呈弧型。

作为优选，所述的按摩组件3为2组。

总之，以上所述仅为本实用新型的较佳实施例，凡依本实用新型申请专利的范围所作的均等变化与修饰，皆应属本实用新型的涵盖范围。

Claims (8)

1.一种推拿按摩结构，包括底座（8）、电机（9）、传动轴（4）、至少一组按摩组件（3），所述的按摩组件（3）包括按摩滚轮（2）、偏心轮（12），所述的偏心轮（12）设置于按摩滚轮（2）上，所述的按摩滚轮（2）上阵列设置有脚趾按摩头（1），所述的电机（9）设置于底座（8）上并通过传动轴（4）驱动按摩滚轮（2）滚动，其特征在于：所述的按摩组件（3）还包括推拿按摩件（5）、限位销（13），所述的推拿按摩件（5）上分别阵列设置有足跟按摩头（11）、足弓按摩头（10），所述的推拿按摩件（5）末端设置于偏心轮（12）上，推拿按摩件（5）前端设置有长孔（6），所述的限位销（13）设置于底座（8）上并穿过推拿按摩件（5）前端的长孔（6）。

2.根据权利要求1所述的一种推拿按摩结构，其特征在于：所述的底座（8）上还设置有限位销固定座（7），所述的限位销（13）两端位于限位销固定座（7）上。

3.根据权利要求1所述的一种推拿按摩结构，其特征在于：所述的推拿按摩件（5）呈凸字型。

4.根据权利要求1所述的一种推拿按摩结构，其特征在于：所述的推拿按摩件（5）上阵列设置的足弓按摩头（10）呈中间高两边低的正态分布。

5.根据权利要求1所述的一种推拿按摩结构，其特征在于：所述的推拿按摩件（5）上阵列设置的足跟按摩头（11）呈中间低两边高的倒正态分布。

6.根据权利要求1所述的一种推拿按摩结构，其特征在于：所述的足跟按摩头（11）、足弓按摩头（10）顶部还设置有软垫。

7.根据权利要求1所述的一种推拿按摩结构，其特征在于：所述的按摩滚轮（2）上阵列设置的脚趾按摩头（1）呈交错分布且各个脚趾按摩头（1）呈弧型。

8.根据权利要求1所述的一种推拿按摩结构，其特征在于：所述的按摩组件（3）为2组。