CN203872461U - 一种uv转印外壳 - Google Patents

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Abstract

本实用新型涉及一种UV转印外壳,包括注塑层,还包括依次设于注塑层上表面的丝印层、真空镀膜层、UV转印纹路层、局部丝印层、UV涂层。加工时无需基材,而采用注塑方式成型,因此转印外壳不易变形、分层;设置UV转印纹理层,即便于通过UV纹路模具实现外壳纹路效果多样化。

Description

一种UV转印外壳
【技术领域】
本实用新型涉及电子产品外壳领域,具体是指一种用于诸如手机、平板电脑灯电子产品上具有UV转印纹路效果的外壳。
【背景技术】
目前,手机、平板电脑得到广泛的运用,而此类产品的外壳采用传统工艺IML、IMD制作而成;采用传统的IML工艺,需要采用基材,因而容易出现变形、分层,而且厚度较厚;而采用传统的IMD工艺,外壳表面没有UV纹路转印层,只能在外壳上丝印,效果单一。
【实用新型内容】
本实用新型的目的是为了提供一种无需基材、设有UV纹路转印层的UV转印外壳,其不易变形、分层,而且便于通过UV纹路模具实现外壳纹路效果多样化。
为了实现上述目的,本实用新型提供一种UV转印外壳,包括注塑层,还包括依次设于注塑层上表面的丝印层、真空镀膜层、UV转印纹路层、局部丝印层、UV涂层。
还进一步包括局部金属镍片层,所述UV涂层为局部涂层,二者均设于局部丝印层的上表面上。
优选地,转印外壳包括注塑层,还包括依次设于注塑层上表面的丝印层、真空镀膜层、UV转印纹路层、局部金属镍片层及局部UV涂层;所述局部金属镍片层及局部UV涂层设于UV转印纹路层的上表面上。
优选地,转印外壳包括注塑层,还包括依次设于注塑层上表面的丝印层、UV转印纹路层、局部金属镍片层及局部UV涂层;所述局部金属镍片层及局部UV涂层设于UV转印纹路层的上表面上。
优选地,转印外壳包括注塑层,还包括依次设于注塑层上表面的丝印层、UV转印纹路层、局部丝印层、UV涂层;所述UV涂层设于局部丝印层的上表面上。
优选地,转印外壳包括注塑层,还包括依次设于注塑层上表面的丝印层、电镀层、UV转印纹理层、UV涂层。
优选地,转印外壳包括注塑层,还包括依次设于注塑层上表面的丝印层、UV转印纹理层、UV涂层。
本实用新型的有益技术效果:加工时无需基材,而采用注塑方式成型,因此转印外壳不易变形、分层;设置UV转印纹理层,即便于通过UV纹路模具实现外壳纹路效果多样化。
下面结合附图和实施例,对本实用新型的技术方案做进一步的详细描述。
【附图说明】
图1是本实用新型的第一实施例的截面示意图;
图2是本实用新型的第二实施例的截面示意图;
图3是本实用新型的第三实施例的截面示意图;
图4是本实用新型的第四实施例的截面示意图;
图5是本实用新型的第五实施例的截面示意图;
图6是本实用新型的第六实施例的截面示意图;
图7是本实用新型的第七实施例的截面示意图。
【具体实施方式】
请参考图1所示,为本实用新型的第一实施例,一种UV转印外壳,包括注塑层1,还包括依次设于注塑层1上表面的丝印层2、真空镀膜层3、UV转印纹路层4、局部丝印层5、UV涂层6,局部丝印层用于印制和显示公司标志或商标。
如图2所示,为第二实施例,同第一实施例相比,增加设置局部金属镍片层7,此处,UV涂层6采用局部涂层,局部金属镍片层7及局部UV涂层设于局部丝印层5的上表面上。
如图3所示,为第三实施例,同第二实施例相比,未设置局部丝印层5,局部金属镍片层7及局部UV涂层直接设于UV转印纹路层4的上表面上。
如图4所示,为第四实施例,同第二实施例相比,未设置真空镀膜层3、局部丝印层5;转印外壳包括注塑层1,还包括依次设于注塑层1上表面的丝印层2、UV转印纹路层4、局部金属镍片层7及局部UV涂层;所述局部金属镍片层及局部UV涂层设于UV转印纹路层4的上表面上。
如图5所示,为第五实施例,同第一实施例相比,未设置真空镀膜层3,转印外壳包括注塑层1,还包括依次设于注塑层1上表面的丝印层2、UV转印纹路层4、局部丝印层5、UV涂层6;所述UV涂层6设于局部丝印层5的上表面上。
如图6所示,为第六实施例,同第一实施例相比,未设置真空镀膜层3、局部丝印层5,增设电镀层8,所述电镀层8设于丝印层2的上表面上;转印外壳包括注塑层1,还包括依次设于注塑层1上表面的丝印层2、电镀层8、UV转印纹理层4、UV涂层6。
如图7所示,为第七实施例,同第六实施例相比,出于成本考虑,未设置电镀层8,转印外壳包括注塑层1,还包括依次设于注塑层1上表面的丝印层2、UV转印纹理层4、UV涂层6。
虽然通过实施例描绘了本发明创造,本领域普通技术人员知道,本实用新型有许多变形和变化而不脱离本实用新型的精神,希望所附的权利要求包括这些变形和变化而不脱离本实用新型的精神。

Claims (7)

1.一种UV转印外壳,包括注塑层,其特征在于,还包括依次设于注塑层上表面的丝印层、真空镀膜层、UV转印纹路层、局部丝印层、UV涂层。
2.如权利要求1所述的一种UV转印外壳,其特征在于,还进一步包括局部金属镍片层,所述UV涂层为局部涂层,二者均设于局部丝印层的上表面上。
3.如权利要求1或2所述的一种UV转印外壳,其特征在于,转印外壳包括注塑层,还包括依次设于注塑层上表面的丝印层、真空镀膜层、UV转印纹路层、局部金属镍片层及局部UV涂层;所述局部金属镍片层及局部UV涂层设于UV转印纹路层的上表面上。
4.如权利要求1或2所述的一种UV转印外壳,其特征在于,转印外壳包括注塑层,还包括依次设于注塑层上表面的丝印层、UV转印纹路层、局部金属镍片层及局部UV涂层;所述局部金属镍片层及局部UV涂层设于UV转印纹路层的上表面上。
5.如权利要求1所述的一种UV转印外壳,其特征在于,转印外壳包括注塑层,还包括依次设于注塑层上表面的丝印层、UV转印纹路层、局部丝印层、UV涂层;所述UV涂层设于局部丝印层的上表面上。
6.如权利要求5所述的一种UV转印外壳,其特征在于,转印外壳包括注塑层,还包括依次设于注塑层上表面的丝印层、电镀层、UV转印纹理层、UV涂层。
7.如权利要求5所述的一种UV转印外壳,其特征在于,转印外壳包括注塑层,还包括依次设于注塑层上表面的丝印层、UV转印纹理层、UV涂层。
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CB03 Change of inventor or designer information

Inventor after: Liu Wuyang

Inventor before: Li Zehui

COR Change of bibliographic data

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