CN205099748U - 适用于高真空下的团簇沉积样品衬底座 - Google Patents
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Abstract
适用于高真空下的团簇沉积样品衬底座，将衬底座设计成一个菱柱结构，菱柱横截面为正六边形，菱柱选用材料为无氧铜材质，菱柱中间为空心，加热源放置在菱柱的内部；在菱柱结构的每个柱面上开设一个大圆孔和四个螺丝孔，样品通过四个开在柱面角落的螺丝孔固定，样品的中心置于大圆孔中心。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种分子束加工设备，尤其是团簇束流沉积系统设备。
背景技术
团簇束流沉积系统采用气相聚集过程形成团簇(纳米粒子)，通过气体动力学喷嘴形成束流，在高真空下以声速低能或被加速后荷能沉积于基体上，实现低能团簇束流沉积(CBD)或荷能团簇束流沉积(ECI)，团簇束流技术在制备纳米结构域、纳米组分薄膜具有巨大的应用市场。
实用新型内容
针对现有技术存在的问题，本实用新型目的是，提供一种适用于高真空下的团簇沉积样品衬底座，可以用于多个样品应用。
本实用新型的技术方案是：适用于高真空下的团簇沉积样品衬底座，将衬底座设计成一个菱柱结构，菱柱横截面为正六边形，菱柱选用材料为无氧铜材质，菱柱中间为空心，加热源放置在菱柱的内部。
在菱柱结构的每个柱面上开设一个大圆孔和四个螺丝孔，样品通过四个开在柱面角落的螺丝孔固定，样品的中心置于大圆孔中心。
本实用新型的有益效果：沉积样品六角方形衬底座，具体涉及一种适用于高真空下的样品沉积衬底座。可以方便用于多个样品应用。
附图说明
图1为本实用新型样品衬底座的结构说明图。
图2为本实用新型样品衬底座的横截面视图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。
如图1所示，衬底座为菱柱结构1，横截面为正六边形结构(图2)，中间为空心3，在六角衬底座的每个面的四角各开设一个螺丝孔4，在菱柱结构在每个柱面的中心开设一个大孔2，样品放置在每个面的中心，通过每个面上四个角上的螺丝孔固定。加热源放置在菱柱结构，横截面为正六边形衬底座的内部，可同时对六个样品进行加热，热量可以通过菱柱结构，横截面为正六边形每个面上中间开设的大孔直接辐射到样品上面，同时无氧铜材质的菱柱结构，横截面为正六边形衬底座也可以有效地将热量传递到样品上。
虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本实用新型。本实用新型所属技术领域具有通常知识者，在不脱离本实用新型的精神和范围内，当可作各种更改和润饰。因此，本实用新型的保护范围，当视权利要求书所界定者为准。
Claims (1)
1.适用于高真空下的团簇沉积样品衬底座，其特征是将衬底座设计成一个菱柱结构，菱柱横截面为正六边形，菱柱选用材料为无氧铜材质，菱柱中间为空心，加热源放置在菱柱的内部；在菱柱结构的每个柱面上开设一个大圆孔和四个螺丝孔，样品通过四个开在柱面角落的螺丝孔固定，样品的中心置于大圆孔中心。
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