CN205748528U - 一种电磁流量计用的水垢清洗装置 - Google Patents

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张文泽
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Abstract

本实用新型涉及电磁流量计清洗设备技术领域,尤其涉及一种电磁流量计用的水垢清洗装置。本实用新型的电磁流量计用的水垢清洗装置包括电磁流量计、液体管和清洗液储槽,液体管的一端与电磁流量计的内腔连通,另一端与清洗液储槽连通,清洗液储槽的底面高于电磁流量计内的液面最高处,以使清洗液储槽能通过液体管向电磁流量计的内腔注入清洗液,注入电磁流量计内的清洗液与水垢发生反应,以清除电磁流量计内的水垢。该装置结构简单、易于操作,能有效清除电磁流量计内壁和电极表面的水垢,且不易损坏电磁流量计,使电磁流量计能重新计量准确,以满足工业生产的需要。

Description

一种电磁流量计用的水垢清洗装置
技术领域
本实用新型涉及电磁流量计清洗设备技术领域,尤其涉及一种电磁流量计用的水垢清洗装置。
背景技术
电磁流量计是基于法拉第电磁感应原理制作而成的一种流量计,其工作原理为:当导电性介质流经流量计时,切割流量计电极励磁线圈从而感生出电势;不同流速的导电性介质就会感生出不同大小的电势,通过表头转化成不同的流量。此流量计精度等级较高,能显示瞬时流量、累计流量,使用方便,结构简单,易于安装,广泛用于工业、农业、医药、食品等行业。
在实际工业生产测量中由于测量介质中含有水垢,水垢的主要成分为:CaCO3、Mg(OH)2,不易清除,经过一段时间使用后则会在电磁流量计内的测量电极表面聚结水垢,从而造成测量不准确,进而影响工业生产。
基于此种情况之下,特发明一种电磁流量计用的水垢清洗装置。
实用新型内容
(一)要解决的技术问题
本实用新型要解决的技术问题是提供了一种电磁流量计用的水垢清洗装置,能有效清除电磁流量计内壁和电极表面的水垢,且不易损坏流量计,以保证流量计的计量准确,满足正常的工业生产需要。
(二)技术方案
为了解决上述技术问题,本实用新型提供了一种电磁流量计用的水垢清洗装置,包括电磁流量计、液体管和清洗液储槽,所述液体管的一端与电磁流量计的内腔连通,另一端与所述清洗液储槽连通,所述清洗液储槽的底面高于所述电磁流量计内的液面最高处,以使所述清洗液储槽能通过液体管向电磁流量计的内腔注入清洗液,注入所述电磁流量计内的清洗液与水垢发生反应,以清除所述电磁流量计内的水垢。
进一步的,所述液体管上设置有第二阀门。
进一步的,所述清洗液储槽通过加热装置与所述液体管连通,所述清洗液储槽和加热装置之间设有第一阀门,所述加热装置与液体管之间设有第五阀门。
进一步的,还包括残液槽,所述残液槽与液体管连通,所述残液槽和液体管之间设置有第三阀门。
进一步的,还包括清洗水箱,所述清洗水箱与液体管连通,所述清洗水箱和液体管之间设置有第四阀门。
进一步的,所述清洗水箱通过水泵与所述液体管连通。
进一步的,还包括排气管,所述排气管与电磁流量计的内腔连通,以将反应生成的气体排出。
进一步的,还包括旋转刷,所述旋转刷伸入电磁流量计的内腔中,且所述旋转刷的转轴连接有旋转电机,所述旋转电机带动旋转刷在电磁流量计的内腔中旋转,以通过旋转搅拌使所述清洗液与水垢之间的反应作用加速。
进一步的,还包括底板,该水垢清洗装置安装于底板上,所述底板的底面均匀安装有多个万向轮;所述清洗液储槽的底面与底板之间的距离为H,所述电磁流量计内的液面最高处与底板之间的距离为h,则有H>h。
进一步的,所述清洗液为醋酸溶液。
(三)有益效果
本实用新型的上述技术方案具有以下有益效果:本实用新型的电磁流量计用的水垢清洗装置包括电磁流量计、液体管和清洗液储槽,液体管的一端与电磁流量计的内腔连通,另一端与清洗液储槽连通,清洗液储槽的底面高于电磁流量计内的液面最高处,以使清洗液储槽能通过液体管向电磁流量计的内腔注入清洗液,注入电磁流量计内的清洗液与水垢发生反应,以清除电磁流量计内的水垢。该装置利用液体虹吸效应,使得清洗液储槽与电磁流量计之间存在高度差,从而使清洗液能进入电磁流量计的内腔中,并对电磁流量计的内壁和电极表面的水垢进行有效清除,该装置结构简单、易于操作,能有效清除电磁流量计内壁和电极表面的水垢,且不易损坏电磁流量计,使电磁流量计能重新计量准确,以满足工业生产的需要。
附图说明
图1为本实用新型实施例的电磁流量计用的水垢清洗装置的结构示意图。
其中,1、清洗液储槽;2、旋转电机;3、残液槽;4、电磁流量计;5、加热装置;6、排气管;7、清洗水箱;8、流量计支架;9、水泵;10、储槽支架;11、固定法兰;12、底板;13、旋转刷;14、内腔;15、第一阀门;16、第二阀门;17、第三阀门;18、第四阀门;19、第五阀门。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本实用新型的实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型,但不能用来限制本实用新型的范围。
在本实用新型的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上。术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”、“前端”、“后端”、“头部”、“尾部”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
如图1所示,本实施例所述的电磁流量计4用的水垢清洗装置包括电磁流量计4、液体管和清洗液储槽1,液体管的一端与电磁流量计4的内腔14连通,另一端与清洗液储槽1连通,清洗液储槽1的底面高于电磁流量计4内的液面最高处,优选清洗液储槽通过储槽支架10固定在高于电磁流量计内的液面最高处的位置,以使清洗液储槽1能通过液体管向电磁流量计4的内腔14注入清洗液,注入电磁流量计4内的清洗液与水垢发生反应,以清除电磁流量计4内的水垢。该装置利用液体虹吸效应,使得清洗液储槽1与电磁流量计4之间存在高度差,从而使清洗液能进入电磁流量计4的内腔14中,并对电磁流量计4的内壁和电极表面的水垢进行有效清除。
由于电磁流量计4的内壁和电极表面的水垢的成分主要为CaCO3、Mg(OH)2,因此,本实施例的清洗液优选为醋酸溶液,也可以选用其他易于清除上述成分的水垢的溶液。
为了便于固定电磁流量计4,本实施例的装置中设有固定平台,电磁流量计4竖直放置于流量计支架8上,流量计支架8的顶端设有用于固定电磁流量计的固定平台,电磁流量计的上下两端分别通过固定法兰11固定在流量计支架8上;在固定平台上设置有一通孔,通过该通孔将液体管与电磁流量计4连通,以确保清洗液和清洗水能分别顺畅进入电磁流量计4的内腔14中,且能确保反应后的残液可以顺畅的从电磁流量计4中流出。
本实施例中,醋酸溶液与水垢完全反应后,电磁流量计4的内腔14中会产生反应后气体和残液,为了便于排出上述的反应后的残液,本实施例的装置还包括残液槽3,残液槽3与液体管连通,反应后的残液自电磁流量计4的内腔14中流出,然后通过液体管流入残液槽3内,以进行残液回收;为了便于排出上述的反应后的气体,本实施例的装置还包括排气管6,排气管6与电磁流量计4的内腔14连通,以将反应生成的气体排出,优选排气管6竖直向上设置于电磁流量计4上,以便反应后的生成的气体自动向上移动,通过排气管6自动排出。
为了使本实施例的清洗液具有适当的反应温度,优选清洗液储槽1通过加热装置5与液体管连通。
为了便于对反应后的电磁流量计4的内腔14进行清洗,以确保电磁流量计4的计量准确,本实施例的装置还包括清洗水箱7,清洗水箱7与液体管连通,以便将清洗水箱7内的清洗水通过液体管送入电磁流量计4内;优选清洗水箱7通过水泵9与液体管连通,通过水泵9为清洗水的输送提供动力。
为了便于分别控制清洗液、残液和清洗水按需进出电磁流量计4的内腔14,本实施例中,优选液体管上设置有第二阀门16,利用第二阀门16可以控制液体管的开闭,以控制液体管内的液体进出电磁流量计4;在清洗液储槽1和加热装置5之间设有第一阀门15,以控制清洗液按需进入加热装置5;在加热装置5与液体管之间设有第五阀门19,以控制加热后的清洗液按需进入液体管内,然后通过液体管进入电磁流量计4中;在残液槽3和液体管之间设置有第三阀门17,以控制残液按需从电磁流量计4中通过液体管流入残液槽3中;在清洗水箱7和液体管之间设置有第四阀门18,以控制清洗水能按需进入液体管内,然后通过液体管进入电磁流量计4中。
本实施例的装置还包括旋转刷13,旋转刷13伸入电磁流量计4的内腔14中,且旋转刷13的转轴连接有旋转电机2,旋转电机2带动旋转刷13在电磁流量计4的内腔14中旋转,以通过旋转搅拌使清洗液与水垢之间的反应作用加速,从而加快清洗液与水垢的反应速率。
本实施例的装置还包括底板12,该水垢清洗装置安装于底板12上,底板12的底面均匀安装有多个万向轮,以便于移动该装置。
以下以醋酸溶液作为清洗液为例,对本实施例的装置进行详细说明,其中,清洗液储槽1的底面与底板12之间的距离为H,电磁流量计4内的液面最高处与底板12之间的距离为h,则有H>h。
本实施例的装置在对电磁流量计4进行清洗工作时,首先在清洗液储槽1内注满醋酸溶液,同时打开第一阀门15、第二阀门16和第五阀门19,且同时关闭第三阀门17和第四阀门18;启动加热装置5,利用清洗液储槽1离底板12上的水平基准面的高度H大于电磁流量计4的内腔14进满液后的液面最高处与上述水平基准面的高度h之间的高度差,使醋酸溶液利用高度差流进电磁流量计4的内腔14中。
当醋酸溶液达到高度h时,此时电磁流量计4的内腔14中充满醋酸溶液,电磁流量计4的内腔14中的水垢与醋酸溶液开始反应,同时关闭第二阀门16和第五阀门19,并启动旋转电机2,使旋转刷13持续刷洗电磁流量计4的内腔14侧壁,加快醋酸溶液与水垢的反应速率,在反应过程中观察排气管6内生成气体的剧烈程度;
当排气管6内的生成气体速率由剧烈逐渐呈现缓慢状态,甚至不产生气泡时,关闭旋转电机2,打开第二阀门16和第三阀门17,将反应后的残液排至残液槽3,待残液排净后,关闭第三阀门17,打开第五阀门19,使醋酸溶液再次进入电磁流量计4的内腔14中,待液面达到高度h后关闭第二阀门16和第五阀门19,同时启动旋转电机2加快水垢与醋酸的反应,待10分钟左右或更长时间(视电磁流量计4的内腔14中的水垢结构厚度而定)关闭旋转电机2,打开第二阀门16和第三阀门17,使残液排出至残液槽3。
待残液排完后关闭第三阀门17,打开第四阀门18并启动水泵9使清洗水注入电磁流量计4的内腔14中,直至注入高度h后,关停水泵9,关闭第二阀门16和第四阀门18,并启动旋转电机2;待旋转刷13旋转约3~5分钟后,关闭旋转电机2,打开第二阀门16和第三阀门17,使残液排至残液槽3;此后打开电磁流量计4上面的固定法兰11,检查电磁流量计4的内腔14中的水垢与醋酸是否完全反应,若未完全反应,则安装好固定法兰11,继续重复上述步骤,直至水垢清洗干净为止。
综上所述,本实施例的电磁流量计4用的水垢清洗装置包括电磁流量计4、液体管和清洗液储槽1,液体管的一端与电磁流量计4的内腔14连通,另一端与清洗液储槽1连通,清洗液储槽1的底面高于电磁流量计4内的液面最高处,以使清洗液储槽1能通过液体管向电磁流量计4的内腔14注入清洗液,注入电磁流量计4内的清洗液与水垢发生反应,以清除电磁流量计4内的水垢。该装置利用液体虹吸效应,使得清洗液储槽1与电磁流量计4之间存在高度差,从而使清洗液能进入电磁流量计4的内腔14中,并对电磁流量计4的内壁和电极表面的水垢进行有效清除,该装置结构简单、易于操作,能有效清除电磁流量计4内壁和电极表面的水垢,且不易损坏电磁流量计4,使电磁流量计4能重新计量准确,以满足工业生产的需要。
本实用新型的实施例是为了示例和描述起见而给出的,而并不是无遗漏的或者将本实用新型限于所公开的形式。很多修改和变化对于本领域的普通技术人员而言是显而易见的。选择和描述实施例是为了更好说明本实用新型的原理和实际应用,并且使本领域的普通技术人员能够理解本实用新型从而设计适于特定用途的带有各种修改的各种实施例。

Claims (10)

1.一种电磁流量计用的水垢清洗装置,其特征在于,包括电磁流量计、液体管和清洗液储槽,所述液体管的一端与电磁流量计的内腔连通,另一端与所述清洗液储槽连通,所述清洗液储槽的底面高于所述电磁流量计内的液面最高处,以使所述清洗液储槽能通过液体管向电磁流量计的内腔注入清洗液,注入所述电磁流量计内的清洗液与水垢发生反应,以清除所述电磁流量计内的水垢。
2.根据权利要求1所述的水垢清洗装置,其特征在于,所述液体管上设置有第二阀门。
3.根据权利要求1所述的水垢清洗装置,其特征在于,所述清洗液储槽通过加热装置与所述液体管连通,所述清洗液储槽和加热装置之间设有第一阀门,所述加热装置与液体管之间设有第五阀门。
4.根据权利要求1所述的水垢清洗装置,其特征在于,还包括残液槽,所述残液槽与液体管连通,所述残液槽和液体管之间设置有第三阀门。
5.根据权利要求1所述的水垢清洗装置,其特征在于,还包括清洗水箱,所述清洗水箱与液体管连通,所述清洗水箱和液体管之间设置有第四阀门。
6.根据权利要求5所述的水垢清洗装置,其特征在于,所述清洗水箱通过水泵与所述液体管连通。
7.根据权利要求1所述的水垢清洗装置,其特征在于,还包括排气管,所述排气管与电磁流量计的内腔连通,以将反应生成的气体排出。
8.根据权利要求1所述的水垢清洗装置,其特征在于,还包括旋转刷,所述旋转刷伸入电磁流量计的内腔中,且所述旋转刷的转轴连接有旋转电机,所述旋转电机带动旋转刷在电磁流量计的内腔中旋转,以通过旋转搅拌使所述清洗液与水垢之间的反应作用加速。
9.根据权利要求1所述的水垢清洗装置,其特征在于,还包括底板,该水垢清洗装置安装于底板上,所述底板的底面均匀安装有多个万向轮;所述清洗液储槽的底面与底板之间的距离为H,所述电磁流量计内的液面最高处与底板之间的距离为h,则有H>h。
10.根据权利要求1-9任一项所述的水垢清洗装置,其特征在于,所述清洗液为醋酸溶液。
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