CN205762630U - 硅片清洗系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开一种硅片清洗系统，包括清洗槽和储水罐；所述清洗槽和储水罐通过管路连接；所述储水罐设有第一水位传感器和第二水位传感器；所述第一水位传感器在储水罐上端，所述第二水位传感器在储水罐下端；所述储水罐一侧还设有出水口；所述管路设有第一水泵；所述出水口设有第二水泵；所述第一水位传感器、第二水位传感器、第一水泵和第二水泵与控制器电气连接。本实用新型的硅片清洗系统具备自动控制储水罐内废水的水位，无需人工职守，大大提高了工作效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种硅片清洗系统。
背景技术
现有技术的硅片清洗槽包括清洗槽和储水罐，储水罐用于收集清洗槽的废水，并将废水用于其他洗涤程序，提高了水的利用率，但是这种硅片清洗槽需要人工职守，储水罐水量满了就要及时排放，反而降低了工人的工作效率。
实用新型内容
(一)要解决的技术问题
本实用新型的目的就是要克服上述缺点，旨在提供一种硅片清洗系统。
(二)技术方案
为达到上述目的，本实用新型的硅片清洗系统，包括清洗槽和储水罐；所述清洗槽和储水罐通过管路连接；所述储水罐设有第一水位传感器和第二水位传感器；所述第一水位传感器在储水罐上端，所述第二水位传感器在储水罐下端；所述储水罐一侧还设有出水口；所述管路设有第一水泵；所述出水口设有第二水泵；所述第一水位传感器、第二水位传感器、第一水泵和第二水泵与控制器电气连接。
进一步，所述第一水位传感器用于检测储水罐内水量上限，当储水罐内水量触发第一水位传感器时，控制器启动第二水泵，将储水罐内的水排出。
进一步，所述第二水位传感器用于检测储水罐内水量下限，当储水罐内水量触发第二水位传感器时，控制器关闭第二水泵，储水罐停止排水。
进一步，所述第一水泵用于将清洗槽内的水输送至储水罐。
进一步，所述清洗槽内还设有过滤网。
(三)有益效果
与现有技术相比，本实用新型的技术方案具有以下优点：本实用新型的硅片清洗系统具备自动控制储水罐内废水的水位，无需人工职守，大大提高了工作效率。
附图说明
图1为本实用新型的硅片清洗系统的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。
如图1所示，本实用新型的硅片清洗系统，包括清洗槽1和储水罐2；所述清洗槽1和储水罐2通过管路10连接；所述储水罐2设有第一水位传感器3和第二水位传感器4；所述第一水位传感器3在储水罐2上端，所述第二水位传感器4在储水罐2下端；所述储水罐2一侧还设有出水口5；所述管路10设有第一水泵6；所述出水口5设有第二水泵7；所述第一水位传感器3、第二水位传感器4、第一水泵6和第二水泵7与控制器8电气连接。
所述第一水位传感器3用于检测储水罐2内水量上限，当储水罐2内水量触发第一水位传感器3时，第一水位传感器3发送开启信号至控制器8，控制器8启动第二水泵7，将储水罐2内的水排出。
所述第二水位传感器4用于检测储水罐2内水量下限，当储水罐2内水量触发第二水位传感器4时，第二水位传感器4发送关闭信号给控制器8，控制器8关闭第二水泵7，储水罐2停止排水。
所述第一水泵6用于将清洗槽1内的水输送至储水罐2。
所述清洗槽1内还设有过滤网9，起到过滤大颗粒垃圾的作用。
本实用新型的硅片清洗系统具备自动控制储水罐内废水的水位，无需人工职守，大大提高了工作效率。
综上所述，上述实施方式并非是本实用新型的限制性实施方式，凡本领域的技术人员在本实用新型的实质内容的基础上所进行的修饰或者等效变形，均在本实用新型的技术范畴。
Claims (5)
1.一种硅片清洗系统，其特征在于：包括清洗槽(1)和储水罐(2)；所述清洗槽(1)和储水罐(2)通过管路(10)连接；所述储水罐(2)设有第一水位传感器(3)和第二水位传感器(4)；所述第一水位传感器(3)在储水罐(2)上端，所述第二水位传感器(4)在储水罐(2)下端；所述储水罐(2)一侧还设有出水口(5)；所述管路(10)设有第一水泵(6)；所述出水口(5)设有第二水泵(7)；所述第一水位传感器(3)、第二水位传感器(4)、第一水泵(6)和第二水泵(7)与控制器(8)电气连接。
2.如权利要求1所述的硅片清洗系统，其特征在于：所述第一水位传感器(3)用于检测储水罐(2)内水量上限，当储水罐(2)内水量触发第一水位传感器(3)时，控制器(8)启动第二水泵(7)，将储水罐(2)内的水排出。
3.如权利要求2所述的硅片清洗系统，其特征在于：所述第二水位传感器(4)用于检测储水罐(2)内水量下限，当储水罐(2)内水量触发第二水位传感器(4)时，控制器(8)关闭第二水泵(7)，储水罐(2)停止排水。
4.如权利要求3所述的硅片清洗系统，其特征在于：所述第一水泵(6)用于将清洗槽(1)内的水输送至储水罐(2)。
5.如权利要求4所述的硅片清洗系统，其特征在于：所述清洗槽(1)内还设有过滤网(9)。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CN201620762668.4U CN205762630U (zh) | 2016-07-18 | 2016-07-18 | 硅片清洗系统 |
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| CN201620762668.4U CN205762630U (zh) | 2016-07-18 | 2016-07-18 | 硅片清洗系统 |
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Family
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| CN201620762668.4U Expired - Fee Related CN205762630U (zh) | 2016-07-18 | 2016-07-18 | 硅片清洗系统 |
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| CN (1) | CN205762630U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108722992A (zh) * | 2018-06-15 | 2018-11-02 | 西安碳星半导体科技有限公司 | Cvd单晶金刚石晶种的清洗方法 |
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2016
- 2016-07-18 CN CN201620762668.4U patent/CN205762630U/zh not_active Expired - Fee Related
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