CN205671619U - 平衡支撑鞋垫 - Google Patents

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杨维
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Abstract

本实用新型提供了一种平衡支撑鞋垫,包括鞋垫本体、跖骨及足跟弹力区、足弓支撑区、足跟平衡稳定凹槽和跖骨凸起支撑;跖骨及足跟弹力区设置在鞋垫本体的底面,跖骨凸起支撑设置在鞋垫本体的中部,对应穿着者跖骨中心位置,足跟平衡稳定凹槽设置在鞋垫本体的后端,对应穿着者足跟稳定区域,足弓支撑区设置在鞋垫本体的内侧中间位置,对应穿着者足弓区域。本实用新型的平衡支撑鞋垫,鞋垫本体底面设有跖骨及足跟弹力区,减轻行走时跖骨、足跟及足弓的压力,足弓支撑区支撑足弓正常高度,足跟平衡稳定凹槽稳定足跟位置,还可通过设置不同的支撑片,满足扁平足或高弓足的使用需求,本平衡支撑鞋垫能减轻足底压力,弹性护足,稳定脚部,舒适止滑。

Description

平衡支撑鞋垫
技术领域
本实用新型涉及一种平衡支撑鞋垫。
背景技术
现有的鞋垫,通常只能满足日常穿着要求,功能性不强,如缺乏减震、支撑功能,同时对特殊足形的照顾也不够周全,如扁平足及高弓足。
目前,还没有针对性进行设计的,可有助于正常足、扁平足及高弓足分别使用的鞋垫,来满足不同足形的人的需求。
现今,亟需一种平衡支撑鞋垫,在作为正常的运动休闲鞋垫使用的前提下,能够减轻震动,弹性护足,稳定脚部,舒适止滑,同时,还能贴合不同足形,如扁平足及高弓足,支撑足弓或填补足弓变形位置,从而缓解脚部疼痛。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种平衡支撑鞋垫,以解决现有技术中存在的,现有的鞋垫缺乏减震、支撑及稳定脚部的功能,并且不能满足不同足形的使用需求的问题。
为了实现上述目的,本实用新型采用以下技术方案:
本实用新型提供的一种平衡支撑鞋垫,包括鞋垫本体、跖骨及足跟弹力区、足弓支撑区、足跟平衡稳定凹槽和跖骨凸起支撑;所述跖骨及足跟弹力区设置在所述鞋垫本体的底面,所述跖骨凸起支撑设置在所述鞋垫本体的中部,对应穿着者跖骨中心位置,所述足跟平衡稳定凹槽设置在所述鞋垫本体的后端,对应穿着者足跟稳定区域,所述足弓支撑区设置在所述鞋垫本体的内侧中间位置,对应穿着者足弓区域。
进一步,所述跖骨及足跟弹力区包括跖骨弹力区和足跟弹力区。该技术方案的技术效果在于:跖骨及足跟弹力区的设置,缓解了行走时跖骨及足跟的压力,减轻了震动对脚部的损伤。
进一步,所述跖骨弹力区设置在所述鞋垫本体的前端,对应穿着者前脚掌区域;所述足跟弹力区设置在所述鞋垫本体的后端,对应穿着者足跟区域。该技术方案的技术效果在于:跖骨弹力区对穿着者的前脚掌区域进行减震,足跟弹力区对使用者的脚跟区域进行减震,减震更全面,能够更好地保护脚部。
进一步,所述鞋垫本体的底面还设有支撑片。该技术方案的技术效果在于:通过配置不同的支撑片,以适应不同的足形,来支撑扁平足的足弓,或填补高弓足的足弓变形位置,来缓解走路时脚底的疼痛感;或不设置支撑片,以满足正常足形的使用者的使用需求。
进一步,所述跖骨凸起支撑为三角形、圆形或椭圆形凸起。该技术方案的技术效果在于:跖骨凸起支撑对脚底进行支撑及按摩,缓冲脚底的压力,减轻行走时的震动对脚底的伤害。
进一步,所述足跟平衡稳定凹槽的高度为5-15mm。该技术方案的技术效果在于:足跟平衡稳定凹槽高5-15mm,更好地稳定脚部,减少行走时脚部的滑动,使使用者走路更稳。
进一步,所述足弓支撑区的形状为弧形。该技术方案的技术效果在于:足弓支撑区为弧形,具体地,类似于半月形,能够更好地贴合脚部内侧曲线,稳定脚部的位置。
进一步,所述鞋垫本体的材质为高分子聚氨酯材料。该技术方案的技术效果在于:高分子聚氨酯材料质地柔软,密度大、弹性好,能够减震释压,从而更好地达到弹性护足的目的。
进一步,所述跖骨及足跟弹力区的材质为GEL减震胶。该技术方案的技术效果在于:GEL减震胶能使跖骨及足跟弹力区更好地保护前脚掌,及缓冲脚跟的震动。
进一步,所述鞋垫本体的上表面覆盖有十字纹BK布。该技术方案的技术效果在于:十字纹BK布一方面清爽透气,另一方面又舒适止滑。
本实用新型提供的一种平衡支撑鞋垫,在鞋垫本体底面设置跖骨及足跟弹力区,缓解脚部的压力,减轻行走时跖骨、足跟及足弓的压力,足弓支撑区支撑足弓的正常高度,足跟平衡稳定凹槽稳定足跟位置,避免行走时足跟横向滑动从而保护脚踝,还可通过设置不同的支撑片,改变足弓及足跟的受力情况,满足扁平足或高弓足的使用需求,本平衡支撑鞋垫,前掌保护,足跟缓震,稳定脚部,舒适止滑,适于进行推广使用。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案,下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型实施例一提供的平衡支撑鞋垫的结构示意图;
图2为本实用新型实施例一提供的平衡支撑鞋垫的结构示意图;
图3为本实用新型实施例一提供的平衡支撑鞋垫的底面结构示意图;
图4为本实用新型实施例二提供的平衡支撑鞋垫的底面结构示意图;
图5为本实用新型实施例三提供的平衡支撑鞋垫的底面结构示意图。
附图标记:
1-鞋垫本体; 2-跖骨凸起支撑; 3-足跟平衡稳定凹槽;
4-足弓支撑区; 5-跖骨弹力区; 6-足跟弹力区;
7-支撑片。
具体实施方式
下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
图1为本实用新型实施例一提供的平衡支撑鞋垫的结构示意图;图2为本实用新型实施例一提供的平衡支撑鞋垫的结构示意图;图3为本实用新型实施例一提供的平衡支撑鞋垫的底面结构示意图;图4为本实用新型实施例二提供的平衡支撑鞋垫的底面结构示意图;图5为本实用新型实施例三提供的平衡支撑鞋垫的底面结构示意图。
实施例一:
在本实施例的可选方案中,如图1、图2所示,本实施例提供的平衡支撑鞋垫,包括鞋垫本体1、跖骨及足跟弹力区、足弓支撑区4、足跟平衡稳定凹槽3和跖骨凸起支撑2;所述跖骨及足跟弹力区设置在所述鞋垫本体1的底面,所述跖骨凸起支撑2设置在所述鞋垫本体1的中部,对应穿着者跖骨中心位置,所述足跟平衡稳定凹槽3设置在所述鞋垫本体1的后端,对应穿着者足跟稳定区域,所述足弓支撑区4设置在所述鞋垫本体1的内侧中间位置,对应穿着者足弓区域。目前的鞋垫,仅能满足正常的使用要求,功能性不强,缺乏减震、支撑功能,同时对特殊足形的照顾也不够周全,如扁平足及高弓足。在本实施例中,跖骨及足跟弹力区减轻行走时跖骨、足跟及足弓的压力,有效地保护了脚部,避免了因行走时震动而使脚部受到损伤;足弓支撑区4将足弓支撑到正常高度,减轻了行走时的疼痛感,足跟平衡稳定凹槽3将脚部更好地稳定住,避免行走时足跟横向滑动,进而保护脚踝。
在本实施例的可选方案中,如图3所示,进一步地,跖骨及足跟弹力区包括跖骨弹力区5和足跟弹力区6。在本实施例中,跖骨及足跟弹力区的设置,缓解了行走时足底的压力。
在本实施例的可选方案中,进一步地,跖骨弹力区5设置在鞋垫本体1的前端,对应穿着者前脚掌区域;足跟弹力区6设置在鞋垫本体1的后端,对应穿着者足跟区域。在本实施例中,跖骨弹力区5对穿着者的前脚掌区域进行减震,足跟弹力区6对使用者的脚跟区域进行减震,减震更全面。
在本实施例的可选方案中,如图1、图2所示,进一步地,跖骨凸起支撑2为三角形、圆形或椭圆形凸起。在本实施例中,跖骨凸起支撑2对脚底进行支撑及按摩,缓冲脚底的压力,减轻行走时的震动。
在本实施例的可选方案中,进一步地,足跟平衡稳定凹槽3的高度优选为10mm。在本实施例中,足跟平衡稳定凹槽3高10mm,更好地稳定脚部,减少行走时脚部的滑动,使用者走路更稳、更舒适。
在本实施例的可选方案中,进一步地,足弓支撑区4的形状为弧形。在本实施例中,足弓支撑区4为弧形,具体地,类似于半月形,能够更好地贴合脚部内侧曲线,稳定脚部的位置。
在本实施例的可选方案中,进一步地,鞋垫本体1的材质为高分子聚氨酯材料。在本实施例中,高分子聚氨酯材料密度大、弹性好,能够减震释压,从而更好地达到弹性护足的目的。
在本实施例的可选方案中,进一步地,跖骨及足跟弹力区的材质为GEL减震胶。在本实施例中,GEL减震胶能使跖骨及足跟弹力区更好地保护前脚掌,及缓冲脚跟的震动。
在本实施例的可选方案中,进一步地,鞋垫本体1的上表面覆盖有十字纹BK布。在本实施例中,十字纹BK布一方面清爽透气,另一方面又舒适止滑;高分子聚氨酯材料、GEL减震胶、十字纹BK布均为现有技术。
实施例二:
在本实施例的可选方案中,如图1、图2所示,本实施例提供的平衡支撑鞋垫,包括鞋垫本体1、跖骨及足跟弹力区、足弓支撑区4、足跟平衡稳定凹槽3和跖骨凸起支撑2;所述跖骨及足跟弹力区设置在所述鞋垫本体1的底面,所述跖骨凸起支撑2设置在所述鞋垫本体1的中部,对应穿着者跖骨中心位置,所述足跟平衡稳定凹槽3设置在所述鞋垫本体1的后端,对应穿着者足跟稳定区域,所述足弓支撑区4设置在所述鞋垫本体1的内侧中间位置,对应穿着者足弓区域。在本实施例中,跖骨及足跟弹力区减轻行走时跖骨、足跟及足弓的压力,有效地保护了脚部,避免了因行走时震动而使脚部受到损伤;足弓支撑区4将足弓支撑到正常高度,减轻了行走时的疼痛感,足跟平衡稳定凹槽3将脚部更好地稳定住,避免行走时足跟横向滑动,进而保护脚踝。
在本实施例的可选方案中,如图3所示,进一步地,跖骨及足跟弹力区包括跖骨弹力区5和足跟弹力区6。在本实施例中,跖骨及足跟弹力区的设置,缓解了行走时足底的压力,减轻了震动对脚部的损伤。
在本实施例的可选方案中,进一步地,跖骨弹力区5设置在鞋垫本体1的前端,对应穿着者前脚掌区域;足跟弹力区6设置在鞋垫本体1的后端,对应穿着者足跟区域。在本实施例中,跖骨弹力区5对穿着者的前脚掌区域进行减震,足跟弹力区6对使用者的脚跟区域进行减震,减震更全面。
在本实施例的可选方案中,如图4所示,进一步地,鞋垫本体1的底面还设有支撑片7。在本实施例中,通过配置支撑片7,来支撑扁平足的足弓。
在本实施例的可选方案中,如图1、图2所示,进一步地,跖骨凸起支撑2为三角形、圆形或椭圆形凸起。在本实施例中,跖骨凸起支撑2对脚底进行支撑及按摩,缓冲脚底的压力,减轻行走时的震动。
在本实施例的可选方案中,进一步地,足跟平衡稳定凹槽3的高度优选为10mm。在本实施例中,足跟平衡稳定凹槽3高10mm,更好地稳定脚部,减少行走时脚部的滑动,使用者走路更稳、更舒适。
在本实施例的可选方案中,进一步地,足弓支撑区4的形状为弧形。在本实施例中,足弓支撑区4为弧形,具体地,类似于半月形,能够更好地贴合脚部内侧曲线,稳定脚部的位置。
在本实施例的可选方案中,进一步地,鞋垫本体1的材质为高分子聚氨酯材料。在本实施例中,高分子聚氨酯材料密度大、弹性好,能够减震释压,从而更好地达到弹性护足的目的。
在本实施例的可选方案中,进一步地,跖骨及足跟弹力区的材质为GEL减震胶。在本实施例中,GEL减震胶能使跖骨及足跟弹力区更好地保护前脚掌,及缓冲脚跟的震动。
在本实施例的可选方案中,进一步地,鞋垫本体1的上表面覆盖有十字纹BK布。在本实施例中,十字纹BK布一方面清爽透气,另一方面又舒适止滑;高分子聚氨酯材料、GEL减震胶、十字纹BK布均为现有技术。
实施例三:
在本实施例的可选方案中,如图1、图2所示,本实施例提供的平衡支撑鞋垫,包括鞋垫本体1、跖骨及足跟弹力区、足弓支撑区4、足跟平衡稳定凹槽3和跖骨凸起支撑2;所述跖骨及足跟弹力区设置在所述鞋垫本体1的底面,所述跖骨凸起支撑2设置在所述鞋垫本体1的中部,对应穿着者跖骨中心位置,所述足跟平衡稳定凹槽3设置在所述鞋垫本体1的后端,对应穿着者足跟稳定区域,所述足弓支撑区4设置在所述鞋垫本体1的内侧中间位置,对应穿着者足弓区域。在本实施例中,跖骨及足跟弹力区减轻行走时跖骨、足跟及足弓的压力,有效地保护了脚部,避免了因行走时震动而使脚部受到损伤;足弓支撑区4将足弓支撑到正常高度,减轻了行走时的疼痛感,足跟平衡稳定凹槽3将脚部更好地稳定住,避免行走时足跟横向滑动,进而保护脚踝。
在本实施例的可选方案中,如图3所示,进一步地,跖骨及足跟弹力区包括跖骨弹力区5和足跟弹力区6。在本实施例中,跖骨及足跟弹力区的设置,缓解了行走时足底的压力。
在本实施例的可选方案中,进一步地,跖骨弹力区5设置在鞋垫本体1的前端,对应穿着者前脚掌区域;足跟弹力区6设置在鞋垫本体1的后端,对应穿着者足跟区域。在本实施例中,跖骨弹力区5对穿着者的前脚掌区域进行减震,足跟弹力区6对使用者的脚跟区域进行减震,减震更全面。
在本实施例的可选方案中,如图5所示,进一步地,鞋垫本体1的底面还设有支撑片7。在本实施例中,通过配置支撑片7,来填补高弓足的足弓变形位置。
在本实施例的可选方案中,如图1、图2所示,进一步地,跖骨凸起支撑2为三角形、圆形或椭圆形凸起。在本实施例中,跖骨凸起支撑2对脚底进行支撑及按摩,缓冲脚底的压力,减轻行走时的震动。
在本实施例的可选方案中,进一步地,足跟平衡稳定凹槽3的高度优选为10mm。在本实施例中,足跟平衡稳定凹槽3高10mm,更好地稳定脚部,减少行走时脚部的滑动,使用者走路更稳、更舒适。
在本实施例的可选方案中,进一步地,足弓支撑区4的形状为弧形。在本实施例中,足弓支撑区4为弧形,具体地,类似于半月形,能够更好地贴合脚部内侧曲线,稳定脚部的位置。
在本实施例的可选方案中,进一步地,鞋垫本体1的材质为高分子聚氨酯材料。在本实施例中,高分子聚氨酯材料密度大、弹性好,能够减震释压,从而更好地达到弹性护足的目的。
在本实施例的可选方案中,进一步地,跖骨及足跟弹力区的材质为GEL减震胶。在本实施例中,GEL减震胶能使跖骨及足跟弹力区更好地保护前脚掌,及缓冲脚跟的震动。
在本实施例的可选方案中,进一步地,鞋垫本体1的上表面覆盖有十字纹BK布。在本实施例中,十字纹BK布一方面清爽透气,另一方面又舒适止滑;高分子聚氨酯材料、GEL减震胶、十字纹BK布均为现有技术。
最后应说明的是:以上各实施例仅用以说明本实用新型的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述各实施例对本实用新型进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种平衡支撑鞋垫,其特征在于,包括鞋垫本体、跖骨及足跟弹力区、足弓支撑区、足跟平衡稳定凹槽和跖骨凸起支撑;所述跖骨及足跟弹力区设置在所述鞋垫本体的底面,所述跖骨凸起支撑设置在所述鞋垫本体的中部,对应穿着者跖骨中心位置,所述足跟平衡稳定凹槽设置在所述鞋垫本体的后端,对应穿着者足跟稳定区域,所述足弓支撑区设置在所述鞋垫本体的内侧中间位置,对应穿着者足弓区域。
2.根据权利要求1所述的平衡支撑鞋垫,其特征在于,所述跖骨及足跟弹力区包括跖骨弹力区和足跟弹力区。
3.根据权利要求2所述的平衡支撑鞋垫,其特征在于,所述跖骨弹力区设置在所述鞋垫本体的前端,对应穿着者前脚掌区域;所述足跟弹力区设置在所述鞋垫本体的后端,对应穿着者足跟区域。
4.根据权利要求1所述的平衡支撑鞋垫,其特征在于,所述鞋垫本体的底面还设有支撑片。
5.根据权利要求1所述的平衡支撑鞋垫,其特征在于,所述跖骨凸起支撑为三角形、圆形或椭圆形凸起。
6.根据权利要求1所述的平衡支撑鞋垫,其特征在于,所述足跟平衡稳定凹槽的高度为5-15mm。
7.根据权利要求1所述的平衡支撑鞋垫,其特征在于,所述足弓支撑区的形状为弧形。
8.根据权利要求1所述的平衡支撑鞋垫,其特征在于,所述鞋垫本体的材质为高分子聚氨酯材料。
9.根据权利要求1所述的平衡支撑鞋垫,其特征在于,所述跖骨及足跟弹力区的材质为GEL减震胶。
10.根据权利要求1所述的平衡支撑鞋垫,其特征在于,所述鞋垫本体的上表面覆盖有十字纹BK布。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106820423A (zh) * 2017-04-18 2017-06-13 林美蓉 一种符合人体工程学的鞋垫或鞋底
CN109008064A (zh) * 2018-09-20 2018-12-18 上海希玛科技(集团)有限公司 一种透气减震防滑的运动鞋鞋底
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106820423A (zh) * 2017-04-18 2017-06-13 林美蓉 一种符合人体工程学的鞋垫或鞋底
WO2018192262A1 (zh) * 2017-04-18 2018-10-25 福建省长立网络科技有限公司 一种符合人体工程学的鞋垫或鞋底
CN109008064A (zh) * 2018-09-20 2018-12-18 上海希玛科技(集团)有限公司 一种透气减震防滑的运动鞋鞋底
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