CN2048973U - 一种光学干涉测量仪器 - Google Patents
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Abstract
本实用新型属于一种光学测量仪器的气室与气路系统的改进，主要由光路系统，测量气室，参比气室，吸附室等组成，两气室相通，中间串接一个吸附室，吸附室内装有受测气体组分的特异吸附剂，本实用新型与现有技术相比具有不指定背景气体，测量准确、测定范围广等优点，特别适用于麻醉临床的气体监测使用。
Description
本实用新型属于一光学测量仪器的气室与气路系统的改进。
现有的光学干涉测量仪器均依据同源相关的两束光，通过不同气室，当两气室成份不同时，两束光会聚点上的干涉条纹发生移位的原理设计而成，如日本产理研18型，东科S6型RIKEN18型，国产GWJ型、AW型、AQG型等型号同属这种类型，这些仪器广泛用于矿山瓦斯测定等领域，公知公用和这些产品的参比气室与测量气室互相独立，参比气室内在出厂前充入标准气体，如新鲜空气或氧气，这样当受测气样的背景气体与原产品的标准气体不同时，仪器将出现极度偏转，无法应用，同时，气压、温度的不平衡也会造成测量误差，使这种仪器的使用范围受到限制。
本实用新型克服了现有技术的上述不足设计了一种不确定背景气体，在不同的气体环境下均能正常工作的光学干涉测量仪器。
本实用新型是这样实现的，测量气体浓度的光学干涉仪，由光路系统，电源及气路系统组成，气室分为参比气室和测量气室，其特征是参比气室与测量气室相通，两气室中间串接一个吸附室，吸附室内装有受测气体组分的特异吸附剂。这种参比气室与测量气室，由吸附室相连成串联结构的光学干涉仪，由于吸附室内装有受测组分的吸附剂，使参比气室与测量气室内的背景气体总是保持一致，克服了同类产品特定背景气体的缺点，减少了气压温度不平衡造成的测量误差，吸附室为长圆柱容器，有两个开口，入口与测量气室出口相连，出口与参比气室入口相连，连接部位保证气体密封，其容积应保证容纳足量的吸附剂。
本实用新型在测量CO2时，吸附室内装有受测气体组分的特异吸附剂为钠石灰，在测量麻醉气体及其它有机气体时吸附室内装有吸附剂为活性碳。使用时受测气体首先进入测量气室，然后流入吸附室，去除受测组分，余下的背景气体再进入参比气室作为标准对照，即可读出二室气体成份不同引起的光栅偏移值。这样无论受测组分混合在什么背景气体中，通过吸附室后，参比气室与测量气室中的气体，除被吸附组分外，背景气体完全一致，均能良好地完成测量，由于二室相通接受同一气体样品，故气压、温度仍然平衡，减少了气压、温度不平衡造成的测量误差，扩大了光学干涉仪的应用范围。
实施例：
附图说明：
图1为已知产品的气室结构原理示意图；
图2为本实用新型的气室结构原理示意图。
标号说明：
1、参比气室出口（原产品中连有气压平衡回旋管） 2、参比气室 3、测量气室 4、测量气室出口 5、测量气室入口 6、光路 7、参比气室入口（原产品中为封闭状态） 8、吸附室出口 9、吸附剂 10、吸附室 11、吸附室入口
实施例：
根据附图对实施例做进一步的详述，本实用新型是在原GWJ－1A型光干涉型甲烷测定器的基础上改进的，主要由光路系统6、测量气室3、5、参比气室2、7，吸附室8、10、11等组成，气室分为参比气室2和测量气室3，参比气室2与测量气室3相通，两气室2、3中间串接一个吸附室10，吸附室10内装有受测气体组分的特异吸附剂9。改进后的气体光学干涉仪，在使用时，为适应特殊组分的测量直读性，气室的长度与标尺亦应做相应的改进。吸附室10可制成圆柱形容器，尺寸为φ20×100，测量肺泡气CO2浓度时，内装钠石灰吸附剂9；测量麻醉气体时，内装活性碳。使用时，仅需将150ml左右的气样由入口（5）注入仪器，经测量室3的出口4流入吸附室10，去除受测组分，余下的背景气体再进入参比气室工作为标准对照，这时在标尺上可读取干涉条纹的偏移值，其值乘以相应的校正系数（Fco2＝0.95）（FAN＝0.13）即可得到实测百分浓度值。
本实用新型与现有技术相比具有不指定背景气体，气压、温度自然平衡，测量准确测定范围等优点、是一种经济、实用的光学气体测量仪器。
Claims (3)
1、一种测量气体浓度的光学干涉仪，由光路系统、光源、电路及气路系统组成，气室分为参比气室和测量气室，其特征是参比气室(2)与测量气室(3)相通，两气室中间串接一个吸附室(10)，吸附室(10)内装有受测气体组分的特异吸附剂(9)。
2、根据权利要求1所述的光学干涉仪，其特征在于测量CO2时，吸附室（9）内装有受测气体组分的特异吸附剂（9）为钠石灰。
3、根据权利要求1所述的光学干涉仪，其特征在于在测量麻醉气体及其它有机气体时，吸附室（10）内装有的吸附剂（9）为活性碳。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN 89208152 CN2048973U (zh) | 1989-06-10 | 1989-06-10 | 一种光学干涉测量仪器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN 89208152 CN2048973U (zh) | 1989-06-10 | 1989-06-10 | 一种光学干涉测量仪器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN2048973U true CN2048973U (zh) | 1989-12-06 |
Family
ID=4864881
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN 89208152 Withdrawn CN2048973U (zh) | 1989-06-10 | 1989-06-10 | 一种光学干涉测量仪器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN2048973U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107030376A (zh) * | 2015-09-17 | 2017-08-11 | 发那科株式会社 | 激光加工系统 |
-
1989
- 1989-06-10 CN CN 89208152 patent/CN2048973U/zh not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107030376A (zh) * | 2015-09-17 | 2017-08-11 | 发那科株式会社 | 激光加工系统 |
| CN107030376B (zh) * | 2015-09-17 | 2019-12-17 | 发那科株式会社 | 激光加工系统 |
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