CN203881926U - 一种匀场装置及磁共振设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种匀场装置及磁共振设备。所述匀场装置包括一个或多个两两首尾连接的匀场单元，所述匀场单元包括一上基片、一下基片以及一个或多个匀场片，所述匀场片封装在所述上基片和所述下基片之间。通过本实用新型，本领域技术人员无需进行降场/升场即可快速简便安全地安装拆卸匀场装置，并且，根据本实用新型的匀场装置结构简单、易于实现且安全方便。因此，本领域技术人员可以经过更多迭代来改进高磁场系统的均匀性，并且可以使磁场均匀性符合更加严格的磁场均匀性要求；节约降场/升场所耗液氦从而降低成本；节约降场/升场后磁场稳定所需时间。
Description
技术领域
本实用新型涉及磁共振成像技术，特别涉及一种匀场装置以及使用该匀场装置的磁共振设备。
背景技术
现有磁共振成像系统中，利用磁体产生磁场，进而利用该磁场进行磁共振成像。具体而言，在磁共振系统中需要磁体在图像采集区域(FOV)中产生一个高度均匀的磁场从而进行磁共振成像。超导磁体通常为环形柱状结构，由于距离超导磁体中心远近不同等原因，不同区域的磁场强度通常是不同的，因此，需要采取一定的措施，来对不同区域的磁场均匀性进行校正，以便获得成像质量更好的磁共振图像。
现有技术中，通常采用被动匀场的方法使磁场具有较好的均匀性。图1为根据现有技术的超导磁体的梯度线圈的横截面示意图，如图1所示，被动匀场的方法包括，将具有铁磁性的铁片作为匀场片安装与拆卸于匀场条中，匀场条布置在设计好的位置上用于调整磁场。匀场条通常分布在径向方向上并插在梯度线圈200的匀场槽300中。
如图1所示，超导磁体的磁场发生装置包括至少一个匀场槽300，梯度线圈200和体线圈，其中，匀场槽300集成在梯度线圈200当中。当使用匀场条来调节超导磁体的磁场均匀性时，需将装载匀场片的匀场条插入梯度线圈200上设置的匀场槽300中从而对磁场的均匀性进行校正，其中，匀场槽300的长度方向平行于环形柱状的超导磁体的轴线；本领域技术人员应当理解可以围绕超导磁体的轴线根据需要设置一个或多个匀场槽300；在实际使用中，匀场槽300中放置匀场条，匀场条中放置匀场片，其中匀场片的数量和位置可以在高斯计或场强仪测量得出有关数据后通过计算得出。
现有技术中，超导磁体的匀场条通常是长方体并且插入梯度线圈200上设置的匀场槽300中，匀场条也可以是其他长条柱状结构。沿匀场槽300的长度方向，匀场条设有多个用于放置匀场片的单元格。当使用匀场条来调节超导磁体的磁场均匀性时，将匀场片置入匀场条的单元格中。
匀场过程，非常耗时。具体而言：在调节磁场均匀性时，首先，通过计算确定出为调节磁场均匀性匀场片应放入的匀场条以及所需匀场片的数量；然后，调节放入相应的匀场条中的匀场片的数量；最后，将相应的匀场条插入相应的通孔中。上述过程称为一次匀场迭代。按照这种方式处理一次后，如果磁场的均匀性仍不符合要求，那么可将插入匀场槽中的匀场条抽出，再次进行匀场迭代，甚至多次进行匀场迭代，直至磁场均匀性符合要求为止。在这个过程当中，昂贵的液体氦会有所损失。磁体在这个过程当中也可能发生改变，而且这也是一个耗时的过程。因此如何无需升场和降场即可安全完成匀场迭代是业界亟待解决的问题。
实用新型内容
有鉴于此，本实用新型的主要目的在于提供一种匀场装置，利用该匀场装置，本领域技术人员无需进行降场/升场的操作即可快速简便安全地进行匀场从而改善并保持系统磁场的均匀性。
本实用新型的具体实施例提供一种匀场装置，所述匀场装置包括一个或多个两两首尾连接的匀场单元，所述匀场单元包括一上基片、一下基片以及一个或多个匀场片，所述匀场片封装在所述上基片和所述下基片之间。
优选地，所述匀场单元沿所述匀场装置的长度方向等间距分布。
优选地，多个所述匀场单元是一体成型的。
优选地，所述匀场单元首尾两端分别包括一第一连接件，两个所述第一连接件可拆卸的连接。
优选地，所述上基片和所述下基片是柔性的。
优选地，所述匀场装置还包括至少一个刚性或半刚性支撑件，所述支撑件沿所述匀场装置的长度方向设置。
优选地，所述匀场装置两端分别包括第二连接件，所述第二连接件可拆卸的与一牵引件连接。
优选地，所述第二连接件是通孔、拉环或锁扣。
本实用新型的具体实施例还提供一种磁共振成像系统，包括如上所述的匀场装置。
通过上述技术方案，当经过长时间使用后系统磁场发生变化时，本领域技术人员无需进行降场/升场的操作即可安全快速简便地通过调节所述匀场装置来保持并改善系统磁场的均匀性，并且，该装卸装置结构简单、易于实现且操作方便。因此，本领域技术人员可以进行多次匀场迭代来改进高磁场系统的均匀性，从而使其符合更加严格的要求；节约降场/升场所耗液氦从而降低成本；节约调节磁场均匀性稳定所需时间；上述技术方案可应用于高磁场强度系统，甚至3T超导磁体。
附图说明
下面将通过参照附图详细描述本实用新型的优选实施例，使本领域的普通技术人员更清楚本实用新型的上述及其它特征和优点，附图中：
图1为根据现有技术的超导磁体的梯度线圈的横截面示意图。
图2为根据本实用新型的具体实施例之一的匀场装置的侧截面示意图。
图3为根据本实用新型的具体实施例之一的匀场装置的侧截面示意图。
图4为根据本实用新型的具体实施例之一的匀场装置的分解立体示意图。
图5为根据本实用新型的具体实施例之一的超导磁体的梯度线圈的横截面示意图。
图6为根据本实用新型的具体实施例之一的超导磁体的梯度线圈的横截面示意图。
具体实施方式
针对背景技术所述的现有技术中的问题，本实用新型提出一种匀场装置，所述匀场装置包括一个或多个匀场单元，所述匀场单元包括一上基片、一下基片以及一个或多个匀场片，所述匀场片封装在所述上基片和所述下基片之间。以下通过具体实施例详细介绍本实用新型。
针对现有技术中存在的问题，本实用新型提出根据具体实施例的一种匀场装置。图2为根据本实用新型的具体实施例之一的匀场装置的侧截面示意图。图3为根据本实用新型的具体实施例之一的匀场装置的侧截面示意图。图4为根据本实用新型的具体实施例之一的匀场装置的分解立体示意图。图5为根据本实用新型的具体实施例之一的超导磁体的梯度线圈的横截面示意图。图6为根据本实用新型的具体实施例之一的超导磁体的梯度线圈的横截面示意图。
如图2和图3所示，根据本实用新型的具体实施例的一种匀场装置100包括一个或多个匀场单元，所述匀场单元包括一上基片101、一下基片102以及一个或多个匀场片103，所述匀场片103封装在所述上基片101和所述下基片102之间。以下通过具体实施例详细介绍本实用新型。
如上所述，一个匀场单元包括上基片101、下基片102以及一个或多个匀场片103，一个匀场装置包括一个匀场单元或两两首尾连接成型的多个匀场单元，其中，匀场单元沿匀场装置的长度方向等间距分布。具体而言，通过将匀场片103封装在上基片101和下基片102之间，由此匀场片103受到上基片101和下基片102的约束，从而使匀场片103在超导磁场中处于稳定状态并且还允许匀场片103在超导磁体的可用空间内占据最小空间。具体而言，通过将匀场片103放置在下基片102上、将上基片101放置在匀场片103上并将上基片101和下基片102贴合构造而成；因此，匀场单元可以包括多个匀场片103，但是匀场片103的数量不得高于某一数量，否则上基片101无法与下基片贴合；通过这种方式，匀场单元中的匀场片103紧固地且精确地限制在上基片101和下基片102之间。
根据具体实施例的一种匀场装置中，匀场单元呈扁平状，匀场片103呈薄片状，每个匀场单元可以根据匀场计算结果封装相应个数的匀场片。如图6所示，匀场装置100处于梯度线圈200的匀场槽内，如图6所示，每个匀场槽可以根据匀场计算结果放置一个或多个匀场装置100。匀场装置100也可以位于梯度线圈与主体线圈之间，或OVC与梯度线圈之间。
根据具体实施例的一种匀场装置中，如图3所示，匀场装置包括多个匀场单元，匀场单元两端分别包括第一连接件106，两个第一连接件106可拆卸的连接，例如，两个匀场单元(第一匀场单元和第二匀场单元)首尾连接，第一匀场单元的尾端的第一连接件106与第二匀场单元的首端的第一连接件106连接。因此，匀场单元之间可以通过第一连接件106根据匀场计算结果自由灵活的相互组合。
根据具体实施例的一种匀场装置中，上基片101和下基片102是柔性的且可以被卷起以使匀场单元能够由操作人员或医生卷起放置，并且可以将匀场单元展开放置在匀场槽中。将匀场装置安装到超导磁体中还可以使用安装工具来完成，安装工具可以承载卷绕的组件并且安装到匀场槽中，由此为操作人员消除由于匀场装置所受磁力而贴在超导磁体上的风险。
如上所述，根据具体实施例的一种匀场装置中，在匀场装置的上基片和下基片由柔性材料制成的情况下，匀场装置还包括第二连接件，用于与牵引件连接，从而拉动匀场单元。如图4和图5所示，第二连接件是通孔104，通孔104位于匀场装置两端，牵引件(例如，绳索等)穿过通孔104固定于匀场装置，并且牵引件穿过匀场槽拉动匀场装置来完成定位。第二连接件还可以是拉环或锁扣等机构。
如上所述，根据具体实施例的一种匀场装置中，在匀场装置的上基片和下基片由柔性材料制成的情况下，如图5所示，匀场装置还包括一刚性或半刚性支撑件105，支撑件105轴向地(沿匀场装置的长度方向)封装在上基片101和下基片102中，从而为匀场装置增加刚性，因此使匀场装置能够在插入时从同一端推动穿过匀场槽。
根据具体实施例的一种匀场装置中，如图6所示，在对放置入匀场槽中的第一层匀场装置100的匀场效果进行评估之后，如果并未达到预期效果，那么可以将第二层匀场装置甚至更多层匀场装置放置入匀场槽中，并且此过程可以按匀场计算和匀场评估的结果重复多次。
综上所述，通过具体实施例，本领域技术人员无需进行降场/升场的操作即可快速简便安全地安装与拆卸匀场条从而改善并保持系统磁场的均匀性，并且，根据本实用新型的具体实施例的匀场装置结构简单、易于实现且安全方便。因此，本领域技术人员可以经过更多迭代来改进高磁场系统的均匀性，并且可以使磁场均匀性符合更加严格的磁场均匀性要求；节约降场/升场所耗液氦从而降低成本；节约降场/升场后磁场稳定所需时间。
上述实施例仅用于举例说明，并不用于限制本实用新型的技术方案。凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (9)
1.一种匀场装置，所述匀场装置包括一个或多个两两首尾连接的匀场单元，所述匀场单元包括一上基片、一下基片以及一个或多个匀场片，所述匀场片封装在所述上基片和所述下基片之间。
2.如权利要求1所述的匀场装置，其特征在于，所述匀场单元沿所述匀场装置的长度方向等间距分布。
3.如权利要求1所述的匀场装置，其特征在于，多个所述匀场单元是一体成型的。
4.如权利要求1所述的匀场装置，其特征在于，所述匀场单元首尾两端分别包括一第一连接件，两个所述第一连接件可拆卸的连接。
5.如权利要求1所述的匀场装置，其特征在于，所述上基片和所述下基片是柔性的。
6.如权利要求5所述的匀场装置，其特征在于，所述匀场装置还包括至少一个刚性或半刚性支撑件，所述支撑件沿所述匀场装置的长度方向设置。
7.如权利要求1所述的匀场装置，其特征在于，所述匀场装置两端分别包括第二连接件，所述第二连接件可拆卸的与一牵引件连接。
8.如权利要求7所述的匀场装置，其特征在于，所述第二连接件是通孔、拉环或锁扣。
9.一种磁共振成像设备，包括如权利要求1-8任一所述的匀场装置。
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2014
- 2014-06-10 CN CN201420305304.4U patent/CN203881926U/zh not_active Expired - Lifetime
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