CN205741198U - 一种溅射靶材自循环冷却装置 - Google Patents

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乔宪武
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Abstract

本实用新型属于磁控溅射领域,针对靶材散热技术,特别涉及一种溅射靶材自循环冷却装置。该装置包括靶材和散热结构,靶材采用合成射流方法降温,靶材对接密封在金属阴极上端,合成射流发生器固定在合成射流腔体内部,产生间歇射流气体,射流气体由合成射流腔体储存,沿喷嘴喷出,喷出的射流气体冲击靶材内侧肋片达到降温作用,升温后的气体进入散热通道,经降温的气体重新回到合成射流腔体循环使用。

Description

一种溅射靶材自循环冷却装置
技术领域
本发明属于磁控溅射领域,针对靶材散热技术,特别涉及一种溅射靶材自循环冷却装置。
背景技术
物理气相沉积技术作为一种全新的表面处理技术,这种技术科技含量高,零污染,并且能大大提高工具使用性能和使用寿命,得到了人们的广泛重视。电弧离子镀技术作为当今最成功的一种物理气相沉积技术,被广泛应用与刀具、模具及汽车零部件等表面的处理,也得到不断地提升和改进。电弧离子镀技术根据阴极电弧形状的不同有分为圆形弧、矩形弧及柱状弧等形式,其中应用最广泛的是圆弧靶技术,因为其体积小、重量轻、易操作,并且可根据真空设备腔体的大小,选择靶材数量,这就大大提高了其实际应用的可操作性。
在电弧离子镀技术中,靶材温度高,不利于稳定的输出等离子体,现有的阴极靶降温装置多采用水冷降温,其方法是在靶材背面通循环水,使得靶材保持较低温度。在生产过程中,随着靶材的消耗,需要经常更换靶材,防止冷却进入真空腔体,因此,这种方式更换靶材十分不方便,真空腔体极其容易进水,稍有不慎冷却水进入真空腔体,严重影响真空,大大降低镀膜质量,同时这也给更换靶材带来了极大的麻烦,再加上真空腔体上小圆弧靶数量少则几个多则几十个,这就更进一步增加了工作的繁琐程度,影响了生产效率的提高。
实用新型内容
本实用新型为了提高靶材散热效率,降低靶材更换的难度,设计一种溅射靶材自循环冷却装置,此装置能够有效地消除上述不足。
本实用新型的技术方案是:
一种溅射靶材自循环冷却装置,包括靶材和散热结构,靶材采用合成射流方法降温,靶材对接密封在金属阴极上端,合成射流发生器固定在合成射流腔体内部,产生间歇射流气体,射流气体由合成射流腔体储存,沿喷嘴喷出,喷出的射流气体冲击靶材内侧肋片达到降温作用,升温后的气体进入散热通道,经降温的气体重新回到合成射流腔体循环使用。
进一步讲:靶材呈水杯状金属结构,内侧包含肋片,并且能够对接密封在金属阴极上端,形成整体导电结构。
进一步讲:靶材与金属阴极组成密闭结构,气体在内部循环不外泄。
进一步讲:合成射流发生器由压电片带动震动膜高频震动产生合成射流气体。
进一步讲:散热通道的低温环境可以采用压缩空气制冷设备实现。
进一步讲:喷嘴与肋片的间隙距离可调。
本实用新型的有益效果在于:这种溅射靶材自循环冷却装置设备体积小,该设备能耗低,改变了以往水循环系统庞大的缺陷;更换靶材方便,只需对接拧紧靶材即可;靶材温度可控可调。
附图说明
图1为本实用新型结构图
具体实施方式
如图1所示,靶材1采用合成射流方法降温,靶材1对接密封在金属阴极7上端,合成射流发生器5产生间歇射流气体,射流气体由合成射流腔体4储存,沿喷嘴3喷出,喷出的射流气体冲击靶材1内侧肋片2达到降温作用,升温后的气体进入散热通道6,经降温的气体重新回到合成射流腔体4循环使用。
射流气体循环如图1所示,散热通道6的低温环境可以采用压缩空气制冷设备实现;靶材1温度通过喷嘴3与肋片2的间隙距离控制;同时可以通过压电片带动震动膜频率控制;也可以通过散热通道6的温度控制。
靶材1呈水杯状金属结构,内侧包含肋片2,并且能够对接密封在金属阴极7上端,形成整体导电结构,气体在内部循环不外泄。次结构体积小,安装方便。

Claims (6)

1.一种溅射靶材自循环冷却装置,包括靶材(1)和散热结构,其特征在于:靶材(1)采用合成射流方法降温,靶材(1)对接密封在金属阴极(7)上端,合成射流发生器(5)固定在合成射流腔体(4)内部,产生间歇射流气体,射流气体由合成射流腔体(4)储存,沿喷嘴(3)喷出,喷出的射流气体冲击靶材(1)内侧肋片(2)达到降温作用,升温后的气体进入散热通道(6),经降温的气体重新回到合成射流腔体(4)循环使用。
2.根据权利要求1所述一种溅射靶材自循环冷却装置,其特征在于:靶材(1)呈水杯状金属结构,内侧包含肋片(2),并且能够对接密封在金属阴极(7)上端,形成整体导电结构。
3.根据权利要求1或权利要求2所述一种溅射靶材自循环冷却装置,其特征在于:靶材(1)与金属阴极(7)组成密闭结构,气体在内部循环不外泄。
4.根据权利要求1所述一种溅射靶材自循环冷却装置,其特征在于:合成射流发生器(5)由压电片带动震动膜高频震动产生合成射流气体。
5.根据权利要求1所述一种溅射靶材自循环冷却装置,其特征在于:散热通道(6)的低温环境可以采用压缩空气制冷设备实现。
6.根据权利要求1所述一种溅射靶材自循环冷却装置,其特征在于:喷嘴(3)与肋片(2)的间隙距离可调。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN106399953A (zh) * 2016-06-21 2017-02-15 乔宪武 一种溅射靶材自循环冷却装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN106399953A (zh) * 2016-06-21 2017-02-15 乔宪武 一种溅射靶材自循环冷却装置
CN106399953B (zh) * 2016-06-21 2018-12-18 杭州联芳科技有限公司 一种溅射靶材自循环冷却装置

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Address after: 310018 School of science, China University of technology, Hangzhou, Zhejiang, China

Patentee after: CHINA JILIANG UNIVERSITY

Address before: 310018 China Institute of metrology, No. 258, Yuen Yuen Street, Zhejiang, Hangzhou

Patentee before: Qiao Xianwu

AV01 Patent right actively abandoned
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Granted publication date: 20161130

Effective date of abandoning: 20181218