CN205264349U - 一种肖特基辐射伏特电池 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种肖特基辐射伏特电池，目的在于：提升输出功率和能量转化效率，提高封装密度，所采用的技术方案为：包括由SiC基片构成的衬底，衬底上部设置有N型SiC外延层，所述N型SiC外延层上设有若干个台阶，相邻台阶之间设有沟槽，所述若干个台阶的顶部中间位置注入有N型SiC欧姆接触掺杂区，N型SiC欧姆接触掺杂区上端设置有N型欧姆接触电极，所述N型欧姆接触电极的形状与所述N型SiC欧姆接触掺杂区形状相同，所述N型欧姆接触电极两侧的台阶顶部位置上设置有α放射源；所述相邻台阶之间的沟槽底部设置有肖特基接触电极。

Description

一种肖特基辐射伏特电池

技术领域

本实用新型涉及半导体器件以及半导体工艺技术领域，尤其是涉及一种肖特基辐射伏特电池。

背景技术

辐射伏特电池是采用半导体二极管作为换能元件，采用放射性同位素衰变产生的带电粒子在半导体材料中的电离效应将核放射能转换成电能。为了获得足够高且长期稳定的输出功率以加快推进其实用，需要从换能元件和放射源两个方面同时进行优化设计。

在放射源方面，目前大都采用低能β放射源(如63Ni，粒子平均能量17.1KeV)作为能量源，其电子通量密度较低；同时由于放射源的自吸收效应，单纯的靠提高放射源的强度来提升输出功率的意义有限。如果采用高能β放射源(如147Pm等)，由于粒子射程较深，给辐照生载流子的有效吸收带来了困难。从电离能收集的角度上说，α放射源作为能源是比较理想的。以241Am为例，粒子能量高(5.5MeV)但射程适中(在Si材料中约28μm)，且主要以电离的方式在材料中沉积能量，如果用作能量源可以有效提高电池的输出功率；然而α粒子容易造成半导体器件的辐照损伤，降低换能元件的使用寿命。

以SiC、GaN为代表的宽禁带半导体材料，具有禁带宽度大﹑抗辐射能力强等优点，用其制成的同位素电池换能元件的内建电势高﹑漏电流小，理论上可以得到比硅基电池更高的开路电压和能量转换效率。同时，宽禁带材料和器件优越的抗辐射特性，也使得采用α放射源作为同位素电池能源成为可能。相比于SiCPiN二极管，SiC肖特基二极管具有工艺成熟、作为电池表面无死层等优点，用作同位素电池具有独特的优势。

但是目前辐射伏特电池的研究也存在很多的问题，特别是目前报道的辐射伏特电池大都采用纵向结构，即二极管的两个电极分别位于衬底和外延面上，并采用低掺杂厚外延层以充分吸收辐照生载流子。这种结构工艺较为简单，但并不适用于α放射源，这是因为根据辐射伏特理论，耗尽区内及其附近一个少子扩散长度内的辐照生载流子能被收集。对于SiC肖特基二极管，即使采用低掺杂的外延层，耗尽区宽度也不过1～2um，而SiC材料中少子扩散长度仅为几um。由于α粒子射程较深且能量在射程附近集中释放，因此材料深处的辐照生载流子难以充分吸收。同时，厚的外延层也会导致器件串联电阻较大，从而影响转换效率。因此，研制新型器件结构，充分吸收材料深处的辐照生载流子，是提升电池转换效率，是推进辐射伏特电池尽快实用的关键。

实用新型内容

为了解决现有技术中的问题，本实用新型提出一种能够提升输出功率和能量转化效率，能够提高封装密度，有利于集成、实用性强的肖特基辐射伏特电池。

为了实现以上目的，本实用新型所采用的技术方案为：包括由SiC基片构成的衬底，衬底上部设置有N型SiC外延层，所述N型SiC外延层上设有若干个台阶，相邻台阶之间设有沟槽，所述若干个台阶的顶部中间位置均注入形成有N型SiC欧姆接触掺杂区，N型SiC欧姆接触掺杂区上端与台阶顶部齐平，N型SiC欧姆接触掺杂区上端设置有N型欧姆接触电极，所述N型欧姆接触电极两侧的台阶顶部位置上设置有α放射源；所述相邻台阶之间的沟槽底部设置有肖特基接触电极。

所述N型SiC外延层上的台阶高度为5μm～15μm，台阶宽度为10μm～20μm，台阶之间的间距为2μm～5μm。

所述N型SiC外延层的整体厚度为10μm～30μm。

所述N型欧姆接触电极的形状与所述N型SiC欧姆接触掺杂区形状相同。

所述N型SiC欧姆接触掺杂区和所述N型欧姆接触电极的宽度均为0.5μm～2μm。

所述N型欧姆接触电极包括从下到上依次设置的Ni层和Pt层构成，所述Ni层的厚度为200nm～400nm，所述Pt层的厚度为50nm～200nm。

所述α放射源上部与所述N型欧姆接触电极上部齐平，α放射源侧边与台阶的侧边齐平。

所述肖特基接触电极的宽度与台阶间距相同。

所述肖特基接触电极包括从下而上依次设置的第一层电极和第二层电极，所述第一层电极为Ni层、Ti层或Pt层，第一层电极的厚度为50nm～100nm，所述第二层电极为Al层，厚度为1000nm～2000nm。

与现有技术相比，本实用新型的α放射源的碳化硅PIN型同位素电池在N型SiC外延层上设有若干个台阶，相邻台阶之间设有沟槽，沟槽底部设置有肖特基接触电极，采用沟槽结构将肖特基接触深入到I层深处，可以有效增强对α粒子射程附近辐照生载流子的吸收，提升输出功率和能量转化效率。传统结构因为主要靠肖特基耗尽区收集辐照生载流子，肖特基接触电极会造成入射粒子能量的损失；本实用新型主要靠肖特基耗尽区附近一个少子扩散长度范围内的中性区收集辐照生载流子，不再依赖肖特基电极的面积，从而有效的减少了入射粒子的能量损失，提高能量转换效率。

对于纵向结构的器件，I区的掺杂浓度会影响开路电压﹑灵敏区厚度﹑串联电阻等多个参数，难以折中；而横向结构由于采用了中性区收集辐照生载流子，肖特基接触电极与N型欧姆接触电极之间的间距由少子扩散长度决定，因此可以通过适当提高I区N型SiC外延层的掺杂浓度的方法来提高开路电压，降低串联电阻，并使器件的设计更加灵活。同时也可以有效的提升辐照容限，这对于采用α放射源的同位素电池意义更为重大。本实用新型的电池采用了横向器件结构，由于没有了衬底的影响，容易获得比纵向结构低的串联电阻，从而提高填充因子，同时可以减薄衬底来缩小电池的体积，提高了封装密度，有利于该微型核电池集成到MEMS微系统中。本实用新型的器件结构，对肖特基接触电极金属层厚度不像纵向结构那么敏感，易于工艺上的实现。

附图说明

图1为本实用新型电池的结构示意图；

其中，1-衬底；2-N型SiC外延层；3-N型SiC欧姆接触掺杂区；4-肖特基接触电极；5-N型欧姆接触电极；6-α放射源。

具体实施方式

下面结合具体的实施例和说明书附图对本实用新型作进一步的解释说明。

参见图1，本实用新型包括由SiC基片构成的衬底1，衬底1上部设置有N型SiC外延层2，N型SiC外延层2上设有若干个台阶，相邻台阶之间设有沟槽，N型SiC外延层2上的台阶高度为5μm～15μm，台阶宽度为10μm～20μm，台阶之间的间距为2μm～5μm，N型SiC外延层2的整体厚度为10μm～30μm，若干个台阶的顶部中间位置注入有N型SiC欧姆接触掺杂区3，N型SiC欧姆接触掺杂区3上端与台阶顶部齐平，N型SiC欧姆接触掺杂区3上端设置有N型欧姆接触电极5，所述N型欧姆接触电极5的形状与所述N型SiC欧姆接触掺杂区3形状相同，N型SiC欧姆接触掺杂区3和N型欧姆接触电极5的宽度均为0.5μm～2μm，N型欧姆接触电极5包括从下到上依次设置的Ni层和Pt层构成，所述Ni层的厚度为200nm～400nm，Pt层的厚度为50nm～200nm。N型欧姆接触电极5两侧的台阶顶部位置上设置有α放射源6；相邻台阶之间的沟槽底部设置有肖特基接触电极4，肖特基接触电极4的宽度与台阶间距相同，肖特基接触电极4包括从下到上依次设置的第一层电极和第二层电极，所述第一层电极为Ni层、Ti层或Pt层，第一层电极的厚度为50nm～100nm，所述第二层电极为Al层，厚度为1000nm～2000nm。

本实用新型的制造方法，包括以下步骤：

步骤一、提供由SiC基片构成衬底1；

步骤二、采用化学气相沉积法在衬底1的上表面上外延生长掺杂浓度为1×10¹⁶cm^-3～5×10¹⁷cm^-3、厚度为10μm～30μm的N型SiC外延层2；

步骤三、通过SF₆气体，采用反应离子干法刻蚀法在N型SiC外延层2上刻蚀出高度为5μm～15μm，宽度为10μm～20μm，间距为2μm～5μm的若干个台阶，相邻台阶之间设沟槽；

步骤四、采用离子注入法在N型SiC外延层2的上形成掺杂浓度为1×10¹⁸cm^-3～1×10¹⁹cm^-3的N型SiC欧姆接触掺杂区3；

步骤五、在N型SiC欧姆接触掺杂区3上方依次淀积Ni层和Pt层，Ni层的厚度为200nm～400nm，Pt层的厚度为50nm～200nm；

步骤六、在N₂气氛下进行温度为950℃～1050℃的热退火2分钟，在N型SiC欧姆接触掺杂区3的上部形成由Ni层和Pt层构成的N型欧姆接触电极5，得到的电池结构如图1所示；

步骤七、在在N型SiC外延层2的台阶间的沟槽底部依次溅射第一层电极和第二层电极，形成由第一层电极和第二层电极构成的肖特基接触电极4，第一层电极为Ni层、Ti层或Pt层，第一层电极的厚度为50nm～100nm，所述第二层电极为Al层，厚度为1000nm～2000nm；

步骤八、除去在台阶顶部两端的N型欧姆接触电极5，仅保留中间的N型欧姆接触电极5，并在台阶顶部除去N型欧姆接触电极5的区域设置α放射源6，即得到如图1所示的的电池。

本实用新型采用α放射源的碳化硅肖特基结型同位素电池采用沟槽结构将肖特基接触深入到I层深处，可以有效增强对α粒子射程附近辐照生载流子的吸收，提升输出功率和能量转化效率。传统结构因为主要靠肖特基耗尽区收集辐照生载流子，肖特基接触电极会造成入射粒子能量的损失；本实用新型主要靠肖特基耗尽区附近一个少子扩散长度范围内的中性区收集辐照生载流子，不再依赖肖特基电极的面积，从而有效的减少了入射粒子的能量损失，提高能量转换效率。

对于纵向结构的器件，I区的掺杂浓度会影响开路电压﹑灵敏区厚度﹑串联电阻等多个参数，难以折中；而横向结构由于采用了中性区收集辐照生载流子，肖特基接触电极与N型欧姆接触电极之间的间距由少子扩散长度决定，因此可以通过适当提高I区N型SiC外延层的掺杂浓度的方法来提高开路电压，降低串联电阻，并使器件的设计更加灵活。同时也可以有效的提升辐照容限，这对于采用α放射源的同位素电池意义更为重大，本实用新型电池采用了横向器件结构，由于没有了衬底的影响，容易获得比纵向结构低的串联电阻，从而提高填充因子，同时可以减薄衬底来缩小电池的体积，提高了封装密度，有利于该微型核电池集成到MEMS微系统中，对肖特基接触电极金属层厚度不像纵向结构那么敏感，易于工艺上的实现。

综上所述，本实用新型设计新颖合理，实现方便，有利于提高采用α放射源的同位素电池的能量转换效率和封装密度，有利于集成，实用性强，推广应用价值高。

以上所述仅是对本实用新型的具体解释说明，并非对本实用新型作任何限制，凡是根据本实用新型技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、变更以及等效结构变化，均仍属于本实用新型技术方案的保护范围内。

Claims (8)

1.一种肖特基辐射伏特电池，其特征在于，包括由SiC基片构成的衬底(1)，衬底(1)上部设置有N型SiC外延层(2)，所述N型SiC外延层(2)上设有若干个台阶，相邻台阶之间设有沟槽，所述若干个台阶的顶部中间位置均注入形成有N型SiC欧姆接触掺杂区(3)，N型SiC欧姆接触掺杂区(3)上端设置有N型欧姆接触电极(5)，N型SiC欧姆接触掺杂区(5)上端与台阶顶部齐平，所述N型欧姆接触电极(5)两侧的台阶顶部位置上设置有α放射源(6)；所述相邻台阶之间的沟槽底部设置有肖特基接触电极(4)。

2.根据权利要求1所述的一种肖特基辐射伏特电池，其特征在于，所述N型SiC外延层(2)上的台阶高度为5μm～15μm，台阶宽度为10μm～20μm，台阶之间的间距为2μm～5μm。

3.根据权利要求2所述的一种肖特基辐射伏特电池，其特征在于，所述N型SiC外延层(2)的整体厚度为10μm～30μm。

4.根据权利要求1所述的一种肖特基辐射伏特电池，其特征在于，所述N型欧姆接触电极(5)的形状与所述N型SiC欧姆接触掺杂区(3)形状相同。

5.根据权利要求4所述的一种肖特基辐射伏特电池，其特征在于，所述N型SiC欧姆接触掺杂区(3)和所述N型欧姆接触电极(5)的宽度均为0.5μm～2μm。

6.根据权利要求5所述的一种肖特基辐射伏特电池，其特征在于，所述N型欧姆接触电极(5)包括从下到上依次设置的Ni层和Pt层构成，所述Ni层的厚度为200nm～400nm，所述Pt层的厚度为50nm～200nm。

7.根据权利要求1所述的一种肖特基辐射伏特电池，其特征在于，所述肖特基接触电极(4)的宽度与台阶间距相同。

8.根据权利要求7所述的一种肖特基辐射伏特电池，其特征在于，所述肖特基接触电极(4)包括从下而上依次设置的第一层电极和第二层电极，所述第一层电极为Ni层、Ti层或Pt层，厚度为50nm～100nm，所述第二层电极为Al层，厚度为1000nm～2000nm。