CN203543249U - 一种可异地加工的高透低辐射镀膜玻璃 - Google Patents

一种可异地加工的高透低辐射镀膜玻璃 Download PDF

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CN203543249U CN201320413751.7U CN201320413751U CN203543249U CN 203543249 U CN203543249 U CN 203543249U CN 201320413751 U CN201320413751 U CN 201320413751U CN 203543249 U CN203543249 U CN 203543249U
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林嘉宏
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Abstract

本实用新型公开了一种可异地加工的高透低辐射镀膜玻璃,其特征在于,所述膜层从玻璃基片依次向外包括:第一电介质层、第二电介质层、第三电介质层、第一阻挡层、功能层、第二阻挡层、第四电介质层、第五电介质层。本实用新型对于可见光波段具有很高的透过率,能保证良好的自然采光,同时又能有效的限制太阳热辐射的透过,尤其是近红外线的透过。本实用新型通过其自身的独特膜层结构,使得高透的低辐射镀膜玻璃同样具有超强的耐机械性能、抗化学腐蚀性能,解决了高透低辐射镀膜玻璃异地加工中容易出现的脱膜、划伤、极易氧化的难题。

Description

一种可异地加工的高透低辐射镀膜玻璃
技术领域
本实用新型涉及建筑玻璃,尤其涉及一种可异地加工的高透低辐射镀膜玻璃。 
背景技术
低辐射镀膜玻璃在倡导低能耗的现今社会,是非常受欢迎的,其在反射和吸收太阳光方面比透明玻璃都要高出很多,但是,过分的高反射和高吸收也会带来一些副作用,一是可见光透过率太低影响白天室内采光,二是玻璃过度升温可能引起热应力炸裂,三是反射太高引起所谓光污染,因此,镀膜玻璃对太阳光的反射和吸收具体要控制在什么程度,还要根据具体的环境和要求来决定,另外,镀膜玻璃对可见光和太阳能的透过率、反射率、吸收率这些基本参数取决于镀膜玻璃的的薄膜的材料以及薄膜的层数结构,因此,镀膜玻璃上镀覆的材料的选择、层数的限定,以及镀膜质量的好坏都直接影响着镀膜玻璃的性能。 
辐射率低又具有高透性的单银低辐射镀膜玻璃,传统的方式采用的膜层结构为:Glass/SiNx/ZnOx(SnOx)/NiCr/Ag/NiCr/ZnOx(SnOx)/SiNx,具有易脱膜、极易氧化、易划伤等加工性能差的缺点。 
发明内容
本实用新型为解决公知技术中存在的技术问题而提供一种结构简单、安装使用方便、提高工作效率的。 
本实用新型为解决公知技术中存在的技术问题所采取的技术方案是: 
一种可异地加工的高透低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基片和膜层,其特征在于,所述膜层从玻璃基片依次向外包括:第一电介质层、第二电介质层、第三电介质层、第一阻挡层、功能层、第二阻挡层、第四电介质层、第五电介质层; 
所述的第一电介质层为SiNx,膜层厚度为20-50nm; 
所述的第二电介质层为TiOx,膜层厚度为3-10nm; 
所述的第三电介质层为ZnOxNy,膜层厚度为5-15nm; 
所述的第一阻挡层为NiV,膜层厚度为1-3nm; 
所述的功能层为Ag,膜层厚度为5-15nm; 
所述的第二阻挡层为NiV,膜层厚度为1-3nm; 
所述的第四电介质层为ZnOxNy,膜层厚度为5-15nm; 
所述的第五电介质层为SiNx,膜层厚度为20-50nm。 
本实用新型具有的优点和积极效果是:本实用新型采用上述结构,使得本实用新型具有以下优点: 
1、沉积SiNx膜层选择合适的氩气、氮气配比及合适的工作气压(2.5-3E-3mbar),很大程度延长抗氧化时间。 
2、增加了TiOx层,一方面提高可见光透过率,另一方面作为SiNx膜层和ZnOxNy膜层的连接层,使膜层之间连接更牢固。 
3、沉积ZnOxNx膜层选择合适的氩气、氧气和氮气配比及合适的工作气压,一方面提升耐机械性能,另一方面延长抗氧化时间。 
4、选择NiV做为功能Ag层的阻挡层,有效保护银层,同时提高膜层之间的附着力。 
5、本实用新型镀膜玻璃,具有高可见光透过率、低反射率、低辐射率,加工此镀膜玻璃具有成品率高的优势。 
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。 
具体实施方式
为能进一步了解本实用新型的发明内容、特点及功效,兹例举以下实施例,并配合附图详细说明如下: 
请参阅图1所示,本实用新型一个实例所提供的一种可异地加工的高透低辐射镀膜玻璃,所述膜层从玻璃基片依次向外包括:第一电介质层、第二电介质层、第三电介质层、第一阻挡层、功能层、第二阻挡层、第四电介质层、第五电介质层。其中: 
上述结构中,所述第一电介质层为SiNx,膜层厚度为20-50nm。 
所述第二电介质层为TiOx,膜层厚度为3-10nm。 
所述第三电介质层为ZnOxNy,膜层厚度为5-15nm。 
所述第一阻挡层为NiV,膜层厚度为1-3nm。 
所述功能层为Ag,膜层厚度为5-15nm。 
所述第二阻挡层为NiV,膜层厚度为1-3nm。 
所述第四电介质层为ZnOxNy,膜层厚度为5-15nm。 
所述第五电介质层为SiNx,膜层厚度为20-50nm。 
本实用新型的积极效果:1、沉积SiNx膜层选择合适的氩气、氮气配比及合适的工作气压(2.5-3E-3mbar),很大程度延长抗氧化时间。 
2、增加了TiOx层,一方面提高可见光透过率,另一方面作为SiNx膜层和ZnOxNy膜层的连接层,使膜层之间连接更牢固。 
3、沉积ZnOxNx膜层选择合适的氩气、氧气、氮气配比及合适的工作气压,一方面提升耐机械性能,另一方面延长抗氧化时间。 
4、选择NiV做为功能Ag层的阻挡层,有效保护银层被氧化,同时提高膜层之间的附着力。 
5、本实用新型镀膜玻璃,在实现膜层的低辐射率和低传热性能的基础上,能够实现膜层对自然光的透过率高达82%~86%的优点,而且具有500小时以上的裸放抗氧化时间。在异地进行改切、磨边、钢化和中空等后续加工中,可加工性特别强,具有成品率极高的优势。 
以上所述仅是对本实用新型的较佳实施例而已,并非对本实用新型作任何形式上的限制,凡是依据本实用新型的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改,等同变化与修饰,均属于本实用新型技术方案的范围内。 

Claims (1)

1.一种可异地加工的高透低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基片和膜层,其特征在于,所述膜层从玻璃基片依次向外包括:第一电介质层、第二电介质层、第三电介质层、第一阻挡层、功能层、第二阻挡层、第四电介质层、第五电介质层; 
第一电介质层为SiNx,膜层厚度为20-50nm; 
第二电介质层为TiOx,膜层厚度为3-10nm; 
第三电介质层为ZnOxNy,膜层厚度为5-15nm; 
第一阻挡层为NiV,膜层厚度为1-3nm; 
功能层为Ag,膜层厚度为5-15nm; 
第二阻挡层为NiV,膜层厚度为1-3nm; 
第四电介质层为ZnOxNy,膜层厚度为5-15nm; 
第五电介质层为SiNx,膜层厚度为20-50nm。 
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104230182A (zh) * 2014-09-28 2014-12-24 中国建材国际工程集团有限公司 高透过率可钢化低辐射镀膜玻璃的制备方法
CN105481267A (zh) * 2015-11-26 2016-04-13 黑龙江健中特种玻璃有限公司 可后续加工的高透单银低辐射镀膜玻璃及其生产工艺

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