CN204079027U - 薄膜上胶设备张力光电跟踪装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及铜带制备技术领域，尤其是一种薄膜上胶设备张力光电跟踪装置。现有设备在薄膜上胶时将薄膜通过几只辊传输至上胶处上胶，传输过程中薄膜会出现拉力不均匀导致的断裂和拉伸性不一及薄膜跑偏现象，导致上胶后的薄膜厚薄不一，费品率较高。该薄膜上胶设备张力光电跟踪装置包括机架和安装在机架上的进料辊、若干传输辊，所述任意一根传输辊上增设光电跟踪装置，进料辊一侧设有应力系统。改进后的上胶设备有效防止传输过程中薄膜出现跑偏现象，避免了拉力不均匀导致的断裂和拉伸性不一，导致上胶后的薄膜厚薄不一的状况，大大降低了废品率，提高了生产效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及铜带制备技术领域，尤其是一种薄膜上胶设备张力光电跟踪装置。
背景技术
现有设备在薄膜上胶时将薄膜通过几只辊传输至上胶处上胶，传输过程中薄膜会出现拉力不均匀导致的断裂和拉伸性不一及薄膜跑偏现象，导致上胶后的薄膜厚薄不一，费品率较高。
实用新型内容
为了克服现有的上述的不足，本实用新型提供了一种薄膜上胶设备张力光电跟踪装置。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种薄膜上胶设备张力光电跟踪装置，包括机架和安装在机架上的进料辊、若干传输辊，所述任意一根传输辊上增设光电跟踪装置，进料辊一侧设有应力系统。
本实用新型的有益效果是，有效防止传输过程中薄膜出现跑偏现象，避免了拉力不均匀导致的断裂和拉伸性不一，导致上胶后的薄膜厚薄不一的状况，大大降低了费品率，提高了生产效率。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
图1是本实用新型的结构示意图。
图中1.机架，2.进料辊，3.传输辊，4.光电跟踪装置，5.应力系统。
具体实施方式
如图1是本实用新型的结构示意图，一种薄膜上胶设备张力光电跟踪装置，包括机架1和安装在机架1上的进料辊2、若干传输辊3，所述任意一根传输辊3上增设光电跟踪装置4，进料辊2一侧设有应力系统5。光电跟踪装置4能够对薄膜进行实时追踪探测，矫正薄膜动向，防止薄膜跑偏，应力系统5给进料辊2施加一个拉力，防止上胶薄膜厚薄不一。
改进后的上胶设备有效防止传输过程中薄膜出现跑偏现象，避免了拉力不均匀导致的断裂和拉伸性不一，导致上胶后的薄膜厚薄不一的状况，大大降低了费品率，提高了生产效率。
Claims (1)
1. 一种薄膜上胶设备张力光电跟踪装置，包括机架（1）和安装在机架（1）上的进料辊（2）、若干传输辊（3），其特征是，所述任意一根传输辊（3）上增设光电跟踪装置（4），进料辊（2）一侧设有应力系统（5）。
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104943237A (zh) * | 2015-07-08 | 2015-09-30 | 安徽宝昱电子科技有限公司 | 一种双棍打胶机的平台装置 |
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Granted publication date: 20150107 Termination date: 20170911 |
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