CN203941114U - 一种晶元裸视检测装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种晶元裸视检测装置，其设置于用于检测晶元的工作桌上，所述工作桌上设有一用于承载所述晶元的承载机构，所述晶元放置于所述承载机构上，该晶元裸视检测装置包括一内部黑暗的暗室和上照式的冷白色的LED光源，所述暗室架设于所述工作桌上，并将所述承载机构圈设于其中，所述暗室的一面开设有一容许检测人员检测的开口，所述LED光源设置于所述暗室内的上端部。本实用新型结构简单合理，通过暗室中的LED光源照射晶元，在晶元表面不平整的地方产生漫发射，可以提高裸视检出的能力；且因检测环境为黑色，光线不会在其表面发生反射，因而杜绝了反射光线对产品检测的影响。

Description

一种晶元裸视检测装置

技术领域

本发明涉及一种晶元裸视检测装置,其能够提高裸视检出的能力，属于IC（集成电路）测试领域。

背景技术

晶元（Wafer）是硅半导体集成电路制作所用的硅晶片，即生产集成电路所用的载体，在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构，从而成为有特定电性功能的IC产品。在集成电路元件制程中，当晶元已被成功切割出，尚需经过外观检验，包括晶元的正面与背面，以初步确保晶元成品的可用性。

目前业界常见的晶元检测是在无尘室的工作桌上进行的，室内的光线来源于照明灯管，照度通常大于500LUM，由于照明灯管的光线照射在晶元上会发生反光现象，在晶元的表面易形成一些光斑，因而检测人员在裸视检测时不易发现晶元的表面的异常（例如刮伤、异物、破碎等），再者，检测人员进行操作时，检测人员身上的微尘会掉落在工作桌上的晶元上，从而降低了晶元的检出率。

基于以上原因，亟待出现一种机构来改善以上晶元的检出率低的现象。

实用新型内容

为了解决上述技术问题，本实用新型的目的在于提供一种晶元裸视检测装置，其结构简单合理，能够有效地提高裸视检出的能力。

为了实现上述目的，本实用新型的技术方案如下：

一种晶元裸视检测装置，其设置于用于检测晶元的工作桌上，所述工作桌上设有一用于承载所述晶元的承载机构，所述晶元放置于所述承载机构上，该晶元裸视检测装置包括一内部黑暗的暗室和上照式的冷白色的LED光源，所述暗室架设于所述工作桌上，并将所述承载机构圈设于其中，所述暗室的一面开设有一容许检测人员检测的开口，所述LED光源设置于所述暗室内的上端部。

作为本实用新型的优选方案之一，所述暗室包括一顶盖和四块相互围接的侧板，其中一块所述侧板上开设有所述开口，且所述LED光源设置于所述顶盖的下方。

作为本实用新型的优选方案之一，所述暗室的顶盖和侧板为黑色的抗静电瓦楞板。

作为本实用新型的优选方案之一，所述LED光源为亮度可调式的环形灯，其照度为200-900LUX，色温为6000K-7000K。

作为本实用新型的优选方案之一，所述承载机构包括一中空吸座以及设置于所述中空吸座上的旋转台，所述晶元放置于所述旋转台上。

作为本实用新型的优选方案之一，该晶元裸视检测装置还包括风扇模块，所述风扇模块设于所述暗室的上方，其包括一箱体以及设于所述箱体内的风扇，所述箱体上开设有出风通道，所述出风通道与所述暗室的内部连通，并将风扇形成的气流导入至所述暗室内。

作为本实用新型的优选方案之一，所述出风通道为一出风口，所述出风口开设于所述箱体的一端，并位于所述暗室的开口的上方与所述暗室的内部连通。

作为本实用新型的优选方案之一，所述出风通道为作为所述箱体底板的过滤网，所述过滤网上开设有若干个过滤孔，并与所述暗室的内部连通。

作为本实用新型的优选方案之一，所述工作桌的桌面板上开设有若干个开孔。

作为本实用新型的优选方案之一，所述暗室的内部上方或工作桌的桌面上装设有至少一个离子消除模块。

通过以上技术方案，本实用新型提供的晶元裸视检测装置,通过暗室中的LED光源这一单一较强的光源照射晶元，在晶元表面不平整的地方产生漫发射，可以提高裸视检出的能力，且因检测环境为黑色，光线不会在其表面发生反射，因而杜绝了反射光线对产品检测的影响。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型结构特征和技术要点，下面结合附图和具体实施方式对本实用新型进行详细说明。

图1为本实用新型实施例一所公开的一种晶元裸视检测装置的结构示意图；

图2为本实用新型实施例二所公开的一种晶元裸视检测装置的结构示意图；

图3为本实用新型实施例三所公开的一种晶元裸视检测装置的结构示意图；

图4为本实用新型所公开的一种晶元裸视检测装置设置离子消除模块的示意图。

附图标记说明：11-工作桌，111-开孔，12-承载机构，121-中空吸座，122-旋转台，13-暗室，131-顶盖，132-侧板，14-LED光源，15-风扇模块，151-箱体，152-风扇，152a-扇叶，152b-马达，16a-进风口，16b-出风口，17-过滤网，18-离子消除模块。

具体实施方式

下面将结合本实施例中的附图，对实施例中的技术方案进行具体、清楚、完整地描述。

参见图1所示，为本实用新型所提供的第一较佳实施例，一种晶元裸视检测装置，其设置于用于检测晶元的工作桌11上，工作桌11上设有一用于承载晶元的承载机构12，晶元放置于承载机构12上，该晶元裸视检测装置包括一内部黑暗的暗室13和上照式的冷白色的LED光源14，暗室13架设于工作桌11上，并将承载机构12圈设于其中，暗室13的一面开设有一容许检测人员检测的开口，LED光源14设置于暗室13内的上端部。

其中，暗室13包括一顶盖131和四块相互围接的侧板132，其中一块侧板132上开设有开口，如图1所示，也可以将一面侧板132撤除，直接用于检测的开口，具体可以根据检测人员检测时所需的空间而设计开口的大小，LED光源14具体设置于顶盖131的下方。暗室13的顶盖131和侧板132为黑色的抗静电瓦楞板，瓦楞板具有重量轻、结构性能好、施工方便快捷、寿命长、免维修等优点。

再者，本实用新型所采用的LED光源14为亮度可调式的环形灯，其照度为200-900LUX，色温为6000K-7000K，根据检测时的需要，可以适当地调整LED光源14的亮度。冷白色的环形LED灯是经过实践验证效果较佳的一种光源，可以有效地提高产品的检出率。同时，LED光源14也可以为直条式灯，但是相比较环形灯，其照射范围较小，因而致使产品的检出效果要略差。LED光源14的高度（即灯管到地面的距离）设置为1.7m，能够适应于身高在1.8m以下的人员操作，当然，根据操作人员的具体身高可以调整灯管的设置高度以确保操作人员工作时良好的舒适度。

另，本实用新型之承载机构12包括一中空吸座121以及设置于中空吸座121上的旋转台122，晶元放置于旋转台122上，旋转台122可在中空吸座121上旋转，能够方便检测人员变换晶元的检测位置，并配合暗室内的LED光源调整到最佳的检验位置。于一较佳实施例中，旋转台122的材质可为多孔性的陶瓷材料，中空吸座121连通旋转台122，并通过外接的真空源所提供的真空吸力,吸附放置在旋转台122上的晶元。

参见图2所示，为本实用新型所提供的第二较佳实施例，晶元裸视检测装置还包括风扇模块15，风扇模块15设于暗室13的上方，其包括一箱体151以及设于箱体151内的风扇152（风扇152包括扇叶152a和与扇叶连接的马达152b）,扇叶152a可为涡轮叶片,箱体151上开设有一出风口16b，出风口16b与暗室13的内部连通，出风口16b开设于箱体151的一端，具体可在箱体的底板的一端开设出风口16b，且出风口16b位于暗室13的开口的上方与暗室13的内部连通，而暗室13的顶盖131可同时作为箱体底板的，即出风口16b开设于顶盖131上，当然箱体的底板也可以另设。空气由进气口16a经风扇152形成高压气流，高压气流经出风口16b导入至暗室13内，并在暗室13的开口处形成一道气帘，在检测人员检测时可有效地防止微尘进入暗室，减少微尘掉落在晶元上，进而可以避免检测出现误差，提高产品的检出率。

参见图3所示，为本实用新型所述提供的第三较佳实施例，并与上述第二较佳实施例大致相同，区别在于风扇152模块的设计差别，箱体151的底部设有过滤网17，过滤网17上开设有若干个过滤孔，并与暗室13的内部连通。此外，工作桌11的桌面板上开设有若干个开孔111。当风扇模块15开启时，风扇152产生的气流通过过滤网17进入暗室13中，气流会形成分布均匀的层流，当气流通过工作桌11时，会经由工作桌11上的开孔111离开，藉此形成均匀循环的层流，由此，不但可将防止微尘由外在环境进入暗室13，亦可将进入暗室13的微尘藉由工作桌11上的开孔111吹离暗室13和工作桌面，减少暗室内和工作桌上累积微尘，避免微尘掉落在晶元上。当然，若工作桌11上不开设开孔111也可以防止微尘进入暗室，但是其效果未有在工作桌11上开设开孔的效果好。

此外于本实用新型中，参见图4所示，暗室13的内部上方还可装设有至少一个离子消除模块18，（具体可设置在暗室13的顶盖131的下方），但不限于此，离子消除模块18也可视工作需要装设在工作桌11的桌面上，以减少检测人员产生的静电，从而避免破坏晶元的电路。

综上所述，本实用新型为晶元产品的检测提供了一种保护，以避免外界灯光和微尘的影响，并建立新的检测环境，以提高产品检出率，减少检测的误差。此外，本实用新型结构简单合理，以低成本的投入能够获得较佳的检测效果，且机动性较强，能够根据产线的规划，在适合的地方方便地架设检测保护机构。

上述具体实施方式，仅为说明本实用新型的技术构思和结构特征，目的在于让熟悉此项技术的相关人士能够据以实施，但以上所述内容并不限制本实用新型的保护范围，凡是依据本实用新型的精神实质所作的任何等效变化或修饰，均应落入本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种晶元裸视检测装置，其设置于用于检测晶元的工作桌上，所述工作桌上设有一用于承载所述晶元的承载机构，所述晶元放置于所述承载机构上，其特征在于，该晶元裸视检测装置包括一内部黑暗的暗室和上照式的冷白色的LED光源，所述暗室架设于所述工作桌上，并将所述承载机构圈设于其中，所述暗室的一面开设有一容许检测人员检测的开口，所述LED光源设置于所述暗室内的上端部。

2.根据权利要求1所述的一种晶元裸视检测装置，其特征在于，所述暗室包括一顶盖和四块相互围接的侧板，其中一块所述侧板上开设有所述开口，且所述LED光源设置于所述顶盖的下方。

3.根据权利要求2所述的一种晶元裸视检测装置，其特征在于，所述暗室的顶盖和侧板为黑色的抗静电瓦楞板。

4.根据权利要求1所述的一种晶元裸视检测装置，其特征在于，所述LED光源为亮度可调式的环形灯，其照度为200-900LUX，色温为6000K-7000K。

5.根据权利要求1所述的一种晶元裸视检测装置，其特征在于，所述承载机构包括一中空吸座以及设置于所述中空吸座上的旋转台，所述晶元放置于所述旋转台上。

6.根据权利要求1所述的一种晶元裸视检测装置，其特征在于，该晶元裸视检测装置还包括风扇模块，所述风扇模块设于所述暗室的上方，其包括一箱体以及设于所述箱体内的风扇，所述箱体上开设有出风通道，所述出风通道与所述暗室的内部连通，并将风扇形成的气流导入至所述暗室内。

7.根据权利要求6所述的一种晶元裸视检测装置，其特征在于，所述出风通道为一出风口，所述出风口开设于所述箱体的一端，并位于所述暗室的开口的上方与所述暗室的内部连通。

8.根据权利要求6所述的一种晶元裸视检测装置，其特征在于，所述出风通道为作为所述箱体底板的过滤网，所述过滤网上开设有若干个过滤孔，并与所述暗室的内部连通。

9.根据权利要求8所述的一种晶元裸视检测装置，其特征在于，所述工作桌的桌面板上开设有若干个开孔。

10.根据权利要求1-9中任一项所述的一种晶元裸视检测装置，其特征在于，所述暗室的内部上方或所述工作桌的桌面上装设有至少一个离子消除模块。