CN204966380U - 一种真空灭弧室 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种真空灭弧室。该真空灭弧室包括：外壳；静端部，静端部包括静端连接盘、第一静触头和第二静触头，第一静触头与第二静触头电连接，第一静触头采用C_uW材料，第二静触头采用C_uC_r材料；第一动端部，第一动端部包括第一动触头，第一动触头具有与第一静触头闭合时的合闸位置以及与第一静触头分离时的分闸位置，第一动触头采用C_uW材料；第二动端部，第二动端部包括第二动触头，第二动触头具有与第二静触头闭合时的合闸位置以及与第二静触头分离时的分闸位置，第二动触头采用C_uC_r材料。

Description

一种真空灭弧室

技术领域

本实用新型涉及电气设备应用领域，具体而言，涉及一种真空灭弧室。

背景技术

目前，在10～35kV中压电气设备领域中，真空灭弧室已被广泛应用于电容器组等无功补偿装置的投切操作当中，并且操作频繁，每年操作次数可达300～700次。

现有的真空灭弧室主要包括两类：

一类是容性投切专用真空灭弧室，其特点是灭弧室采用单断口来进行投切，触头材料耐烧蚀，触头能够承受关合过程中4250Hz、20kA高频涌流带来的熔焊破坏。触头断开后能够耐受叠加有直流分量的系统恢复电压作用，此种情况下的投切重击穿概率低，通常可达到C2级标准。但该类真空灭弧室不具有短路故障情况下的开断功能，且容性开断电流也很小，额定背靠背电容器组开断电流一般不大于400A。

另一类是兼顾短路故障开断的容性投切用真空灭弧室，其特点是灭弧室也通过单断口来进行投切，但其采用开断性能优良的触头材料，系统发生短路故障时具有短路电流断开功能。相比前一类真空灭弧室，其容性开断电流较高。但其缺点是由于短路故障开断和容性投切操作共用一个断口，导致灭弧室的触头表面极易被破坏，增大了触头表面场致发射系数β，使得在随后进行正常容性电流开断时较容易发生重击穿，产生过电压，这对电容器补偿装置和电力系统的安全运行造成很大的威胁，同时进行正常容性投切次数也很有限。

真空灭弧室的使用寿命与其功能有关，事实上在进行电容器组投切操作时，真空灭弧室正常工作电流即为容性负载电流，容性负载开断操作几乎占整个开关寿命(合分次数)，而短路故障开断电流发生的机率非常小。

随着电力系统无功补偿问题日渐突出，真空灭弧室用于电容器组的投切操作更加频繁，同时对真空灭弧室短路电流开断能力的要求也不断提高。根据功能考核及操作寿命分析，目前传统的电容器组投切用单断口真空灭弧室无法较好地兼顾容性投切和短路故障开断稳定可靠，因此需要提高真空灭弧室的技术水平来满足相应要求。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种真空灭弧室，以解决现有技术中单断口的真空灭弧室无法稳定可靠地兼顾容性投切和短路故障开断的问题。

为了实现上述目的，根据本实用新型的实施例，提供了一种真空灭弧室，包括：外壳；静端部，静端部包括静端连接盘、第一静触头和第二静触头，静端连接盘与外壳连接以形成相互独立的第一灭弧腔室和第二灭弧腔室，第一静触头与第二静触头分别位于静端连接盘的两侧，第一静触头位于第一灭弧腔室内，第二静触头位于第二灭弧腔室内，且第一静触头与第二静触头电连接，其中，第一静触头采用C_uW材料，第二静触头采用C_uC_r材料；第一动端部，第一动端部包括第一动触头，第一动触头位于第一灭弧腔室内，第一动触头具有与第一静触头闭合时的合闸位置以及与第一静触头分离时的分闸位置，其中，第一动触头采用C_uW材料；第二动端部，第二动端部包括第二动触头，第二动触头位于第二灭弧腔室内，第二动触头具有与第二静触头闭合时的合闸位置以及与第二静触头分离时的分闸位置，其中，第二动触头采用C_uC_r材料。

进一步地，外壳包括上端盖、壳体本体和下端盖，上端盖盖设在壳体本体的一端，上端盖、壳体本体及静端连接盘之间形成第一灭弧腔室，下端盖盖设在壳体本体的另一端，下端盖、壳体本体及静端连接盘之间形成第二灭弧腔室。

进一步地，真空灭弧室还包括：第一屏蔽罩，第一屏蔽罩位于第一灭弧腔室内，第一屏蔽罩的第一端连接在上端盖的内侧，当第一动触头处于分闸位置时，第一动触头位于第一屏蔽罩内；第二屏蔽罩，第二屏蔽罩位于第一灭弧腔室内，第二屏蔽罩的第一端连接在静端连接盘上，第二屏蔽罩围绕第一静触头，第二屏蔽罩的第二端与第一屏蔽罩的第二端相对设置，且第二屏蔽罩的第二端与第一屏蔽罩的第二端之间具有间隙以形成固定断口。

进一步地，真空灭弧室还包括第三屏蔽罩，第三屏蔽罩的端部连接在上端盖的内侧，且第三屏蔽罩延伸至壳体本体与第一屏蔽罩之间。

进一步地，真空灭弧室还包括第四屏蔽罩，第四屏蔽罩位于第二灭弧腔室内，第四屏蔽罩焊接在壳体本体的内侧，第二静触头与第二动触头均位于第四屏蔽罩内。

进一步地，真空灭弧室还包括第五屏蔽罩，第五屏蔽罩的第一端连接在下端盖的内侧，第五屏蔽罩的第二端延伸至壳体本体与第二动端部之间。

进一步地，第一动端部还包括第一动导电杆，第一动导电杆的第一端穿过上端盖，第一动触头连接在第一动导电杆的第二端；第二动端部还包括第二动导电杆，第二动导电杆的第一端穿过下端盖，且第二动导电杆的第一端的延伸方向与第一动导电杆的第一端的延伸方向相互远离，第二动触头连接在第二动导电杆的第二端。

进一步地，真空灭弧室还包括第一波纹管和第二波纹管，第一波纹管套设在第一动导电杆上，且第一波纹管的端部与上端盖连接，第二波纹管套设在第二动导电杆上，且第二波纹管的端部与下端盖连接。

进一步地，静端部还包括静端导电座，静端导电座嵌设在静端连接盘上，第一静触头连接在静端导电座的第一侧面上，第二静触头连接在静端导电座的第二侧面上。

应用本实用新型的技术方案，该真空灭弧室包括静端部、第一动端部和第二动端部，其中，静端部具有第一静触头和与第一静触头电连接的第二静触头，第一动端部具有第一动触头，第二动端部具有第二动触头，并且第一动触头和第一静触头均采用C_uW材料，第二动触头与第二静触头均采用C_uC_r材料，真空灭弧室通过第一动触头与第一静触头配合形成第一断口、第二动触头与第二静触头配合形成第二断口。本实用新型的技术方案，该真空灭弧室可广泛应用于电力系统无功补偿电容器组投切的场合，同时具有开断短路故障电流的功能。其中，第一断口触头采用耐烧蚀的C_uW材料用以实现容性负载的关合，第二断口触头采用开断性能优异的C_uC_r材料用以实现容性负载及短路电流的开断，使得本实用新型真空灭弧室具有容性负载投切稳定、短路电流开断可靠等优点，将在电力系统无功补偿领域有着广阔的应用。

附图说明

构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：

图1示出了根据本实用新型的真空灭弧室的第一实施例的内部结构示意图；

图2示出了根据本实用新型的真空灭弧室的第二实施例的内部结构示意图；

图3示出了应用本实用新型的真空灭弧室在电容器组投入时的操作顺序示意图；

图4示出了应用本实用新型的真空灭弧室在电容器组切除或短路故障开断时的操作顺序示意图。

其中，上述附图包括以下附图标记：

11、上端盖；12、壳体本体；

13、下端盖；20、静端部；

21、静端连接盘；22、第一静触头；

23、第二静触头；24、静端导电座；

30、第一动端部；31、第一动触头；

32、第一动导电杆；40、第二动端部；

41、第二动触头；42、第二动导电杆；

51、第一屏蔽罩；52、第二屏蔽罩；

53、第三屏蔽罩；54、第四屏蔽罩；

55、第五屏蔽罩；61、第一波纹管；

62、第二波纹管。

具体实施方式

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。

如图1和图2所示，本实用新型提供了一种真空灭弧室。该真空灭弧室包括外壳、静端部20、第一动端部30和第二动端部40，其中，静端部20设置在外壳内以形成相互独立的第一灭弧腔室和第二灭弧腔室，第一动端部30包括第一动触头31，第一动触头31位于第一灭弧腔室内，第一动触头31具有与静端部20闭合时的合闸位置以及与静端部20分离时的分闸位置，第二动端部40包括第二动触头41，第二动触头41位于第二灭弧腔室内，第二动触头41具有与静端部20闭合时的合闸位置以及与静端部20分离时的分闸位置。

其中，静端部20包括静端连接盘21(为了满足静端连接盘21对强度、含气和焊接密封等要求，静端连接盘21由金属材质制造，并满足耐高温要求)、第一静触头22和第二静触头23，第一静触头22设置在静端连接盘21的第一侧，第二静触头23设置在静端连接盘21的第二侧，静端连接盘21与外壳连接，第一静触头22位于第一灭弧腔室内，第二静触头23位于第二灭弧腔室内，且第一静触头22与第二静触头23电连接。并且，第一静触头22与第一动触头31均采用C_uW材料，第二静触头23与第二动触头41均采用C_uC_r材料。

第一动触头31与第一静触头22采用耐烧蚀的C_uW材料，其目的是由于第一断口要执行正常工作时容性负载关合操作，真空灭弧室在关合容性负载尤其为背靠背电容器组过程中，会产生幅值很高的高频涌流，可达20kA、4250Hz的水平，真空灭弧室关合时预击穿电弧会局部烧蚀加热第一动触头31和第一静触头22的触头表面，使得触头闭合时发生熔焊，因此采用C_uW材料以防止熔焊发生。同时在容性电流开断结束后，C_uW材料又有较强的耐压特性，有助于承受叠加有直流分量的系统恢复电压和因关合涌流而产生的过电压，减小开断重击穿的概率。

第二动触头41与第二静触头23采用C_uC_r材料，其目的是由于第二断口要执行容性负载和短路故障的开断操作，高性能触头材料是真空灭弧室电流开断的核心与关键。C_uC_r材料作为开断性能优异的触头材料，在大电流开断过程中，电弧电流在触头表面烧蚀C_u、C_r粒子溶解各向同性。电弧温度越高，C_r在C_u中的溶解越多，但到了一定温度范围C_r的溶解达到平衡，这时触头表面的熔坑很浅。在冷却及凝固时C_r又十分均匀，不会形成炽热的斑点，相应地触头间隙的介质恢复速度快，灭弧能力强，因此采用C_uC_r材料有助于提高真空灭弧室的开断能力。

静端部20还包括静端导电座24，静端导电座24嵌设在静端连接盘21上(本实用新型的静端导电座24可以与静端连接盘21是一体的金属结构件)，第一静触头22连接在静端导电座24的第一侧面上，第二静触头23连接在静端导电座24的第二侧面上。通过之间在静端连接盘21上直接镶嵌静端导电座24来实现第一静触头22与第二静触头23之间的电连接，这样的设置方式简化了真空灭弧室的导通结构，也有利于实现真空灭弧室的小型化设计。

这样，第一静触头22与第一动触头31之间形成第一断口，第二静触头23与第二动触头41形成第二断口，真空灭弧室通过第一动触头31、第二动触头41与静端部20之间的连接而导通。本实用新型的技术方案，该真空灭弧室可广泛应用于电力系统无功补偿电容器组投切的场合，同时具有开断短路故障电流的功能。其中，第一断口触头采用耐烧蚀的C_uW材料用以实现正常工作时容性负载的关合，第二断口触头采用开断性能优异的C_uC_r材料用以实现容性负载及短路电流的开断。使得本实用新型真空灭弧室具有容性负载投切稳定、短路电流开断可靠等优点，将在电力系统无功补偿领域有着广阔的应用。

在本实用新型的实施例中，该真空灭弧室的外壳外形为圆筒形状，并且，外壳内形成的第一灭弧腔室与第二灭弧腔室是关于静端部20相对称的两个独立腔室。

具体地，外壳包括上端盖11、壳体本体12和下端盖13，上端盖11盖设在壳体本体12的一端，下端盖13盖设在壳体本体12的另一端，其中，上端盖11、壳体本体12及静端连接盘21之间形成第一灭弧腔室，下端盖13、壳体本体12及静端连接盘21之间形成第二灭弧腔室。真空灭弧室还包括第一屏蔽罩51和第三屏蔽罩53，第一屏蔽罩51的第一端连接在上端盖11的内侧，第三屏蔽罩53的第一端连接在上端盖11的内侧。并且，壳体本体12为陶瓷材料制作的瓷壳，上端盖11和下端盖13为金属盖。本实用新型的实施例的上端盖11和下端盖13利用特殊材料钎焊在壳体本体12上，从而实现上端盖11与壳体本体12之间、下端盖13与壳体本体12之间的密封，以保证第一灭弧腔室和第二灭弧腔室内的真空度。

如图1所示，其示出了本实用新型的真空灭弧室的第一实施例的结构示意图。在本实施例中，壳体本体12为一体结构的圆筒形结构(壳体本体12为陶瓷材料制作的瓷壳)，静端连接盘21连接在壳体本体12的内壁上，从而将一体结构的壳体本体12的灭弧腔室分隔成相互独立的第一灭弧腔室和第二灭弧腔室。

如图2所示，其示出了本实用新型的真空灭弧室的第二实施例的结构示意图。第二实施例与第一实施例的不同之处在于以下结构。壳体本体12包括两个形状和大小均相同的第一圆筒和第二圆筒(第一圆筒和第二圆筒均为陶瓷材料制作的瓷壳)，静端连接盘21的外径与壳体本体12(第一圆筒和第二圆筒)的外径相等，第一圆筒和第二圆筒分别连接在静端连接盘21的两侧，其中，第一圆筒与静端连接盘21之间，以及第二圆筒与静端连接盘21之间的连接可以利用特殊的钎焊材料进行焊接，从而保证形成的第一灭弧腔室和第二灭弧腔室的真空度，也可以其他方式(要求此处的连接方式满足密封要求，并且要求连接方式的连接材料或连接结构耐高温)的密封连接。这样，上端盖11、第一圆筒和静端连接盘21之间形成第一灭弧腔室，下端盖13、第二圆筒和静端连接盘21之间形成第二灭弧腔室。第二实施例与第一实施例的其余结构组成部分均相同。

具体地，本实用新型的真空灭弧室还包括第二屏蔽罩52，其中，第一屏蔽罩51位于第一灭弧腔室内，当第一动触头31处于分闸位置时，第一动触头31位于第一屏蔽罩51内(第一屏蔽罩51为圆筒状，将第一动端部30围住)，第二屏蔽罩52位于第一灭弧腔室内，第二屏蔽罩52的第一端连接在静端连接盘21上，第二屏蔽罩52围绕在第一静触头22的外侧，第二屏蔽罩52的第二端与第一屏蔽罩51的第二端相对设置，且第二屏蔽罩52的第二端与第一屏蔽罩51的第二端之间具有间隙以形成固定断口(即第一屏蔽罩51与第二屏蔽罩52都是固定设置的，从而形成了固定断口)。当第二断口完成容性负载或短路故障开断之后，第一断口再进行分闸操作，此时，第一动触头31与第一静触头22之间承受了静态绝缘耐压，而第一屏蔽罩51和第二屏蔽罩52之间构成固定断口，有助于第一动触头31与第一静触头22之间的电场转移和优化。

在本实用新型中，真空灭弧室还包括第四屏蔽罩54，第四屏蔽罩54位于第二灭弧腔室内，第二静触头23与第二动触头41均位于第四屏蔽罩54内。当第二断口电流开断过程第二动触头41与第二静触头23之间产生金属飞溅物时，利用第四屏蔽罩54进行吸收保护，从而阻挡金属飞溅物飞溅到壳体本体12的内壁上，防止了开断过程中，壳体本体12因炽热金属残余粒子喷溅而导致闪络击穿，致使开断失败。

由于真空灭弧室中上端盖11与壳体本体12的焊接处以及下端盖13与壳体本体12的焊接处属于真空-陶瓷-金属三相介质交界处，电场集中畸变，为优化此三相介质交界处的电场，在真空灭弧室上端盖11处设置有第三屏蔽罩53，以及在下端盖13处设置有第五屏蔽罩55，避免此处电场畸变而造成绝缘失败。因此，如图1和图2所示，第三屏蔽罩53的第二端延伸至壳体本体12与第一屏蔽罩51之间。第三屏蔽罩53以第一屏蔽罩51为参照进行延伸，第三屏蔽罩53延伸的长度小于第一屏蔽罩51的长度，并且第三屏蔽罩53的第一端可以连接在上端盖11并靠近壳体本体12的位置。第三屏蔽罩53能够屏蔽上端盖11与壳体本体12之间的焊接区域的电场，改善真空灭弧室的内部电场组成，优化真空灭弧室电场。真空灭弧室还包括第五屏蔽罩55，第五屏蔽罩55的第一端连接在下端盖13的远离第一动触头31的端部的内侧面上，第五屏蔽罩55的第二端延伸至壳体本体12与第二动端部40之间。第五屏蔽罩55以第二动端部40为参照延伸，当第二动端部40处于分闸状态时(即此时第二动端部40与下端盖13的内侧之间的距离最短)，此时第五屏蔽罩55的长度距离小于第二动端部40与下端盖13之间的最短距离。第五屏蔽罩55的第一端可以连接在下端盖13并靠近壳体本体12的位置。这样，装配完成的第三屏蔽罩53与第五屏蔽罩55之间并不关于任何参照对称设置。

为了进一步完善真空灭弧室的导电连接结构，完善真空灭弧室的导通或断开的操作方式，因此，第一动端部30还包括第一动导电杆32，第一动导电杆32的第一端穿过上端盖11，第一动触头31连接在第一动导电杆32的第二端，第二动端部40还包括第二动导电杆42，第二动导电杆42的第一端穿过下端盖13，且第二动导电杆42的第一端的延伸方向与第一动导电杆32的第一端的延伸方向相互远离，第二动触头41连接在第二动导电杆42的第二端。

为了能够更好地保证真空灭弧室的真空度，提高真空灭弧室性能，真空灭弧室还包括第一波纹管61和第二波纹管62，第一波纹管61套设在第一动导电杆32上，且第一波纹管61的端部与上端盖11连接，第二波纹管62套设在第二动导电杆42上，且第二波纹管62的端部与下端盖13连接。本实用新型的真空灭弧室通过第一波纹管61对第一动导电杆32与上端盖11之间以及通过第二波纹管62对第二动导电杆42与下端盖13之间进行进一步的气密性密封，使得第一动导电杆32和第二动导电杆42在移动的过程中也能够保证较好的密封效果，实现灭弧腔室(第一灭弧腔室和第二灭弧腔室)的高真空度。

根据本实用新型的另一方面，提供了一种真空灭弧室的操作方法。如图3所示，为本实用新型的真空灭弧室在执行投切(投切，包括投入(导通)和切除(断开)两种操作)容性负载时的关合操作过程。当设备所处电力系统无功负荷大，系统电压偏低，因而利用真空灭弧室投入电容器组对系统进行无功补偿，其中，真空灭弧室的关合操作步骤为：先将第二动触头41与静端部20合闸，再将第一动触头31与静端部20合闸以导通真空灭弧室。真空灭弧室由图3中a的断开初始状态，首先第二动触头41与第二静触头23合闸，从而到达图3中b的闭合状态，然后第一动触头31与第一静触头22合闸，以完成真空灭弧室的关合操作，如图3中c所示闭合状态。

如图4所示，为该真空灭弧室在执行容性负载或短路故障时的开断操作过程。当系统无功负荷小系统电压偏高，需要将用以无功补偿的电容器组切除，或者当系统出现短路故障，需要进行短路电流开断时，本发的明真空灭弧室开始进行分闸操作，其操作顺序为：先将第二动触头41与静端部20分闸，进行电流开断，再将第一动触头31与静端部20分闸以完成真空灭弧室的整体分闸。如图4所示，真空灭弧室由图4中a的合闸的初始状态，首先第二动触头41与第二静触头23分闸，从而到达图4中b的断开状态，然后第一动触头31与第一静触头22分闸，以完成真空灭弧室的开断操作，如图4中c所示断开状态。容性电流或短路电流流经正在开断的第二断口时形成最初的金属熔桥，金属熔桥熔断后，桥柱状真空电弧形成，之后随电弧电流的增大发展成扩散态或集聚态真空电流。最终当第二断口燃弧结束，并且弧后介质恢复过程能够成功耐受暂态恢复电压TRV作用，表示短路电流开断成功，如图4中b所示。然后，第一断口进行分闸以完成全部开断操作。

图3所示为应用第一实施例的真空灭弧室进行合闸操作的示意图，当应用第二实施例的真空灭弧室进行合闸操作时，其合闸操作方法与应用第一实施例的真空灭弧室相同。

图4所示为应用第一实施例的真空灭弧室进行分闸操作的示意图，当应用第二实施例的真空灭弧室进行分闸操作时，其分闸操作方法与应用第一实施例的真空灭弧室相同。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种真空灭弧室，其特征在于，包括：

外壳；

静端部(20)，所述静端部(20)包括静端连接盘(21)、第一静触头(22)和第二静触头(23)，所述静端连接盘(21)与所述外壳连接以形成相互独立的第一灭弧腔室和第二灭弧腔室，所述第一静触头(22)与所述第二静触头(23)分别位于所述静端连接盘(21)的两侧，所述第一静触头(22)位于所述第一灭弧腔室内，所述第二静触头(23)位于所述第二灭弧腔室内，且所述第一静触头(22)与所述第二静触头(23)电连接，其中，所述第一静触头(22)采用C_uW材料，所述第二静触头(23)采用C_uC_r材料；

第一动端部(30)，所述第一动端部(30)包括第一动触头(31)，所述第一动触头(31)位于所述第一灭弧腔室内，所述第一动触头(31)具有与所述第一静触头(22)闭合时的合闸位置以及与所述第一静触头(22)分离时的分闸位置，其中，所述第一动触头采用C_uW材料；

第二动端部(40)，所述第二动端部(40)包括第二动触头(41)，所述第二动触头(41)位于所述第二灭弧腔室内，所述第二动触头(41)具有与所述第二静触头(23)闭合时的合闸位置以及与所述第二静触头(23)分离时的分闸位置，其中，所述第二动触头(41)采用C_uC_r材料。

2.根据权利要求1所述的真空灭弧室，其特征在于，所述外壳包括上端盖(11)、壳体本体(12)和下端盖(13)，所述上端盖(11)盖设在所述壳体本体(12)的一端，所述上端盖(11)、所述壳体本体(12)及所述静端连接盘(21)之间形成所述第一灭弧腔室，所述下端盖(13)盖设在所述壳体本体(12)的另一端，所述下端盖(13)、所述壳体本体(12)及所述静端连接盘(21)之间形成所述第二灭弧腔室。

3.根据权利要求2所述的真空灭弧室，其特征在于，所述真空灭弧室还包括：

第一屏蔽罩(51)，所述第一屏蔽罩(51)位于所述第一灭弧腔室内，所述第一屏蔽罩(51)的第一端连接在所述上端盖(11)的内侧，当所述第一动触头(31)处于所述分闸位置时，所述第一动触头(31)位于所述第一屏蔽罩(51)内；

第二屏蔽罩(52)，所述第二屏蔽罩(52)位于所述第一灭弧腔室内，所述第二屏蔽罩(52)的第一端连接在所述静端连接盘(21)上，所述第二屏蔽罩(52)围绕所述第一静触头(22)，所述第二屏蔽罩(52)的第二端与所述第一屏蔽罩(51)的第二端相对设置，且所述第二屏蔽罩(52)的第二端与所述第一屏蔽罩(51)的第二端之间具有间隙以形成固定断口。

4.根据权利要求3所述的真空灭弧室，其特征在于，所述真空灭弧室还包括第三屏蔽罩(53)，所述第三屏蔽罩(53)的端部连接在所述上端盖(11)的内侧，且所述第三屏蔽罩(53)延伸至所述壳体本体(12)与所述第一屏蔽罩(51)之间。

5.根据权利要求2所述的真空灭弧室，其特征在于，所述真空灭弧室还包括第四屏蔽罩(54)，所述第四屏蔽罩(54)位于所述第二灭弧腔室内，所述第四屏蔽罩(54)焊接在所述壳体本体(12)的内侧，所述第二静触头(23)与所述第二动触头(41)均位于所述第四屏蔽罩(54)内。

6.根据权利要求5所述的真空灭弧室，其特征在于，所述真空灭弧室还包括第五屏蔽罩(55)，所述第五屏蔽罩(55)的第一端连接在所述下端盖(13)的内侧，所述第五屏蔽罩(55)的第二端延伸至所述壳体本体(12)与所述第二动端部(40)之间。

7.根据权利要求2所述的真空灭弧室，其特征在于，

所述第一动端部(30)还包括第一动导电杆(32)，所述第一动导电杆(32)的第一端穿过所述上端盖(11)，所述第一动触头(31)连接在所述第一动导电杆(32)的第二端；

所述第二动端部(40)还包括第二动导电杆(42)，所述第二动导电杆(42)的第一端穿过所述下端盖(13)，且所述第二动导电杆(42)的第一端的延伸方向与所述第一动导电杆(32)的第一端的延伸方向相互远离，所述第二动触头(41)连接在所述第二动导电杆(42)的第二端。

8.根据权利要求7所述的真空灭弧室，其特征在于，所述真空灭弧室还包括第一波纹管(61)和第二波纹管(62)，所述第一波纹管(61)套设在所述第一动导电杆(32)上，且所述第一波纹管(61)的端部与所述上端盖(11)连接，所述第二波纹管(62)套设在所述第二动导电杆(42)上，且所述第二波纹管(62)的端部与所述下端盖(13)连接。

9.根据权利要求1所述的真空灭弧室，其特征在于，所述静端部(20)还包括静端导电座(24)，所述静端导电座(24)嵌设在所述静端连接盘(21)上，所述第一静触头(22)连接在所述静端导电座(24)的第一侧面上，所述第二静触头(23)连接在所述静端导电座(24)的第二侧面上。