CN204362708U - 超声波气雾培养装置 - Google Patents

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陈宏溪
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Abstract

本实用新型公开了一种超声波气雾培养装置,包括培养槽、连通管、营养液箱,还包括控制板和超声波雾化头,所述的培养箱顶部开有定植孔,底部设置有超声波气雾头,营养液箱设置在培养箱上部,营养箱通过连通管与培养箱连接,控制板与超声波气雾头连接。本实用新型通过雾化头对营养液进行雾化,使雾化颗粒直径更小,能够直接被根部吸收,提高了营养液的利用效率,不会再植物根部产生水滴凝结,使植物根部与空气充分接触,保证氧气供给。

Description

超声波气雾培养装置
技术领域:
本实用新型涉及一种人工培养的植物的装置,具体涉及一种超声波气雾培养装置。
背景技术:
    目前,公知的培养箱是一种常用的植物培养工具,具有便捷,使用灵活的特点,主要用来在各种植物和菌类的培养上。植物生长过程中需要多种营养液的供给,传统供给方式不能使营养液均匀分配到植物的各个部分,影响了植物的正常生长。
实用新型内容:
本实用新型的目的是提供一种新型的超声波气雾培养装置,解决了目前传统喷头容易在根部形成水滴凝结的问题。
本实用新型采用的技术方案为:一种超声波气雾培养装置,包括培养槽、连通管、营养液箱,还包括控制板和超声波雾化头,所述的培养箱顶部开有定植孔,底部设置有超声波气雾头,营养液箱设置在培养箱上部,营养箱通过连通管与培养箱连接,控制板与超声波气雾头连接。
进一步,所述的超声波气雾头有6个。
进一步,所述的控制板能够控制超声波气雾头的出雾时间及出雾间隔。
本实用新型产生的有益效果是:
1、通过雾化头对营养液进行雾化,使雾化颗粒直径更小,能够直接被根部吸收,提高了营养液的利用效率。
2、不会再植物根部产生水滴凝结,使植物根部与空气充分接触,保证氧气供给。
3、用水更少,提高了水资源的利用率,节约水资源。
4、设备安装方便、简单,不用在培养槽中铺设管道,造价低廉,利于推广。
5、无噪音污染,适合在家庭及科研单位使用。
附图说明:
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式:
下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。
如图1所示,一种超声波气雾培养装置包括培养植物的培养槽1,该培养槽1可选用多种不同的材质;本实施例中采用不锈钢为培养槽1的主要材质,其长宽高为1200*600*200mm的长方形水槽,在培养槽1上方采用泡沫板作为顶盖,顶盖上开有定值孔6,将植株固定在定植孔6内。
在培养槽1的上方固定有密闭性好的营养液箱2,本实施例中将营养液箱2固定在培养槽1上600mm处,在营养液箱2的底部连有连通管3,可将营养液输送到培养箱1中,并使下方的导管口始终与培养槽1中营养液的液面高度保持一致。培养箱1中的营养液液面低于植物根部并留有一定空间。
在培养槽1的底部设有6个超声波雾化头4,分别于控制板5相连。控制板5能够控制超声波雾化头4每隔一定时间对营养液进行雾化处理,将培养槽1中的营养液雾化长细小的雾粒,使培养槽1内充满营养液雾粒供植物根部吸收,保证了营养液的利用效率。
上面结合附图对本实用新型进行了示例性描述,显然本实用新型具体实现并不受上述方式的限制,只要采用了本实用新型的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进,或未经改进将本实用新型的构思和技术方案直接应用于其它场合的,均在本实用新型的保护范围之内。

Claims (3)

1.一种超声波气雾培养装置,包括培养槽、连通管、营养液箱,其特征在于:还包括控制板和超声波雾化头,所述的培养箱顶部开有定植孔,底部设置有超声波气雾头,营养液箱设置在培养箱上部,营养箱通过连通管与培养箱连接,控制板与超声波气雾头连接。
2.根据权利要求1所述的一种超声波气雾培养装置,其特征在于:所述的超声波气雾头有6个。
3.根据权利要求1所述的一种超声波气雾培养装置,其特征在于:所述的控制板能够控制超声波气雾头的出雾时间及出雾间隔。
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GR01 Patent grant
C56 Change in the name or address of the patentee
CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: 450003 intersection of Eighth Avenue and Jing Tong Road, Zhengzhou economic and Technological Development Zone, Henan

Patentee after: Zhengzhou Hanwei Au Optronics Co

Address before: 450003 intersection of Eighth Avenue and Jing Tong Road, Zhengzhou economic and Technological Development Zone, Henan

Patentee before: Zhengzhou Sunway Optoelectronics Technology Co., Ltd.