CN205374781U - 微光学成像薄膜及成像装置 - Google Patents

Abstract

本申请涉及光学薄膜技术领域，其公开了一种微光学成像薄膜及成像装置。该微光学成像薄膜包括本体，所述本体上形成有相适配的聚焦结构和图文结构，所述图文结构通过所述聚焦结构成像；所述聚焦结构的外表面上包覆有包覆结构，所述包覆结构的折射率与所述聚焦结构的折射率不同。通过本申请实施例所公开的技术方案，可以提高成像薄膜抗外界环境污染的能力。

Description

微光学成像薄膜及成像装置

技术领域

本实用新型涉及光学薄膜技术领域，尤其涉及一种微光学成像薄膜及成像装置。

背景技术

莫尔技术是一类引人注目的新型视觉安全技术。它利用微透镜阵列的聚焦作用将微图案高效率地放大，实现具有一定景深并呈现奇特动态效果的图案。

专利文件200480040733.2公开了一种应用于钞票等有价证券开窗安全线的微透镜阵列安全元件。它的基本结构为:在透明基层的上表面设置周期性微透镜阵列，在透明基层的下表面设置对应的周期型微图案阵列，微图案阵列位于微透镜阵列的焦平面或其附近，微图案阵列与微透镜阵列排列大致相同，通过微透镜阵列对微图案阵列的莫尔放大作用。

该专利公开了两种制作微图案的方法：由选自喷墨、激光、凸版印刷、胶版印刷、照相凹版印刷、及凹版印刷法所组成的群组的印刷方法，在透明基层下表面设置凸出的微图案油墨；或者在透明基层下表面形成有图案的凹陷，并在凹陷中填充油墨进而形成微图案。后者具有几乎无限空间解析度的优点。因此分别在透明基层上下表面设置微透镜和凹陷型微图案具有最优的图形复杂度和解析度有利于最大化提高该安全器件的仿制难度。

然而这种安全元件目前的使用方法主要是整体嵌入纸张或者粘合于印刷品表面。烫印是目前将局部安全元件设置于产品包装的一种主流的方法。然而烫印技术要求安全元件是一层很薄且可以切断的薄膜。

当前的工业界，具有实际加工可行性的最小透明基层厚度是23um，再加上微透镜和凹陷结构的厚度，整体安全元件的厚度一般会增加到40um以上。因此如此厚的整体结构极不利于高速烫印时及时切断。此外透明基材往往具有良好的机械性能，这也不利于烫印的切断要求。

为了将安全元件与主流的烫印方式相适应，必须去除该安全元件中的透明基层。专利文件200480040733.2在图13-14中公开了一种可篡改标示材料实施例。即剥离覆盖在微透镜表面的可剥离层时，微图案的放大效果会在剥离前后发生变化。值得一提的是：从图14看，为“剥离改变”膜结构，该结构包括一可剥离微透镜、第二微透镜、第一图案层以及第二图案层，可以在第二微透镜背面直接印刷第一图案层，第一图案层与第二图案层之间还设有光学间隔器244，此时第二微透镜与第一图案层之间进而排除了透明基材，但是此时的第二微透镜并不能显示第一图案层的影像(见说明书第20页第二段)。再者，该专利说明书第29～30页公开了该专利中的结构制备方法，基本包括以下步骤：S01一个或多个光学间隔器；S02微透镜以及图案层分别位于光学间隔器表面。其中光学间隔器表面设可固化树脂制备微透镜以及图案层。

在实现本申请过程中，发明人发现现有技术中至少存在如下问题：

现有技术中的成像薄膜中的微透镜结构往往容易遭受外界环境的污染(例如，油污、水、胶状物等污染)，这可能会直接影响成像薄膜的成像功能。

实用新型内容

本申请实施例的目的是提供一种微光学成像薄膜及成像装置，以提高成像薄膜抗外界环境污染的能力。

为解决上述技术问题，本申请实施例提供一种微光学成像薄膜是这样实现的：

本申请提供了一种微光学成像薄膜，包括：本体；

所述本体上形成有相适配的聚焦结构和图文结构，所述图文结构通过所述聚焦结构成像；

所述聚焦结构的外表面上包覆有包覆结构，所述包覆结构的折射率与所述聚焦结构的折射率不同。

在一实施例中，所述聚焦结构和所述图文结构为一体结构。

在一实施例中，用于形成所述聚焦结构的第一聚合物和用于形成所述图文结构的第二聚合物之间形成有第一融合部分。

在一实施例中，所述本体上还形成有间隔结构，所述聚焦结构和所述图文结构分别位于所述间隔结构的两侧。

在一实施例中，所述聚焦结构和所述间隔结构为一体结构。

在一实施例中，用于形成所述聚焦结构的第一聚合物和用于形成所述间隔结构的第三聚合物之间形成有第二融合部分。

在一实施例中，所述图文结构和所述间隔结构为一体结构。

在一实施例中，用于形成所述图文结构的第二聚合物和用于形成所述间隔结构的第三聚合物之间形成有第三融合部分。

在一实施例中，所述聚焦结构形成于所述本体的第一表面，所述图文结构形成于所述本体的第二表面，所述第一表面与所述第二表面相背对。

在一实施例中，所述聚焦结构形成于所述本体的第一表面，所述图文结构形成于所述本体的内部。

在一实施例中，所述图文结构为凹槽结构。

在一实施例中，所述聚焦结构包括一个或多个微透镜或菲涅尔透镜。

在一实施例中，所述包覆结构中远离所述聚焦结构的一表面为平整的表面。

在一实施例中，所述包覆结构的折射率与所述聚焦结构的折射率之差大于或等于0.07。

本申请实施例还提供了一种成像装置，包括：

成像薄膜，所述成像薄膜包括相适配的聚焦结构和图文结构，所述图文结构通过所述聚焦结构图像；

包覆结构，所述包覆结构用于包覆所述聚焦结构的外表面，所述包覆结构的折射率与所述聚焦结构的折射率不同。

承载结构，所述承载结构位于所述包覆结构远离所述成像薄膜的一侧，用于承载并显示所述成像薄膜的成像。

在一实施例中，所述聚焦结构和所述图文结构为一体结构。

在一实施例中，用于形成所述聚焦结构的第一聚合物和用于形成所述图文结构的第二聚合物之间形成有第一融合部分。

在一实施例中，所述成像薄膜还包括间隔结构，所述聚焦结构和所述图文结构分别位于所述间隔结构的两侧。

在一实施例中，所述聚焦结构和所述间隔结构为一体结构。

在一实施例中，用于形成所述聚焦结构的第一聚合物和用于形成所述间隔结构的第三聚合物之间形成有第二融合部分。

在一实施例中，所述图文结构和所述间隔结构为一体结构。

在一实施例中，用于形成所述图文结构的第二聚合物和用于形成所述间隔结构的第三聚合物之间形成有第三融合部分。

在一实施例中，所述图文结构为凹槽结构。

在一实施例中，所述聚焦结构包括一个或多个微透镜或菲涅尔透镜。

在一实施例中，所述包覆结构中远离所述聚焦结构的一表面为平整的表面。

在一实施例中，所述包覆结构的折射率与所述聚焦结构的折射率之差大于或等于0.07。

由以上本申请实施例提供的技术方案可见，本申请实施例通过在聚焦结构的外表面设置包覆结构，所述包覆结构包覆至少部分所述聚焦结构的外表面，并且所述包覆结构的折射率与所述聚焦结构的折射率不同，这可以使聚焦结构与外界相隔离，从而可以减小外界环境对聚焦结构的污染，进而实现了提高成像薄膜抗外界环境污染的能力的目的。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本申请实施例提供的一种微光学成像薄膜的结构示意图；

图2为本申请实施例提供的微光学成像薄膜的又一种结构示意图；

图3为本申请实施例提供的微光学成像薄膜的又一种结构示意图；

图4为本申请实施例提供的微光学成像薄膜的又一种结构示意图；

图5为本申请实施例提供的微光学成像薄膜的又一种结构示意图；

图6为本申请实施例提供的微光学成像薄膜的又一种结构示意图；

图7为本申请实施例提供的另一种微光学成像薄膜的结构示意图；

图8为本申请实施例提供的微光学成像薄膜的又一种结构示意图；

图9为本申请实施例提供的微光学成像薄膜的又一种结构示意图；

图10为本申请实施例提供的微光学成像薄膜的又一种结构示意图；

图11为本申请实施例提供的微光学成像薄膜的又一种结构示意图；

图12为本申请实施例提供的微光学成像薄膜的又一种结构示意图；

图13为本申请实施例提供的微光学成像薄膜的又一种结构示意图；

图14为本申请实施例提供的一种含有微光学成像薄膜的装置的结构示意图。

具体实施方式

为了便于理解本实用新型，下面将参照相关附图对本实用新型进行更全面的描述。附图中给出了本实用新型的较佳实施方式。但是，本实用新型可以通过许多不同的形式来实现，并不限于下面所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本实用新型的公开内容理解的更加透彻全面。

需要说明的是，当元件被称为“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

本申请实施例提供了一种微光学成像薄膜，该包括本体；所述本体上形成有聚焦结构和图文结构，所述聚焦结构和所述图文结构相适配从而形成图像；至少部分所述聚焦结构的外表面上包覆有包覆结构，所述包覆结构和所述聚焦结构的制成材料不同，并且所述包覆结构的折射率与所述聚焦结构的折射率之差大于或等于0.05，这可以使所述聚焦结构与外界相隔离并且还不影响图文结构的成像，从而可以减少外界环境对成像薄膜的污染，进而实现了提高成像薄膜抗外界环境污染的能力的目的。

表1示出了包覆结构和聚焦结构之间的折射率差与微光学成像薄膜的厚度之间的关系。其中，对于不同的折射率差，聚焦结构(例如微透镜)的口径、曲率以及包覆结构的折射率都相同。从下表中可以看出，包覆结构的折射率与聚焦结构的折射率之差越大，微光学成像薄膜的厚度越小。

表1包覆结构和聚焦结构之间的折射率差与微光学成像薄膜的厚度之间的关系

下面结合附图对本申请实施例所提供的微光学成像薄膜进行详细说明。

本申请实施例还提供了一种微光学成像薄膜，如图1所示。该成像薄膜包括由聚合物制成的本体100。本体100上形成有相适配的聚焦结构101和图文结构102，图文结构102通过聚焦结构101成像。至少部分聚焦结构101的外表面上包覆有包覆结构104，其用于将聚焦结构101与外界隔离，以减少外界环境对聚焦结构101的污染。

所述聚合物可以是一种聚合物，也可以是两种聚合物。每一种聚合物可以为单个聚合物，也可以为由多个不会发生反应的单个聚合物混合成的混合聚合物。所述聚合物的透光率可以大于70％，即聚合物为透明颜色或者在视觉上显示透明。所述聚合物可以为PET(polyethyleneterephthalate,聚对苯二甲酸乙二醇酯)、PVC(Polyvinylchloride,聚氯乙烯)、PC(Polycarbonate,聚碳酸酯)或者PMMA(PolymethylMethacrylate,聚甲基丙烯酸甲酯)等树脂材料，也可以为UV(UltravioletRays)胶、OCA(OpticallyClearAdhesive)等光固化胶或热固化胶。,

在所述聚合物为一种聚合物时，聚焦结构101和图文结构102可以分别形成于该本体中相背对的第一表面和第二表面，也可以分别形成于本体的第一表面和本体内部。此时，本体100为一层聚合物层，其中的聚合物可以均匀分布，也可以不均匀分布。聚焦结构101和用于形成图文结构102的容纳结构103(如图5所示)形成于同一聚合物层，因此在聚焦结构101和容纳结构103之间没有分界面，即聚焦结构101和图文结构102成一体结构。

在所述聚合物为两种聚合物时，聚焦结构101可以形成于一种聚合物(例如，第一聚合物)的第一表面，图文结构102可以形成于另一种聚合物(例如，第二聚合物)的第二表面或其内部。这两种聚合物之间的相邻部位形成有第一融合部分105(如图2所示)。因此聚焦结构101和图文结构102可以视为一体结构，在聚焦结构101和用于形成图文结构102的容纳结构103之间不会存在分界面，或者成像薄膜的截面上聚焦结构101和图文结构102之间不存在明显的层与层的分界线或者所呈现的分界线为规则整齐的分界线。所述第一融合部分可以是这两种聚合物按照预设比例融合形成的区域。所述预设比例可以是N:M，其中N和M分别为聚焦结构101和图文结构102的相邻部位交接处这两种聚合物的含量，其取值均可以为0～100％，但不包括0和100％。需要说明的是，聚焦结构101中第一聚合物的含量为100％；图文结构102中第二聚合物的含量为100％。所述相邻部位可以是在利用模具挤压这两种聚合物形成聚焦结构101和图文结构102时，这两种聚合物之间的接触部位。

聚焦结构101可以用于对图文结构进行成像，包括一个或多个聚焦单元，所述聚焦单元可以是微透镜(如图1所示)，也可以是菲涅尔透镜(如图3所示)。所述多个聚焦单元之间可以不存在间隙(如图1所示)，以便于减小所述成像薄膜的整体体积。所述多个聚焦单元之间也可以存在间隙(如图4所示)，以便于在切割所述成像薄膜时可以保证所切割聚焦单元的完整性，从而可以保证聚焦单元的后续成像效果。

聚焦结构101可以形成于本体100的第一表面，具体的可以是聚焦结构101中的聚焦单元形成于本体100的第一表面。

图文结构102可以包括一个或多个相同或不同的图文单元，所述图文单元可以为图案或微图案(即微米级别的图案)，例如图形、文字、数字、网格、风景画和/或logo等易于辨别形状的图案。所述不同的图文单元可以是(微)图案的大小不同；也可以是(微)图案的形状不同；还可以是(微)图案的构成不同，例如第一个(微)图案是公司名称，第二个(微)图案是公司Logo。所述图文结构102通过所述聚焦结构101成像，可以理解为是所述图文单元通过对应的聚焦单元成像。

图文结构102可以是通过在本体上形成一个或多个容纳结构103，所述容纳结构可以为凹槽或微凹槽(即微米级别的凹槽)103，如图5所示，然后在容纳结构103中填入填充物来形成。所述填充物可以为与所述聚合物对光存在折射率差异的材料，包括着色材料、染色材料、金属材料或导电材料等，例如油墨。需要说明的是，所述填充物的颜色可以与所述聚合物的颜色有所不同，以便于人们在观察图文结构的成像时，可以明显的分辨出图文结构中的图案。

需要说明的是，本文中的图文结构并不限于仅为填入有填充物的容纳结构部分，也可以包括容纳结构周围部分。

图文结构102可以形成于本体100中远离聚焦结构101的第二表面上；也可以形成于本体的内部，如图6所示。对于图6所示的这种结构，可以通过在聚合物的一表面形成凹槽，然后在凹槽中填入聚合物形成图文结构，再在形成图文结构的表面涂布该种聚合物，这样所形成的图文结构位于本体的内部，并且由于图文结构两侧是同种聚合物，因此图文结构所在表面会因聚合物融合而消失，在本体内部不会形成分界面。

图文结构102可以与聚焦结构101相适配，可以理解为图文结构102能通过聚焦结构101成像。图文结构102可以与聚焦结构101相适配可以包括图文结构102与聚焦结构101的所在位置相匹配，例如图文结构102中的微图案与聚焦结构101中的聚焦单元(例如，微透镜)正对设置，以提高聚合物材料的利用率。图文结构102与聚焦结构101相适配也可以包括聚焦结构101中的聚焦单元与图文结构103中的图文单元对应设置，这有利于在切割成像薄膜时，可以保证所切割成的每个成像薄膜单元中至少含有一个完整的聚焦单元以及图文单元。

图文结构102可以位于聚焦结构101的焦平面附近，其可以通过聚焦结构101进行成像，在聚焦结构101中与图文结构102相对的一侧可以观察到图文结构102的放大图像。具体的，可以是图文结构102中的每个微图案位于聚焦结构101中对应的焦平面附近，每个微图案均可以通过对应的聚焦单元进行成像，在每个聚焦单元的另一侧可以观察到对应微图案的放大图像。所述焦平面可以表示过聚焦单元的焦点且垂直于聚焦单元主光轴的平面。

聚焦结构101的顶部与图文结构102的顶部之间的距离可以为2～150微米。在聚焦结构和图文结构之间的距离很小时，可以理解为图文结构嵌设在微透镜结构中。聚焦结构和图文结构之间的距离越小，则成像薄膜的厚度越薄，这不仅可以节约成本，在烫印时更易于切断。

包覆结构104可以用于将聚焦结构101的外表面部分包覆或全部包覆，以使聚焦结构101与外界隔离，避免遭受外界环境的污染。包覆结构104可以直接覆盖在聚焦结构101中远离图文结构102的表面上，其远离聚焦结构101的一表面可以为平整表面，这可以有利于提高用户后续的使用体验效果。包覆结构104与聚焦结构101的制成材料不同，并且两者之间的折射率之差不同，所述折射率之差可以大于或等于0.05，也可以大于或等于0.07，其透光率不小于70％。在发明人经过多次反复试验后证明，当两者的折射率之差大于或等于0.05时，该成像薄膜可以更好的运用在实际应用当中，并使得在包覆结构104外可以观察到图文结构102的成像，从而不会影响成像薄膜的成像效果。

包覆结构104将聚焦结构101的外表面部分包覆可以是指包覆结构102可以覆盖聚焦结构101中部分聚焦单元的全部外表面，将这部分聚焦单元与外界隔离，而不是指覆盖一个或多个聚焦单元的部分外表面。包覆结构104将聚焦结构101的外表面全部包覆可以是指包覆结构102可以完全覆盖聚焦结构101中所有聚焦单元的全部外表面，将聚焦结构101与外界完全隔离，此时聚焦结构101和包覆结构102可以看成形成一个封闭空间，如图1所示。

通过上述描述可以看出，本申请实施例通过在聚焦结构的外表面设置了包覆结构，这可以使聚焦结构与外界相隔离，从而可以减少外界环境对聚焦结构的污染，进而实现了提高成像薄膜抗外界环境污染的能力的目的。此外，本申请实施例中的聚焦结构和图文结构为一体结构，没有基材层，这可以减小成像薄膜的厚度，并且该成像薄膜的机械性能很差，这使得该成像薄膜在烫印时可以易于切断。

本申请实施例中的成像薄膜厚度薄，其厚度可以达到几十微米以下，甚至可以达到几微米，而且易于切断，因此该成像薄膜容易转印，并且还可以减轻重量以及节约成本。

在另一实施例中，本体100内还形成有间隔结构106，如图7所示。聚焦结构101和图文结构102分别位于间隔结构106的两侧，例如，位于间隔结构106中相背对的第三表面和第四表面上。

间隔结构106可以用于调节聚焦结构101和图文结构102之间的距离，即用于调节聚焦结构101的焦距。间隔结构106也可以为PET(polyethyleneterephthalate,聚对苯二甲酸乙二醇酯)、PVC(Polyvinylchloride,聚氯乙烯)、PC(Polycarbonate,聚碳酸酯)或者PMMA(PolymethylMethacrylate,聚甲基丙烯酸甲酯)等树脂材料，也可以为UV(UltravioletRays)胶、OCA(OpticallyClearAdhesive)等光固化胶或热固化胶。间隔结构106的透光率可以在70％以上。

聚焦结构101中的聚焦单元可以直接粘接在间隔结构106的一表面(例如，第三表面)上(如图7所示)，此时所述聚焦单元的端面与所述第三表面直接接触；所述聚焦单元也可以在聚焦结构101中远离所述第三表面但法线方向与所述第三表面相同的表面上形成，此时聚焦单元与所述第三表面之间存在有一定距离，其端部并不与所述第三表面直接接触(如图8所示)；还可以包括聚焦单元直接在间隔结构106的第三表面形成(如图9所示)，此时聚焦结构101和间隔结构106构成一体结构，所述第三表面与本体100的第一表面相重合，即为同一表面。

图文结构102位于间隔结构106的第四表面上，可以是图文结构102直接粘接在间隔结构106的第四表面上，即图文单元粘接在间隔结构106的表面上，此时图文单元可以为凸起结构(如图10-12所示)；还可以是图文单元直接在间隔结构106的第四表面上形成，这时图文结构102和间隔结构106成一体结构。此时，可以在所述第四表面上形成凹槽结构103，如图13所示，凹槽结构103用于填入填充物，形成图文单元。此时，所述第四表面与本体100的第二表面相重合，即为同一表面。所述凹槽结构的深度小于等于所述图文结构102的厚度。

在制备过程中，可以制备出间隔结构106后，然后在间隔结构106的第三表面和第四表面上分别制备聚焦结构101和图文结构102；也可以是在本体上首先制备出聚焦结构101或图文结构102，再在其一表面上制备出间隔结构106。对于这两种情形，在组成聚焦结构101和图文结构102的聚合物与组成间隔结构106的聚合物不同时，聚焦结构101、图文结构102和间隔结构106之间存在有分界面。

在制备过程中，还可以在同一种聚合物中相背对的两表面分别形成聚焦结构101和间隔结构106；也还可以在两种聚合物(例如第一聚合物和第三聚合物)的相邻部位之间形成第二融合部分或者利用相邻部位之间具有第二融合部分的两种聚合物，然后在这两种聚合物中相背对的两表面上分别形成聚焦结构101和间隔结构106，例如在第一聚合物的第一表面形成聚焦结构101，在第三聚合物中与该第一表面相背对的表面上形成间隔结构106。对于这两种情形，聚焦结构101和间隔结构106构成一体结构，即聚焦结构101和间隔结构106之间不存在分界面。在形成聚焦结构101和间隔结构106后，再在间隔结构106的第四表面上形成图文结构102。

在制备过程中，还可以在同一种聚合物中相背对的两表面上分别形成凹槽结构和间隔结构106，在所述凹槽结构中填入填充物，形成图文结构102；也还可以在两种聚合物(例如第二聚合物和第三聚合物)的相邻部位之间形成第三融合部分或者利用相邻部位之间具有第三融合部分的两种聚合物，然后在这两种聚合物中相背对的两表面上形成凹槽结构和间隔结构106，例如在第二聚合物的第二表面形成凹槽结构，在第三聚合物中与该第二表面相背对的表面上形成间隔结构106，再在所述凹槽结构中填入填充物，形成图文结构102。对于这两种情形，凹槽结构和间隔结构106之间不存在分界面，即图文结构102和间隔结构106成一体结构。在形成图文结构102和间隔结构106后，再在间隔结构106的第三表面上形成聚焦结构101。

对所述第二融合部分和第三融合部分的具体描述可以参考上述第一融合部分，在此不再赘叙。

需要说明的是，用于形成聚焦结构101、图文结构102和间隔结构106的聚合物可以相同，也可以不同。

本申请实施例还提供了一种成像装置，如图14所示。该装置包括成像薄膜110、包覆结构120以及承载结构130。其中，成像薄膜110和承载结构130分别位于包覆结构120的两侧。包覆结构120的一侧贴合在成像薄膜110上，与该侧相背对的另一侧贴合有承载结构130。成像薄膜110可以包括聚焦结构111和图文结构112，也还可以包括间隔结构(图14中未示出)。包覆结构120可以用于连接成像薄膜110和承载结构130，其可以包覆至少部分成像薄膜110中聚焦结构111的外表面，以将聚焦结构111与外界相隔离，避免聚焦结构111遭受外界环境的污染。图14中示出了包覆结构120将聚焦结构111的外表面完全覆盖的情形。用于形成包覆结构120的聚合物可以为胶水，该胶水与形成聚焦结构111的聚合物不同。包覆结构120与聚焦结构111之间的折射率差值可以大于或等于0.05，其透光率可以大于70％。承载结构130可以用于承载成像薄膜110，其可以为在常温下呈现透明状态的固体，例如玻璃。这样在承载结构130远离包覆结构120的那一侧可以观察到成像薄膜的成像。

对聚焦结构、图文结构以及间隔结构的具体描述可以参考图1-10中所对应实施例的相关描述，在此不再赘叙。

通过上述描述可以看出，本申请实施例所提供的成像装置通过在成像薄膜中聚焦结构的外表面上设置包覆结构，将成像薄膜和承载结构相连接，并将成像薄膜与外界相隔离，这可以避免成像薄膜遭受外界环境的污染，从而提高成像薄膜抗外界环境干扰的目的。

本申请引用的任何数字值都包括从下限值到上限值之间以一个单位递增的下值和上值的所有值，在任何下值和任何更高值之间存在至少两个单位的间隔即可。举例来说，如果阐述了一个部件的数量或过程变量(例如温度、压力、时间等)的值是从1到90，优选从20到80，更优选从30到70，则目的是为了说明该说明书中也明确地列举了诸如15到85、22到68、43到51、30到32等值。对于小于1的值，适当地认为一个单位是0.0001、0.001、0.01、0.1。这些仅仅是想要明确表达的示例，可以认为在最低值和最高值之间列举的数值的所有可能组合都是以类似方式在该说明书明确地阐述了的。

除非另有说明，所有范围都包括端点以及端点之间的所有数字。与范围一起使用的“大约”或“近似”适合于该范围的两个端点。因而，“大约20到30”旨在覆盖“大约20到大约30”，至少包括指明的端点。

披露的所有文章和参考资料，包括专利申请和出版物，出于各种目的通过援引结合于此。描述组合的术语“基本由…构成”应该包括所确定的元件、成分、部件或步骤以及实质上没有影响该组合的基本新颖特征的其他元件、成分、部件或步骤。使用术语“包含”或“包括”来描述这里的元件、成分、部件或步骤的组合也想到了基本由这些元件、成分、部件或步骤构成的实施方式。这里通过使用术语“可以”，旨在说明“可以”包括的所描述的任何属性都是可选的。

多个元件、成分、部件或步骤能够由单个集成元件、成分、部件或步骤来提供。另选地，单个集成元件、成分、部件或步骤可以被分成分离的多个元件、成分、部件或步骤。用来描述元件、成分、部件或步骤的公开“一”或“一个”并不说为了排除其他的元件、成分、部件或步骤。

本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处。

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，上面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在上面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于上面描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受上面公开的具体实施例的限制。并且，以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (20)

1.一种微光学成像薄膜，其特征在于，包括：本体；

所述本体上形成有相适配的聚焦结构和图文结构，所述图文结构通过所述聚焦结构成像；

所述聚焦结构的外表面上包覆有包覆结构，所述包覆结构的折射率与所述聚焦结构的折射率不同。

2.根据权利要求1所述的成像薄膜，其特征在于，所述聚焦结构和所述图文结构为一体结构。

3.根据权利要求2所述的成像薄膜，其特征在于，用于形成所述聚焦结构的第一聚合物和用于形成所述图文结构的第二聚合物之间形成有第一融合部分。

4.根据权利要求1所述的成像薄膜，其特征在于，所述本体上还形成有间隔结构，所述聚焦结构和所述图文结构分别位于所述间隔结构的两侧。

5.根据权利要求4所述的成像薄膜，其特征在于，所述聚焦结构和所述间隔结构为一体结构。

6.根据权利要求5所述的成像薄膜，其特征在于，用于形成所述聚焦结构的第一聚合物和用于形成所述间隔结构的第三聚合物之间形成有第二融合部分。

7.根据权利要求4所述的成像薄膜，其特征在于，所述图文结构和所述间隔结构为一体结构。

8.根据权利要求7所述的成像薄膜，其特征在于，用于形成所述图文结构的第二聚合物和用于形成所述间隔结构的第三聚合物之间形成有第三融合部分。

9.根据权利要求1-8任一项所述的成像薄膜，其特征在于，所述聚焦结构形成于所述本体的第一表面，所述图文结构形成于所述本体的第二表面，所述第一表面与所述第二表面相背对。

10.根据权利要求1-8任一项所述的成像薄膜，其特征在于，所述聚焦结构形成于所述本体的第一表面，所述图文结构形成于所述本体的内部。

11.根据权利要求1-8任一项所述的成像薄膜，其特征在于，所述图文结构为凹槽结构。

12.根据权利要求1-8任一项所述的成像薄膜，其特征在于，所述聚焦结构包括一个或多个微透镜或菲涅尔透镜。

13.根据权利要求1-8任一项所述的成像薄膜，其特征在于，所述包覆结构中远离所述聚焦结构的一表面为平整的表面。

14.根据权利要求1所述的成像薄膜，其特征在于，所述包覆结构的折射率与所述聚焦结构的折射率之差大于或等于0.07。

15.一种成像装置，其特征在于，包括：

成像薄膜，所述成像薄膜包括相适配的聚焦结构和图文结构，所述图文结构通过所述聚焦结构图像；

包覆结构，所述包覆结构用于包覆所述聚焦结构的外表面，所述包覆结构的折射率与所述聚焦结构的折射率不同；

承载结构，所述承载结构位于所述包覆结构远离所述成像薄膜的一侧，用于承载并显示所述成像薄膜的成像。

16.根据权利要求15所述的成像装置，其特征在于，所述聚焦结构和所述图文结构为一体结构。

17.根据权利要求15所述的成像装置，其特征在于，所述成像薄膜还包括间隔结构，所述聚焦结构和所述图文结构分别位于所述间隔结构的两侧。

18.根据权利要求17所述的成像装置，其特征在于，所述聚焦结构和所述间隔结构为一体结构。

19.根据权利要求17所述的成像装置，其特征在于，所述图文结构和所述间隔结构为一体结构。

20.根据权利要求15所述的成像装置，其特征在于，所述包覆结构的折射率与所述聚焦结构的折射率之差大于或等于0.07。