CN204369705U - 污水紫外线消毒净化系统 - Google Patents

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殷松平
华晓伊
陈柏校
陈鑫波
李林
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Hangzhou Guotai Environmental Protection Technology Co Ltd
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Abstract

本实用新型涉及一种消毒净化系统,尤其涉及一种污水紫外线消毒净化系统,用于污水处理。消毒池的左侧端设有静置池,消毒池的中端设有消毒溢流池,消毒池的右端设有吸附出水池,静置池的左侧端设有与静置池相连通的进水管,静置池与消毒溢流池间设有溢流板,消毒溢流池中设有紫外线模块,消毒溢流池的右端设有均匀分布的溢流管,吸附出水池的右侧端设有出水管,吸附出水池中设有吸附斜层,吸附斜层位于出水管的出口处,消毒池的上部设有控制紫外线模块的电控室,吸附出水池中设有搅拌器。污水紫外线消毒净化系统结构紧凑,提升污水品质,处理效能出色。

Description

污水紫外线消毒净化系统
技术领域
   本实用新型涉及一种消毒净化系统,尤其涉及一种污水紫外线消毒净化系统,用于污水处理。
背景技术
现有技术中污水存在各种污染物,污水处理能力相对较弱,效率低下,无法满足需求,同时能源消耗严重。
 发明内容
   本实用新型主要是解决现有技术中存在的不足,提供一种结构紧凑度高,消除污水中存在污染物,进一步提升污水品质的污水紫外线消毒净化系统。
   本实用新型的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的:
一种污水紫外线消毒净化系统,包括消毒池,所述的消毒池的左侧端设有静置池,所述的消毒池的中端设有消毒溢流池,所述的消毒池的右端设有吸附出水池,所述的静置池的左侧端设有与静置池相连通的进水管,所述的静置池与消毒溢流池间设有溢流板,所述的消毒溢流池中设有紫外线模块,所述的消毒溢流池的右端设有均匀分布的溢流管,所述的吸附出水池的右侧端设有出水管,所述的吸附出水池中设有吸附斜层,所述的吸附斜层位于出水管的出口处,所述的消毒池的上部设有控制紫外线模块的电控室,所述的吸附出水池中设有搅拌器。
作为优选,所述的静置池的右侧端设有污泥清洗人孔,所述的消毒溢流池的深度分别低于静置池和吸附出水池,所述的消毒溢流池的右端位于吸附出水池的上方。
   此结构通过紫外线进行消毒,静置池进行静置污泥,消毒溢流池进行消毒,采用溢流的形式,保持污水质量,吸附出水池将大颗粒的污水飘浮物进行吸咐。
  因此,本实用新型的污水紫外线消毒净化系统,结构紧凑,提升污水品质,处理效能出色。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
下面通过实施例,并结合附图,对本实用新型的技术方案作进一步具体的说明。
实施例1:如图1所示,一种污水紫外线消毒净化系统,包括消毒池1,所述的消毒池1的左侧端设有静置池2,所述的消毒池1的中端设有消毒溢流池3,所述的消毒池1的右端设有吸附出水池4,所述的静置池2的左侧端设有与静置池2相连通的进水管5,所述的静置池2与消毒溢流池3间设有溢流板6,所述的消毒溢流池3中设有紫外线模块7,所述的消毒溢流池3的右端设有均匀分布的溢流管8,所述的吸附出水池4的右侧端设有出水管9,所述的吸附出水池4中设有吸附斜层10,所述的吸附斜层10位于出水管9的出口处,所述的消毒池1的上部设有控制紫外线模块7的电控室12,所述的吸附出水池4中设有搅拌器13。
所述的静置池2的右侧端设有污泥清洗人孔14,所述的消毒溢流池3的深度分别低于静置池2和吸附出水池4,所述的消毒溢流池3的右端位于吸附出水池4的上方。

Claims (2)

1.一种污水紫外线消毒净化系统,其特征在于:包括消毒池(1),所述的消毒池(1)的左侧端设有静置池(2),所述的消毒池(1)的中端设有消毒溢流池(3),所述的消毒池(1)的右端设有吸附出水池(4),所述的静置池(2)的左侧端设有与静置池(2)相连通的进水管(5),所述的静置池(2)与消毒溢流池(3)间设有溢流板(6),所述的消毒溢流池(3)中设有紫外线模块(7),所述的消毒溢流池(3)的右端设有均匀分布的溢流管(8),所述的吸附出水池(4)的右侧端设有出水管(9),所述的吸附出水池(4)中设有吸附斜层(10),所述的吸附斜层(10)位于出水管(9)的出口处,所述的消毒池(1)的上部设有控制紫外线模块(7)的电控室(12),所述的吸附出水池(4)中设有搅拌器(13)。
2.根据权利要求1所述的污水紫外线消毒净化系统,其特征在于:所述的静置池(2)的右侧端设有污泥清洗人孔(14),所述的消毒溢流池(3)的深度分别低于静置池(2)和吸附出水池(4),所述的消毒溢流池(3)的右端位于吸附出水池(4)的上方。
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