CN204028566U - 硅片显影定影装置 - Google Patents
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Abstract
一种硅片显影定影装置,它包括槽体、槽盖、吹气泵、吸气泵、气体罐、流量调节阀和气体分流装置,所述吹气泵的进气端与气体罐连通,其出气端与所述气体分流装置连通,在出气端与气体分流装置连通的管道上设置所述流量调节阀;所述吸气泵的进气端与槽体连通,其出气端与所述气体罐连通;所述气体分流装置设置在槽体底部。本实用新型通过在槽体内设置气体分流装置,在显影定影液中通入气体,利用气泡的冲击力对硅片进行清洗,同时,气体可回收利用,不仅不会对环境造成污染,而且使用成本低。
Description
技术领域
本实用新型涉及硅片显影定影装置。
背景技术
目前,硅片加工工艺中的显影定影设备主要是硅片浸没晃动显影定影设备,这种设备需要在显影定影液中将硅片晃动清洗,虽然能大批量处理硅片,但晃动过程中容易导致硅片破碎损坏。还有一种是采用喷嘴在硅片上喷洒显影定影液,同时硅片低速旋转,这种设备处理硅片数量少,而且设备成本高。
实用新型内容
为了克服上述现有技术存在的缺点,本实用新型的目的在于提供一种处理硅片效率高,结构简单,成本低的硅片显影定影装置。
为了解决上述问题,本实用新型采用以下技术方案:一种硅片显影定影装置,其特征在于,它包括槽体、槽盖、吹气泵、吸气泵、气体罐、流量调节阀和气体分流装置,所述吹气泵的进气端与气体罐连通,其出气端与所述气体分流装置连通,在出气端与气体分流装置连通的管道上设置所述流量调节阀;所述吸气泵的进气端与槽体连通,其出气端与所述气体罐连通;所述气体分流装置设置在槽体底部。
优选的,所述气体分流装置为分流管,所述分流管上设置有若干出气孔。
作为本实用新型的另一个优选实施例,所述气体分流装置为设置在所述槽体底部的盒体,所述盒体的上表面设置有若干出气孔。
本实用新型的有益效果是:它通过在槽体内设置气体分流装置,在显影定影液中通入气体,利用气泡的冲击力对硅片进行清洗,同时,气体可回收利用,不仅不会对环境造成污染,而且使用成本低。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型做进一步的说明:
图1为本实用新型第一实施例的俯视结构示意图;
图2为本实用新型第二实施例的主视结构示意图。
图中,1槽体、2槽盖、3吹气泵、4吸气泵、5气体罐、6流量调节阀、7气体分流装置。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型做进一步详细描述:
如图1和图2所示,本实用新型的第一实施例和第二实施例均包括槽体1、槽盖2、吹气泵3、吸气泵4、气体罐5、流量调节阀6和气体分流装置7。
所述吹气泵3的进气端通过管道与气体罐5连通,吹气泵3的出气端与所述气体分流装置7通过管道连通,为了调节气体分流装置7的气体流量,在出气端与气体分流装置7连通的管道上设置所述流量调节阀6。
所述吸气泵4的进气端与槽体1的上端连通,吸气泵4的出气端与所述气体罐5连通。所述气体分流装置7设置在槽体1底部。
为了保证清洗时气体不泄露,槽盖2的边缘设置有密封条,且槽盖2采用较厚的钢板,槽盖2盖在槽体1上时与槽体1紧密配合。
对本实用新型的第一实施例,如图1所示,首先需要说明的是,图1中并未画出槽盖2。本实施例中所述气体分流装置7为分流管,所述分流管上设置有若干出气孔,分流管的形状可以多种多样,图1中所示的也不是唯一的形状,例如还可以是弯曲的“S”型,分流管可以是直接放置在槽体1的底部,也可以焊接在槽体1的底部。
对本实用新型的第二实施例,如图2所示,它的气体分流装置7为设置在所述槽体1底部的盒体,所述盒体的上表面设置有若干出气孔,盒体的大小与槽体1的底部相同,盒体可以直接焊接在槽体1底部,也可以放置在槽体1底部。
由于氮气稳定性较强,不会与显影定影液反应,因此气体罐5内装入氮气,使用时,将硅片篮放置在槽体1内,倒入显影定影液,盖上槽盖2,打开吸气泵和吹气泵,开始对硅片清洗。气体在气体罐5和槽体1内循环。
以上所述只是本实用新型的优选实施方式,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也被视为本实用新型的保护范围。
Claims (3)
1.一种硅片显影定影装置,其特征在于,它包括槽体、槽盖、吹气泵、吸气泵、气体罐、流量调节阀和气体分流装置,所述吹气泵的进气端与气体罐连通,其出气端与所述气体分流装置连通,在出气端与气体分流装置连通的管道上设置所述流量调节阀;所述吸气泵的进气端与槽体连通,其出气端与所述气体罐连通;所述气体分流装置设置在槽体底部。
2.根据权利要求1所述的硅片显影定影装置,其特征在于,所述气体分流装置为分流管,所述分流管上设置有若干出气孔。
3.根据权利要求1所述的硅片显影定影装置,其特征在于,所述气体分流装置为设置在所述槽体底部的盒体,所述盒体的上表面设置有若干出气孔。
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