CN204154997U - 一种激光匀化系统 - Google Patents

一种激光匀化系统 Download PDF

Info

Publication number
CN204154997U
CN204154997U CN201420635043.2U CN201420635043U CN204154997U CN 204154997 U CN204154997 U CN 204154997U CN 201420635043 U CN201420635043 U CN 201420635043U CN 204154997 U CN204154997 U CN 204154997U
Authority
CN
China
Prior art keywords
mirror
optical element
expand
diaphragm
diffraction optical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN201420635043.2U
Other languages
English (en)
Inventor
马衍强
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Beijing Runhe Glimmer Technology Co Ltd
Original Assignee
Beijing Runhe Glimmer Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Beijing Runhe Glimmer Technology Co Ltd filed Critical Beijing Runhe Glimmer Technology Co Ltd
Priority to CN201420635043.2U priority Critical patent/CN204154997U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN204154997U publication Critical patent/CN204154997U/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)

Abstract

本实用新型公开了一种激光匀化系统,包括镜架、扩束输入镜、扩束输出镜、光阑、均光型衍射光学元件和聚焦镜,所述扩束输入镜和所述聚焦镜分别设置于所述镜架的两端,所述扩束输出镜、所述光阑和所述扩散性衍射光学元件依次设置于所述镜架内。本实用新型通过将一束激光通过扩束镜,经过扩束准直的激光通过光阑形成面积合适的光斑,再通过匀光型衍射光学元件后形成光强匀化的光束,最后通过聚焦镜将光束聚焦成目标面积的光斑。

Description

一种激光匀化系统
技术领域
本实用新型涉及一种光匀化系统,尤其涉及一种激光匀化系统。
背景技术
衍射光学元件(DOE:Diffractive Optical Elements),是基于光波的衍射理论,利用计算机辅助设计,并通过半导体芯片制造工艺,在基片上(或传统光学器件表面)刻蚀产生台阶型或连续浮雕结构,形成同轴再现、且具有极高衍射效率的一类光学元件,而现阶段的衍射光学元件不能够进行激光匀化,给科学实验带来了不便。
实用新型内容
本实用新型的目的就在于为了解决上述问题而提供一种激光匀化系统。
本实用新型通过以下技术方案来实现上述目的:
本实用新型包括镜架、扩束输入镜、扩束输出镜、光阑、均光型衍射光学元件和聚焦镜,所述扩束输入镜和所述聚焦镜分别设置于所述镜架的两端,所述扩束输出镜、所述光阑和所述扩散性衍射光学元件依次设置于所述镜架内。
本实用新型的有益效果在于:
本实用新型通过将一束激光通过扩束镜,经过扩束准直的激光通过光阑形成面积合适的光斑,再通过匀光型衍射光学元件后形成光强匀化的光束,最后通过聚焦镜将光束聚焦成目标面积的光斑。
附图说明
图1是本实用新型所述一种激光匀化系统的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步说明:
如图1所示:本实用新型包括镜架2、扩束输入镜1、扩束输出镜3、光阑4、均光型衍射光学元件5和聚焦镜6,扩束输入镜1和聚焦镜6分别设置于镜架2的两端,扩束输出镜3、光阑4和扩散性衍射光学元件5依次设置于镜架2内。
本实用新型的工作原理如下:
本实用新型包括一组扩束镜,一个光阑,一个匀光型衍射光学元件,一个聚焦镜组成,其中扩束透镜包括扩束输入镜、扩束输出镜。扩束镜的作用是扩束和准直,光阑的作用是获得面积合适的光斑,匀光型衍射光学元件的作用是获得均匀的光强分布,聚焦镜的作用是通过聚焦获得目标光斑大小。
首先根据入射激光的波长,工作距离等参数,通过衍射光学设计出相应的全息结构,然后利用光刻和刻蚀的方法将其转移和制作在石英基材表面上,得到匀光型衍射光学元件。
工作时,一束激光通过扩束镜,经过扩束准直的激光通过光阑形成面积合适的光斑,再通过匀光型衍射光学元件后形成光强匀化的光束,最后通过聚焦镜将光束聚焦成目标面积的光斑。
本领域技术人员不脱离本实用新型的实质和精神,可以有多种变形方案实现本实用新型,以上所述仅为本实用新型较佳可行的实施例而已,并非因此局限本实用新型的权利范围,凡运用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变化,均包含于本实用新型的权利范围之内。

Claims (1)

1.一种激光匀化系统,其特征在于:包括镜架、扩束输入镜、扩束输出镜、光阑、均光型衍射光学元件和聚焦镜,所述扩束输入镜和所述聚焦镜分别设置于所述镜架的两端,所述扩束输出镜、所述光阑和所述平顶型衍射光学元件依次设置于所述镜架内。
CN201420635043.2U 2014-10-30 2014-10-30 一种激光匀化系统 Expired - Fee Related CN204154997U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201420635043.2U CN204154997U (zh) 2014-10-30 2014-10-30 一种激光匀化系统

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201420635043.2U CN204154997U (zh) 2014-10-30 2014-10-30 一种激光匀化系统

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN204154997U true CN204154997U (zh) 2015-02-11

Family

ID=52513098

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201420635043.2U Expired - Fee Related CN204154997U (zh) 2014-10-30 2014-10-30 一种激光匀化系统

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN204154997U (zh)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107242904A (zh) * 2017-07-19 2017-10-13 重庆半岛医疗科技有限公司 一种光束均化的治疗装置
CN110018565A (zh) * 2019-03-19 2019-07-16 北京工业大学 一种提高超快激光光束聚焦能力的方法和装置
CN110031979A (zh) * 2019-05-21 2019-07-19 中国工程物理研究院流体物理研究所 光斑匀化扩束方法及装置
CN111146097A (zh) * 2019-12-03 2020-05-12 大族激光科技产业集团股份有限公司 一种半导体晶圆激光解键合光学装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107242904A (zh) * 2017-07-19 2017-10-13 重庆半岛医疗科技有限公司 一种光束均化的治疗装置
CN110018565A (zh) * 2019-03-19 2019-07-16 北京工业大学 一种提高超快激光光束聚焦能力的方法和装置
CN110018565B (zh) * 2019-03-19 2021-10-01 北京工业大学 一种提高超快激光光束聚焦能力的方法和装置
CN110031979A (zh) * 2019-05-21 2019-07-19 中国工程物理研究院流体物理研究所 光斑匀化扩束方法及装置
CN111146097A (zh) * 2019-12-03 2020-05-12 大族激光科技产业集团股份有限公司 一种半导体晶圆激光解键合光学装置
CN111146097B (zh) * 2019-12-03 2022-05-13 大族激光科技产业集团股份有限公司 一种半导体晶圆激光解键合光学装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN204154996U (zh) 一种将高斯光束整形为平顶光束的光学系统
CN103399406B (zh) 将高斯光束整形为平顶光束的衍射光学元件及制备方法
CN204154997U (zh) 一种激光匀化系统
CN104439699A (zh) 一种激光制备微纳阵列结构的系统和方法
CN112782799B (zh) 衍射光学元件和生成聚焦平顶光斑光束的系统
CN107329275B (zh) 一种产生高质量准贝塞尔阵列光束的方法及系统
CN105750729A (zh) 具有柱面分布微柱面透镜线阵光学镜头的激光加工装置
CN103246066A (zh) 一种对面阵半导体激光光束进行匀化处理的光学系统
CN105891916B (zh) 一种基于轴锥透镜与聚焦镜特性的非球面镜
CN103645563A (zh) 激光整形装置
CN107643596B (zh) 一种二元波带片形式的衍射轴锥镜系统及其长焦深成像方法
CN111999902B (zh) 一种飞秒激光双光子加工装置
CN101788716B (zh) 一种激光扩束系统
CN102689092A (zh) 一种使用双激光光束的太阳能晶圆精密加工方法及装置
Indrisiunas et al. Direct laser beam interference patterning technique for fast high aspect ratio surface structuring
CN204154995U (zh) 一种激光光斑形状调整装置
CN204262588U (zh) 一种激光分束装置
CN105676423B (zh) 一种透镜组件及得到无衍射光束的方法
CN204269927U (zh) 一种产生多个焦点的激光装置
Laskin et al. πShaper–Refractive beam shaping optics for advanced laser technologies
CN203630445U (zh) 激光整形装置
CN204269926U (zh) 一种激光消散斑装置
CN106129183B (zh) 一种提高砷化镓太阳能电池光电转换效率方法
CN104007553A (zh) 一种扩大衍射光学光束整形器件有效衍射场的方法
Laskin et al. Refractive field mapping beam shaping optics: important features for a right choice

Legal Events

Date Code Title Description
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20150211

Termination date: 20151030

EXPY Termination of patent right or utility model