CN203546135U - 一种外延片蒸镀装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提出一种外延片蒸镀装置，包括承载盘和蒸镀单元；所述蒸镀单元包括能被磁铁吸引的固定块、磁铁、不能被磁铁吸引的盖子、外延片、能被磁铁吸引的光罩片，所述光罩片上具有蒸镀孔；所述固定块固定设置在所述承载盘上，所述盖子将所述磁铁密封在所述固定块上，所述外延片设置在所述盖子与所述光罩片之间。在蒸镀承载盘直径和磁铁直径不变的情况下，通过缩小固定块、盖子和光罩片的直径、缩小固定块与固定块之间的间距，可将单个承载盘承载的蒸镀单元由50个提升到62个，相应地，蒸镀的外延片的数量由50个也提升为62个，蒸镀金属成本降低19.3%，使得成品成本降低，提升了产品在市场上的竞争力。
Description
技术领域
本实用新型涉及LED制造技术领域，特别涉及一种外延片蒸镀装置。
背景技术
LED生产技术中，电极的形成是一项关键技术。LED外延片电极形成主要分为光罩工艺流程和蚀刻工艺流程，光罩工艺流程原理为将蒸镀光罩片和外延片紧密贴合后固定于蒸镀承载盘上，蒸镀原材料金属气化的原子或分子通过蒸镀光罩片孔而入射到外延片上，形成需要的电极薄膜，外延片上不需要电极薄膜的部位因为蒸镀光罩片的阻隔而不会镀上金属。光罩工艺流程因为简单易操作而主要应用于平坦的外延片电极形成工艺流程中。
目前LED产品电极形成方法主要使用真空蒸发镀膜法。其原理为在真空室中，加热蒸发容器中待形成电极薄膜的金属原材料，使其原子或分子从表面气化逸出，形成蒸汽流，入射到LED外延片表面，凝结形成固态电极薄膜。LED蒸镀系统每次用于形成电极薄膜的金属耗用量是一定且不变的，因受限于蒸镀机腔体内空间，蒸镀承载盘尺寸无法变大以增加承载LED外延片的数量，这样导致单片外延片的金属成本偏大，生产效益不高。
发明内容
本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型提出一种外延片蒸镀装置，包括承载盘1和蒸镀单元；所述蒸镀单元包括能被磁铁吸引的固定块2、磁铁3、不能被磁铁吸引的盖子4、外延片5、能被磁铁吸引的光罩片6，所述光罩片6上具有蒸镀孔61；所述固定块固定设置在所述承载盘上，所述盖子将所述磁铁密封在所述固定块上，所述外延片设置在所述盖子与所述光罩片之间。
进一步地，所述承载盘直径为535mm。
进一步地，所述固定块直径为57.5mm。
进一步地，所述磁铁直径为50mm。
进一步地，所述盖子外径为57.5mm、盖子内径为52mm。
进一步地，所述光罩片直径为57.2mm。
进一步地，所述蒸镀单元为62个。
本实用新型蒸镀承载盘中，承载盘也是由能被磁铁吸引的铁制成的，所以磁铁可以将固定块、磁铁本身固定在承载盘上，而光罩片也是能被磁铁吸引的，通过磁铁吸引光罩片将盖子、外延片都固定在固定块上，当蒸镀完毕只需要将光罩片取下就可以直接取出外延片。在蒸镀承载盘直径和磁铁直径不变的情况下，通过缩小固定块、盖子和光罩片的直径、缩小固定块与固定块之间的间距，可将单个承载盘承载的蒸镀单元由50个提升到62个，相应地，蒸镀的外延片的数量由50个也提升为62个，蒸镀金属成本降低19.3%，使得成品成本降低，提升了产品在市场上的竞争力。
附图说明
图1是本实用新型的蒸镀单元的结构示意图；
图2是本实用新型的光罩片的示意图；
图3是本实用新型整体结构示意图；
其中，1、承载盘；2、固定块；3、磁铁；4、盖子；5、外延片；6、光罩片；61、蒸镀孔。
具体实施方式
下面详细描述本实用新型的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。
在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“设置”应做广义理解，例如，可以是固定相连、设置，也可以是可拆卸连接、设置，或一体地连接、设置。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
下面参考图1描述本实用新型的实施例。
实施例一，如图1、图2、图3所示的外延片蒸镀装置，包括铁制的承载盘1和蒸镀单元；所述蒸镀单元包括铁制的固定块2、磁铁3、铝盖子4、外延片5、铁制的光罩片6，所述光罩片6上具有蒸镀孔61；所述固定块固定设置在所述承载盘上，所述盖子将所述磁铁密封在所述固定块上，所述外延片设置在所述盖子与所述光罩片之间。所述承载盘直径为535mm，所述固定块直径为57.5mm，所述磁铁直径为50mm，所述盖子外径为57.5mm、盖子内径为52mm，所述光罩片直径为57.2mm，所述蒸镀单元为62个。
实施例二，如图1、图2、图3所示的外延片蒸镀装置，包括铁制的承载盘1和蒸镀单元；所述蒸镀单元包括能被磁铁吸引的不锈钢固定块2、磁铁3、铝盖子4、外延片5、能被磁铁吸引的不锈钢光罩片6，所述光罩片6上具有蒸镀孔61；所述固定块固定设置在所述承载盘上，所述盖子将所述磁铁密封在所述固定块上，所述外延片设置在所述盖子与所述光罩片之间。所述承载盘直径为535mm，所述固定块直径为57.5mm，所述磁铁直径为50mm，所述盖子外径为57.5mm、盖子内径为52mm，所述光罩片直径为57.2mm，所述蒸镀单元为62个。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本实用新型的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由权利要求及其等同物限定。
Claims (7)
1.一种外延片蒸镀装置，其特征在于，包括承载盘（1）和蒸镀单元；所述蒸镀单元包括能被磁铁吸引的固定块（2）、磁铁（3）、不能被磁铁吸引的盖子（4）、外延片（5）、能被磁铁吸引的光罩片（6），所述光罩片（6）上具有蒸镀孔（61）；所述固定块固定设置在所述承载盘上，所述盖子将所述磁铁密封在所述固定块上，所述外延片设置在所述盖子与所述光罩片之间。
2.根据权利要求1所述的外延片蒸镀装置，其特征在于：所述承载盘（1）直径为535mm。
3.根据权利要求2所述的外延片蒸镀装置，其特征在于：所述固定块（2）直径为57.5mm。
4.根据权利要求3所述的外延片蒸镀装置，其特征在于：所述磁铁（3）直径为50mm。
5.根据权利要求4所述的外延片蒸镀装置，其特征在于：所述盖子（4）外径为57.5mm、盖子内径为52mm。
6.根据权利要求5所述的外延片蒸镀装置，其特征在于：所述光罩片（6）直径为57.2mm。
7.根据权利要求6所述的外延片蒸镀装置，其特征在于：所述蒸镀单元为62个。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN201320620068.0U CN203546135U (zh) | 2013-10-09 | 2013-10-09 | 一种外延片蒸镀装置 |
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| CN203546135U true CN203546135U (zh) | 2014-04-16 |
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| CN201320620068.0U Expired - Fee Related CN203546135U (zh) | 2013-10-09 | 2013-10-09 | 一种外延片蒸镀装置 |
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| CN (1) | CN203546135U (zh) |
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2013
- 2013-10-09 CN CN201320620068.0U patent/CN203546135U/zh not_active Expired - Fee Related
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