背景技术
纹影方法又称施利伦(Schlieren)方法,是一种经典的光学显示技术。用于显示光在透明介质中由于各种原因引起的折射率变化,通过检测气流流过实验模型时流场的介质变化,可直观演示流场流动图谱,展示流态结构。纹影法可应用在以下几个方向:光学测试中光学元器件的检测;观察液体之中的热对流和物质流动现象,还有液体表面波、超声波和液体喷射等领域;冲击波物理与爆轰物理实验研究中,用于显示流场、冲击波阵面及在透明介质中的传播、定性分析流场的折射率、密度、温度以及速度状态的变化。
纹影系统的分类有多种方式,其中,根据使用纹影物镜类型可分为反射式纹影系统和透射式纹影系统。透射式纹影系统和反射式系统主要区别在于纹影物镜的选择,透射式纹影系统选择透镜作为纹影物镜,反射式纹影系统选择反射镜作为纹影物镜。由于透镜的加工难度比反射镜困难的多,故对于大口径的纹影系统通常选用反射式纹影系统。
根据纹影系统中纹影物镜的直径尺寸大小,人为的将纹影系统分为大口径纹影系统和小口径纹影系统,见表1。
表1:大口径与小口径纹影系统比较
根据纹影系统的各个器件是否进行集成,可将纹影系统分为整体式纹影系统与分体式纹影系统,见表2。
表2:整体式与分体式纹影系统比较
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是提供一种分体式纹影系统,可实现不同结构纹影系统的灵活转变。
本实用新型解决技术问题所采用的技术方案是:分体式纹影系统,按光路依次包括:光源、聚光镜组、狭缝、第一主反射镜、刀口和相机。
进一步的,还包括第二主反射镜,所述第二主反射镜设置在所述第一主反射镜后面。
进一步的,还包括第一次反射镜和第二次反射镜,所述第一次反射镜设置在所述狭缝后面,所述第二次反射镜设置在所述第二主反射镜后面。
进一步的,所述第一次反射镜和第二次反射镜构成次反射镜模块。
进一步的,所述第一主反射镜和第二主反射镜分别由第一透镜和第二透镜代替。
进一步的,所述第一主反射镜和第二主反射镜构成主反射镜模块。
进一步的,所述光源、聚光镜组和狭缝构成光源聚光镜狭缝模块。
进一步的,所述光源中心、聚光镜组中心和狭缝中心重合。
本实用新型的有益效果是:可实现不同结构纹影系统的转变,如单光程纹影系统到双光程纹影系统的转变,反射式纹影系统到透射式纹影系统的转变,实现一套结构多套纹影系统,解决了以往纹影仪形式单一的问题;由于本实用新型的纹影系统采用标准光学调整系统,成本低、生产周期短、安全可靠,可满足一般研究需求和高校演示实验使用;本实用新型机械结构均采用轻质材料,在满足应有的调节功能的同时结构简单,搬运轻便,同时调节结构多数选用标准光具座,可根据使用过程中调节范围的不同采用不同器件进行代替,节约成本的同时提供了系统的实用性;本实用新型的所有元器件均可进行自由拆装,自由搭配,实现各种纹影光路的搭建,安装调试方便,实用性强,灵活性高。
具体实施方式
如图1-图4所示,本实用新型的分体式纹影系统包括:
光源1:为整套纹影系统提供照明光源,光源1可采用卤钨灯、氙灯、激光或LED光源,光源类型和功率均可根据需要改变;
聚光镜组2:聚光镜组2将光源1的灯丝清晰成像在狭缝3上;
狭缝3:置于第一主反射镜5的焦点位置处,形成系统所需的线光源;
第一次反射镜4:为平面反射镜,置于狭缝3和第一主反射镜5之间,起转折光路作用,非纹影系统必备器件,根据实际使用环境决定是否需要;
第一主反射镜5:为球面反射镜,使狭缝处形成的线光源通过第一主反射镜5反射形成平行光,保证第一主反射镜5和第二主反射镜6之间光束为平行光束;
第二主反射镜6:为球面反射镜,使平行光经过第二主反射镜6进行聚焦,汇聚到刀口8;
第二次反射镜7:为平面反射镜,置于第二主反射镜6和刀口8之间,起转折光路作用,非纹影系统必备器件,根据实际使用环境决定是否需要;
若采用第一次反射镜4,通常要在对称位置设置第二次反射镜7,这样对称光学系统可有效校正像差;
刀口8:将狭缝像成像于刀口8,对光线进行切割,通过调整刀口切割量可在相机9内形成清晰纹影图像;
相机9:纹影图像的成像模块,具体型号根据实际要求选择;
第一透镜35和第二透镜36:采用双凸或平凸透镜。
本实用新型可以根据实际使用需求灵活转变:
1)如果实际使用环境比较狭小,就可配备上述第一次反射镜4和第二次反射镜7,起转折光路作用,以适应比较狭小的区域,构成适应狭小区域的反射式纹影系统,该系统按光路依次包括:光源1、聚光镜组2、狭缝3、第一次反射镜4、第一主反射镜5、第二主反射镜6、第二次反射镜7、刀口8和相机9,如图1所示。
2)如果实际使用环境比较大,就可不需要配备上述第一次反射镜4和第二次反射镜7,这样就构成适应大区域的反射式纹影系统,该系统按光路依次包括:光源1、聚光镜组2、狭缝3、第一主反射镜5、第二主反射镜6、刀口8和相机9,如图2所示。
3)如果要提高本系统的灵敏度,还可采用一个主反射镜的系统,构成灵敏度更高的双光程反射式纹影系统,该系统按光路依次包括:光源1、聚光镜组2、狭缝3、第一主反射镜5、刀口8和相机9,如图3所示。
4)如果不采用反射镜,而只采用透镜,就构成透射式纹影系统,该系统按光路依次包括:光源1、聚光镜组2、狭缝3、第一透镜35、第二透镜36、刀口8和相机9,如图4所示。
为方便调试,本实用新型可分为4个主要部件,将上述光源1、聚光镜组2和狭缝3合并调节,统称为光源聚光镜狭缝模块;将第一主反射镜5和第二主反射镜6统称为主反射镜模块;将第一次反射镜4和第二次反射镜7统称为次反射镜模块,以及刀口模块。
1)光源聚光镜狭缝模块
如图5和图6所示,光源1位于光源座12上,光源座12可上下微调,保证光源1中心、聚光镜组2中心和狭缝3中心重合,使光源1通过聚光镜组2后可清晰成像于狭缝3处,形成所需的照明光源;聚光镜组2由数块光学玻璃构成,位于聚光镜筒10中,聚光镜筒10可前后微调,保证光源成像质量;狭缝3宽度和长度根据光源成像设计确定,可根据需求使用彩色或黑白狭缝,也可选用单口或多口狭缝,狭缝3由狭缝架11固定锁紧,狭缝架11通过可调支杆21与滑块13连接,可调支杆21高度可调,保证狭缝3与聚光镜组2高度一致;同时,光源1和聚光镜组2通过光源外壳21构成一个整体,且也与滑块13连接;滑块13可在导轨14上前后(图6中的Z轴)平移,保证光源1中心、聚光镜组2中心和狭缝3在Z轴方向一致,同时滑块13还可在导轨14上左右(图6中的X轴)平移,保证光源成像质量;导轨14通过螺钉固定在角位移平台15上,角位移平台15具有俯仰调节功能,保证纹影系统的光轴水平,角位移平台15固定在固定高度平台16上,根据使用需求不同可更换不同高度的固定高度平台16,也可选用剪切升降平台替换固定高度平台16,此时光源光轴高度可调。在光源聚光镜狭缝模块中也可根据使用需求增加倾斜偏转调节,形成6维可调的光源聚光镜狭缝模块。
2)主反射镜模块
如图7所示,主反镜模块由剪切升降台24、平移调节台25、旋转调节机构26、主镜镜框27、俯仰调节机构28和主反射镜(第一主反射镜5或第二主反射镜6)构成,剪切升降台24可以对主反射镜进行高度调节,平移调节台25可对主反射镜进行水平位置调节,旋转调节机构26可对主反射镜进行旋转调节,俯仰调节机构28可对主反射镜进行俯仰调节,最终保证主反射镜反射光束与光轴重合。上述第一主反射镜5构成一套主反射镜模块,上述第二主反射镜6构成另一套主反射镜模块,两套主反射镜模块的结构是一样的。
3)次反射镜模块
如图8和图9所示,次反射镜模块由磁性底座17、微调升降杆架18、第一支杆19、二维调整支架20和次反射镜(第一次反射镜4或第二次反射镜7)构成,其中磁性底座17可将次反射镜固定在光学平台之上,微调升降杆架18和第一支杆19配合可对次反射镜的高度进行调节,二维调整支架20可将次反射镜与第一支杆19进行连接,同时具有俯仰和偏转二维调节作用,保证次反射镜中心与光路光轴重合。次反射镜可选用小口径平面反射镜,起转折光路作用,在整体长度可实现的情形下,非纹影系统必要模块。上述第一次反射镜4构成一套次反射镜模块,上述第二次反射镜7构成另一套次反射镜模块,两套次反射镜模块的结构是一样的。
4)刀口模块
如图10所示,刀口模块由磁性底座30、微调升降杆架31、第二支杆32、第三支杆33、转接块34和刀口8构成,磁性底座30将刀口模块与光学平台连接,起连接固定作用,微调升降杆架31和第二支杆32配合可对刀口8的高度进行调节,通过调节刀口8,改变刀口切入量可以得到不同灵敏度的纹影图像,调节量根据实际情况决定。第三支杆33和转接块34非必须结构,根据实际使用情况,若要进行竖直刀口切割光束,需要配置第三支杆33和转接块34。