CN203648368U - 排级式等离子体裂解氧化反应器用等离子盘 - Google Patents
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- 230000003647 oxidation Effects 0.000 title claims abstract description 10
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 title claims abstract description 10
- 238000005336 cracking Methods 0.000 title abstract 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims description 14
- 238000004157 plasmatron Methods 0.000 claims description 10
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 claims description 7
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 9
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 238000006477 desulfuration reaction Methods 0.000 abstract description 3
- 230000023556 desulfurization Effects 0.000 abstract description 3
- 239000003546 flue gas Substances 0.000 abstract description 3
- 239000010815 organic waste Substances 0.000 abstract description 2
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 230000000185 dioxinlike effect Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 1
- 239000000796 flavoring agent Substances 0.000 description 1
- 235000019634 flavors Nutrition 0.000 description 1
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 description 1
- -1 halocarbon hydrocarbon compound Chemical class 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N tetrafluoromethane Chemical compound FC(F)(F)F TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012855 volatile organic compound Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
本实用新型涉及一种有机废气处理装置，具体是一种排级式等离子体裂解氧化反应器用等离子盘，其特征是，包括盘架，盘架的两端设置绝缘盖板，绝缘盖板之间设有多根等离子管。盘架上还设有绝缘套，电缆通过绝缘套与等离子管连接。本实用新型的排级式等离子体裂解氧化反应器用等离子盘可广泛用于工业恶臭气体处理、锅炉烟气脱硫脱硝，其可以在0.1～10×105Pa的气压下工作，使用方便，通过等离子盘的不同组合，可处理1-50000m3/h的工业气体。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种有机废气处理装置，具体是一种排级式等离子体裂解氧化反应器用等离子盘。
背景技术
介质阻挡放电（Dielectric Barrier Discharge,DBD）作为常压条件下产生低温（非平衡态）等离子体的一种可靠、经济的方法，被广泛应用于臭氧合成、真空紫外光源、材料表面处理和环境保护等领域。已有研究表明，DBD技术可用于处理多种气态污染物，如可挥发性有机物VOCs、苯系物（如苯、二甲苯）、全氟碳（如C2F6）、碳卤烃化合物（如CF2ClBr、CFC）、二恶英类物质等。近年来，DBD技术在恶臭污染物降解方面的相关研究备受关注，也因其兼有辉光放电的大空间均匀放电和电晕放电高气压运行的特点，使其成为具有工业应用前景的恶臭污染控制有效技术。
目前介质阻挡放电产生等离子体的方式主要有套管式和平板式，其主要不足之处是：气阻大，仅能应用于小气量废气处理。
公开日为2011年1月5日、公开号为CN101934190A的中国专利公开了一种矩阵式介质阻挡放电等离子体处理异味气体装置，该项目是申请人的相关专利，其处理能力为5000m3/h。本专利是申请人为提高废气处理能力而进行的进一步改进。
发明内容
本实用新型提供用于工业恶臭气体处理、锅炉烟气脱硫脱硝，其通过等离子盘的不同组合，可处理1-50000m3/h的工业气体。
本实用新型采用的具体方案是：
一种排级式等离子体裂解氧化反应器用等离子盘，其特征是，包括盘架，盘架的两端设置绝缘盖板，绝缘盖板之间设有多根等离子管。盘架上还设有绝缘套，电缆通过绝缘套与等离子管连接。
在每个等离子管中均设有高压电极和接地电极，高压电极和接地电极之间采用两个介质阻挡，两个介质之间形成放电间隙。
本实用新型的排级式等离子体裂解氧化反应器用等离子盘可广泛用于工业恶臭气体处理、锅炉烟气脱硫脱硝，其可以在0.1～10×105Pa的气压下工作，使用方便，通过等离子盘的不同组合，可处理1-50000m3/h的工业气体。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图；
图2是本实用新型的结构原理图。
图中，1-电缆，2-绝缘套，3-盘架，4-等离子管，5-绝缘盖板。6-高压电极，7-介质，8-接地电极。
具体实施方式
一种排级式等离子体裂解氧化反应器用等离子盘，包括盘架3，盘架3的两端设置绝缘盖板5，绝缘盖板5之间设有多根等离子管4。盘架3上还设有绝缘套2，电缆1通过绝缘套2与等离子管4连接。
在每个等离子管4中均设有高压电极6和接地电极8，高压电极6和接地电极8之间采用两个介质7阻挡，两个介质7之间形成放电间隙。
Claims (2)
1.一种排级式等离子体裂解氧化反应器用等离子盘，其特征是，包括盘架，盘架的两端设置绝缘盖板，绝缘盖板之间设有多根等离子管，盘架上还设有绝缘套，电缆通过绝缘套与等离子管连接。
2.根据权利要求1所述的排级式等离子体裂解氧化反应器用等离子盘，其特征是，在每个等离子管中均设有高压电极和接地电极，高压电极和接地电极之间采用两个介质阻挡，两个介质之间形成放电间隙。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201320796460.0U CN203648368U (zh) | 2013-12-05 | 2013-12-05 | 排级式等离子体裂解氧化反应器用等离子盘 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201320796460.0U CN203648368U (zh) | 2013-12-05 | 2013-12-05 | 排级式等离子体裂解氧化反应器用等离子盘 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN203648368U true CN203648368U (zh) | 2014-06-18 |
Family
ID=50914811
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201320796460.0U Expired - Lifetime CN203648368U (zh) | 2013-12-05 | 2013-12-05 | 排级式等离子体裂解氧化反应器用等离子盘 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN203648368U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106102294A (zh) * | 2016-08-05 | 2016-11-09 | 江苏河海新能源股份有限公司 | 一种微孔介质阻挡等离子体反应器 |
-
2013
- 2013-12-05 CN CN201320796460.0U patent/CN203648368U/zh not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106102294A (zh) * | 2016-08-05 | 2016-11-09 | 江苏河海新能源股份有限公司 | 一种微孔介质阻挡等离子体反应器 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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|
| TR01 | Transfer of patent right | ||
| CX01 | Expiry of patent term |
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|
| CX01 | Expiry of patent term |