CN204462575U - 一种加装防反射装置的自由空间反向光纤隔离器 - Google Patents

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李卫超
高永涛
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Henan Xin Yuguang Polytron Technologies Inc
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Henan Province Xin Yuguang Industrial Co Ltd
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Abstract

本新型公开了一种加装防反射装置的自由空间反向光纤隔离器,包括光纤隔离器芯、磁环及外封管,其中所述的光纤隔离器芯套接在磁环内,磁环另套接在外封管内,光纤隔离器芯由高透光玻璃基体、高反射镀膜及法拉第旋光体构成,其中高透光玻璃基体呈楔形结构,且其倾斜面角度为3°,高反射镀膜覆在高透光玻璃基体倾斜面上,高透光玻璃基体另与法拉第旋光体粘接。本新型结构及制作工艺简单,工艺精度高且易掌控,且反光性能好且稳定,另具有良好的抗光干扰性能,从而达到在不提高成本前提下提高光隔离器工作性能的目的。

Description

一种加装防反射装置的自由空间反向光纤隔离器
技术领域
本新型涉及一种加装防反射装置的自由空间反向光纤隔离器,属光学检测设备技术领域。
背景技术
目前,在进行含有空间隔离器的光器件在装配时,通常是在光正向传播时,取得最小差损条件下进行的,因此在此条件下进行装备工作就要求对光纤、隔离器、透镜、激光器等零件进行固定,且器件在使用过程中位置也需要固定不变,但光器件在实际使用过程中,逆向光也需要在按照以正向光测定的装配基础下进行传播和被隔离,因此仅按光正向传播时做为装配调节不能满足实际使用的需要,为了克服这一弊端,在进行装配时,则需要对光器件在正向光及逆向光条件下分别进行测定,但由于当前的检测设备仅具备正向光检测能力,因此导致在进行逆向光检测时,需要对光器件进行位置调整,从而导致了正向光检测与逆向光检测的光路不统一,存在较大的误差,严重影响了检测精度,于此同时,在实际使用中,用于光信号传输的光纤也会因收到外力作用而发生不同强度的摆动现象,而随着光纤摆到,也会影响到光器件的运行能力,但在当前所使用的检测设备中,光纤均处于静置状态,因此检测的数据与实际使用情况存在着极大的差距,从而严重影响到光器件的实际使用性能,针对这一问题,迫切需要开发一种更接近实际使用情况的自由空间测试系统,以满足实际使用的需要。
发明内容
本实用新型目的就在于克服上述不足,提供一种加装防反射装置的自由空间反向光纤隔离器。
为实现上述目的,本发明是通过以下技术方案来实现:
一种加装防反射装置的自由空间反向光纤隔离器,包括光纤隔离器芯、磁环及外封管,其中所述的光纤隔离器芯套接在磁环内,磁环另套接在外封管内,光纤隔离器芯由高透光玻璃基体、高反射镀膜及法拉第旋光体构成,其中高透光玻璃基体呈楔形结构,且其倾斜面角度为3°,高反射镀膜覆在高透光玻璃基体倾斜面上,高透光玻璃基体另与法拉第旋光体粘接。
进一步的,所述的高反射镀膜厚度不大于1毫米。
本新型结构及制作工艺简单,工艺精度高且易掌控,且反光性能好且稳定,另具有良好的抗光干扰性能,从而达到在不提高成本前提下提高光隔离器工作性能的目的。
附图说明
图1为光纤隔离器芯结构示意图。
具体实施方式
如图1所示,一种加装防反射装置的自由空间反向光纤隔离器,包括光纤隔离器芯、磁环及外封管,其中所述的光纤隔离器芯套接在磁环内,磁环另套接在外封管内,光纤隔离器芯由高透光玻璃基体1、高反射镀膜2及法拉第旋光体3构成,其中高透光玻璃基体1呈楔形结构,且其倾斜面角度为3°,高反射镀膜2覆在高透光玻璃基体1倾斜面上,高透光玻璃基1体另与法拉第旋光体3粘接。
本实施例中,所述的高反射镀膜3厚度不大于1毫米。
本新型在使用时,首先将待检测工件安装到工件支架上,然后调节工件支架,并使工件检测位置与主检测光路与辅助检测光路的光轴在同一直线方向上,然后打开光源,并通过调整光开关,实现正向光与逆向光间的切换,并将将侧结果通过光功率计进行采集,且在进行检测的同时,另可利用偏振调节器驱动连接光纤进行不同程度的摆动仿真,提高了检测数据的真实性。

Claims (2)

1.一种加装防反射装置的自由空间反向光纤隔离器,包括光纤隔离器芯、磁环及外封管,其中所述的光纤隔离器芯套接在磁环内,磁环另套接在外封管内,其特征在于:所述的光纤隔离器芯由高透光玻璃基体、高反射镀膜及法拉第旋光体构成,其中所述高透光玻璃基体呈楔形结构,且其倾斜面角度为3°,所述的高反射镀膜覆在高透光玻璃基体倾斜面上,所述的高透光玻璃基体另与法拉第旋光体粘接。
2.根据权利要求1所述的一种加装防反射装置的自由空间反向光纤隔离器,其特征在于:所述的高反射镀膜厚度不大于1毫米。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI634756B (zh) * 2015-12-15 2018-09-01 呂海涵 可見光二階注入鎖模技術所建構之10m/25Gbps無線光通訊傳輸系統

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C56 Change in the name or address of the patentee
CP03 Change of name, title or address

Address after: Xiuwu County, Henan province 454350 industrial agglomeration area in Jiaozuo City, the standard workshop District No. 3 building of Henan Xin Yuguang Polytron Technologies Inc

Patentee after: Henan Xin Yuguang Polytron Technologies Inc

Address before: Xiuwu County, Henan province 454350 industrial agglomeration area in Jiaozuo City, the standard workshop area 3 building in Henan province Xin Yuguang Industrial Co. Ltd.

Patentee before: Henan Province Xin Yuguang Industrial Co., Ltd.