CN203650260U - 一种化学机械抛光用配料桶 - Google Patents

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CN203650260U CN201420021216.1U CN201420021216U CN203650260U CN 203650260 U CN203650260 U CN 203650260U CN 201420021216 U CN201420021216 U CN 201420021216U CN 203650260 U CN203650260 U CN 203650260U
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China
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mechanical polishing
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王含冠
梁庆瑞
张红岩
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Shandong Tianyue Advanced Technology Co Ltd
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SICC Science and Technology Co Ltd
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Abstract

本实用新型公开了一种化学机械抛光用配料桶,包括料桶,所述料桶底部设置有支架,顶部设置有桶盖,所述桶盖上开有投料口,所述桶盖中心垂直设置有带有搅拌器的电动搅拌泵,所述料桶下端设置有排料口,排料口处设置有阀门;所述料桶的外围设置有带有进水口和出水口的冷却水套,所述搅拌器表面设置有耐酸碱层。本实用新型结构简单,方便、快捷、实用,无需将抛光设备停机以更换抛光液,能够保证化学机械抛光工序的连续进行,省时省力,提高了工作效率,降低了生产成本;采用此配料桶配制的抛光液化学稳定性好,保证了碳化硅晶片良好的抛光效果。

Description

一种化学机械抛光用配料桶
技术领域
本实用新型涉及一种配料桶,具体涉及一种化学机械抛光用配料桶。 
背景技术
碳化硅晶片进行化学机械抛光时,需要定时更换抛光液,这样能够保证抛光液的化学稳定性和有效性,保证抛光液对于晶片的化学作用,进而保证晶片表面有良好的抛光效果。目前传统方法是等到需要更换抛光液的时候,将抛光设备停机,然后将使用过的抛光液排废,按照抛光液中各个组分的比例进行配料,倒入抛光设备自带的料桶后再搅拌一定时间。其不足之处在于:需要将抛光设备停机,手工进行配料费时费力,导致工作效率低;并且抛光液混合不充分,化学稳定性差,影响碳化硅晶片的抛光效果。 
发明内容
针对现有技术的不足之处,本实用新型提供了一种方便、快捷、实用的化学机械抛光用配料桶,克服了碳化硅晶片进行化学机械抛光时需要将抛光设备停机,手工进行配料费时费力,导致工作效率低,并且抛光液混合不充分,化学稳定性差,影响碳化硅晶片抛光效果的问题。 
本实用新型的具体技术方案是: 
一种化学机械抛光用配料桶,包括料桶,所述料桶底部设置有支架,顶部设置有桶盖,所述桶盖上开有投料口,所述桶盖中心垂直设置有带有搅拌器的电动搅拌泵,所述料桶下端设置有排料口,排料口处设置有阀门。
所述桶盖上开有投料口,约占桶盖的三分之一,之所以这样设置投料口,一方面是方便投料,另一方面是在搅拌时起到一定的散热作用,同时防止料液飞溅。 
所述电动搅拌泵由四个螺丝垂直固定于桶盖中心的表面,这样可以方便拆卸。 
当对碳化硅晶片进行化学机械抛光时,将带有支架的配料桶靠近抛光设备放置,使得抛光设备自带料桶上方正对着配料桶上的排料口,这样需要更换抛光设备自带料桶中的抛光液之前,可以先将抛光液各个组分按照一定的比例由投料口投入配料桶内,并按照使用要求开启搅拌泵搅拌一定时间,使得抛光液各组分混合均匀,形成化学性质稳定的溶液;再将抛光设备自带料桶内的使用过的抛光液进行排废,当抛光设备自带料桶内的使用过的抛光液剩余20%体积时,关闭设备排废阀,开启配料桶排料口处的阀门,使得配料桶内的新配制的抛光液由排液口进入抛光设备自带的料桶内,以保证化学抛光工序的连续进行。 
由于抛光液中大多都是化学酸碱物质,在搅拌过程中容易产生大量热量,所述料桶的外围设置有冷却水套,所述冷却水套上设置有进水口和出水口,这样可以起到降温冷却的作用。 
由于抛光液中大多都是化学酸碱物质,所述配料桶均是由耐酸碱材料制成,并且所述搅拌器表面设置有耐酸碱层,以保证人身安全,延长配料桶的使用寿命,降低使用成本。 
本实用新型结构简单,方便、快捷、实用,无需将抛光设备停机以更换抛光液,能够保证化学机械抛光工序的连续进行,省时省力,提高了工作效率,降低了生产成本;采用此配料桶配制的抛光液化学稳定性好,保证了碳化硅晶片良好的抛光效果。 
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图; 
图2是图1的俯视图。
图中1是料桶,2是阀门,3是排料口,4是冷却水套,5是投料口,6是搅拌泵,7是桶盖,8是支架,9是进水口,10是出水口。 
具体实施方式
一种化学机械抛光用配料桶,包括料桶1,所述料桶1底部设置有支架8,顶部设置有桶盖7,所述桶盖7上开有投料口5,所述桶盖7中心垂直设置有带有搅拌器的电动搅拌泵6,所述料桶1下端设置有排料口3,排料口3处设置有阀门2。 
所述电动搅拌泵6由四个螺丝垂直固定于桶盖7中心的表面,这样可以方便拆卸。 
由于抛光液中大多都是化学酸碱物质,在搅拌过程中容易产生大量热量,所述料桶1的外围设置有冷却水套4,所述冷却水套4上设置有进水口9和出水口10,这样可以起到降温冷却的作用。 
由于抛光液中大多都是化学酸碱物质,所述配料桶均是由耐酸碱材料制成,并且所述搅拌器表面设置有耐酸碱层,以保证人身安全,延长配料桶的使用寿命,降低使用成本。 
当对碳化硅晶片进行化学机械抛光时,将带有支架8的配料桶靠近抛光设备放置,使得抛光设备自带料桶上方正对着配料桶上的排料口3,这样需要更换抛光设备自带料桶中的抛光液之前,可以先将抛光液各个组分按照一定的比例由投料口投入配料桶内,并按照使用要求开启搅拌泵6搅拌一定时间,使得抛光液各组分混合均匀,形成化学性质稳定的溶液;再将抛光设备自带料桶内的使用过的抛光液进行排废,当抛光设备自带料桶内的使用过的抛光液剩余20%体积时,停止设备排废,开启配料桶排料口3处的阀门2,使得配料桶内的新配制的抛光液由排料口3进入抛光设备自带的料桶内,以保证化学抛光工序的连续进行。 

Claims (4)

1.一种化学机械抛光用配料桶,包括料桶(1),其特征在于:所述料桶(1)底部设置有支架(8),顶部设置有桶盖(7),所述桶盖(7)上开有投料口(5),所述桶盖(7)中心垂直设置有带有搅拌器的电动搅拌泵(6),所述料桶(1)下端设置有排料口(3),排料口(3)处设置有阀门(2)。
2.根据权利要求1所述的化学机械抛光用配料桶,其特征在于:所述料桶(1)的外围设置有冷却水套(4)。
3.根据权利要求2所述的化学机械抛光用配料桶,其特征在于:所述冷却水套(4)上设置有进水口(9)和出水口(10)。
4.根据权利要求1所述的化学机械抛光用配料桶,其特征在于:所述搅拌器表面设置有耐酸碱层。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN106985062A (zh) * 2017-03-14 2017-07-28 黄河科技学院 一种化学机械抛光设备

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Date Code Title Description
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
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Denomination of utility model: Chemical mechanical polishing mixing barrel

Effective date of registration: 20170912

Granted publication date: 20140618

Pledgee: Prudential Bank Ji'nan branch of Limited by Share Ltd.

Pledgor: SICC Co.,Ltd.

Registration number: 2017370000138

PE01 Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right
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Date of cancellation: 20180208

Granted publication date: 20140618

Pledgee: Prudential Bank Ji'nan branch of Limited by Share Ltd.

Pledgor: SICC Co.,Ltd.

Registration number: 2017370000138

PC01 Cancellation of the registration of the contract for pledge of patent right
CP03 Change of name, title or address

Address after: No.99, Tianyue South Road, Huaiyin District, Jinan City, Shandong Province

Patentee after: Shandong Tianyue advanced technology Co.,Ltd.

Address before: 3-409, Yinhe building, 2008 Xinluo street, high tech Development Zone, Jinan City, Shandong Province

Patentee before: SICC Co.,Ltd.

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Granted publication date: 20140618

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