CN204604082U - 改进结构的端面磨机机架结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种改进结构的端面磨机机架结构，包括有机架和设置于机架上的排水通道，所述机架的顶面由相对的两边沿向中部位置逐步向下倾斜形成第一安装斜面和第二安装斜面，机架的顶面中部位置设置有与排水通道连通的倾斜排水板。本实用新型与现有技术相比，其有益效果为：1、本实用新型有利于机床的日常清理维护，提高了机床的工作性能，延长了机床的使用寿命；2、本实用新型提高工人日常清理保养的积极性，增强对机床的维护意识；可给工人本身及机床带来良好的生产环境；3、本实用新型节约机床的维护维修成本，无形降低了产品的生产成本。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种磨机机架，属于五金刀剪设备技术领域，尤其是指一种改进结构的端面磨机机架结构。
背景技术
在现有技术中，传统平板式磨机机架的顶面采用一水平平板结构，这种水平平板结构在实际的应用过程中存在着下述问题，即当机床的切削液及砂轮粉末掉下来时，会停留堆积在机架的水平平板结构上而排泄不了，时间一长就会形成积垢，从而造成了工人对机床清洗、维护的困难，因而机床上堆积了大量磨削液和磨削杂物，这样就无形缩短了机床的使用寿命和影响磨机的工作性能，增加了设备的维修成本和产品的生产成本。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服现有技术中的缺点与不足，提供一种改进结构的端面磨机机架结构，该机架结构的顶面采用了新型斜面结构，有利于磨削液及砂轮粉末的自动排泄，完善优化了机床的排泄系统，提高了机床的排泄性能，从而使机床的结构更加合理化和人性化。
为了实现上述目的，本实用新型按照以下技术方案实现：
一种改进结构的端面磨机机架结构，包括有机架和设置于机架上的排水通道，所述机架的顶面由相对的两边沿向中部位置逐步向下倾斜形成第一安装斜面和第二安装斜面，机架的顶面中部位置设置有与排水通道连通的倾斜排水板。
进一步，所述第一安装斜面上设置有主轴箱垫块，主轴箱垫块的上表面与水平面平行；所述第二安装斜面上设置有刀架座垫块，刀架座垫块的上表面与水平面平行。
进一步，所述机架的边沿四周设置有围水板。
本实用新型与现有技术相比，其有益效果为：
1、本实用新型有利于机床的日常清理维护，提高了机床的工作性能，延长了机床的使用寿命；
2、本实用新型提高工人日常清理保养的积极性，增强对机床的维护意识；可给工人本身及机床带来良好的生产环境；
3、本实用新型节约机床的维护维修成本，无形降低了产品的生产成本。
为了能更清晰的理解本实用新型，以下将结合附图说明阐述本实用新型的具体实施方式。
附图说明
图1是本实用新型的立体结构示意图。
图2是本实用新型的正面结构示意图。
具体实施方式
如图1、2所示，本实用新型所述改进结构的端面磨机机架结构，包括有机架1、设置于机架上的排水通道2及设置于机架边沿四周的围水板3。
上述机架1的顶面由相对的两边沿向中部位置逐步向下倾斜形成第一安装斜面41和第二安装斜面42，机架1的顶面中部位置设置有与排水通道连通的倾斜排水板43。
进一步，所述第一安装斜面41上设置有主轴箱垫块51，主轴箱垫块51的上表面与水平面平行；所述第二安装斜面42上设置有刀架座垫块52，刀架座垫块52的上表面与水平面平行。
机床工作时，由于机架顶面采用了斜面结构，完善了排泄系统，大量的磨削液和磨屑可以从机架的斜面结构排入倾斜排水板，再通过排水通道排出机架，从而避免机架上磨削液和磨屑的堆积，腐蚀机床，可以很好地保护了机床。
本实用新型并不局限于上述实施方式，如果对本实用新型的各种改动或变型不脱离本实用新型的精神和范围，倘若这些改动和变型属于本实用新型的权利要求和等同技术范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型。
Claims (3)
1.一种改进结构的端面磨机机架结构，包括有机架和设置于机架上的排水通道，其特征在于：所述机架的顶面由相对的两边沿向中部位置逐步向下倾斜形成第一安装斜面和第二安装斜面，机架的顶面中部位置设置有与排水通道连通的倾斜排水板。
2.根据权利要求1所述改进结构的端面磨机机架结构，其特征在于：所述第一安装斜面上设置有主轴箱垫块，主轴箱垫块的上表面与水平面平行；所述第二安装斜面上设置有刀架座垫块，刀架座垫块的上表面与水平面平行。
3.根据权利要求1或2所述改进结构的端面磨机机架结构，其特征在于：所述机架的边沿四周设置有围水板。
Priority Applications (1)
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| CN201520049568.2U CN204604082U (zh) | 2015-01-23 | 2015-01-23 | 改进结构的端面磨机机架结构 |
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| CN (1) | CN204604082U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109465738A (zh) * | 2018-12-10 | 2019-03-15 | 北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所） | 一种抛光基座及抛光设备 |
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2015
- 2015-01-23 CN CN201520049568.2U patent/CN204604082U/zh not_active Expired - Fee Related
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| CN109465738A (zh) * | 2018-12-10 | 2019-03-15 | 北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所） | 一种抛光基座及抛光设备 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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| GR01 | Patent grant | ||
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Granted publication date: 20150902 Termination date: 20180123 |