CN203284462U - 等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统，涉及化学气相沉积镀膜技术领域。本实用新型包括一排支管道，所述支管道的一端均和进气管道的一侧连通，所述进气管道和总管道连通，支管道的上方设有一排出气孔，所述进气管道的另一侧还设有一排支管道，以上构成一组进气装置。本实用新型结构简单、送气均匀，能大大提高镀膜厚度的均一性，提高产品质量和生产率，降低成本，提高产品的合格率，便于批量生产。
Description
技术领域
本实用新型涉及化学气相沉积镀膜技术领域。
背景技术
PECVD（plasma-enhanced chemical vapor deposition）是等离子体增强化学气相沉积技术的简称，其原理是利用低温等离子体作能量源，样品置于低气压下辉光放电的阴极上，利用辉光放电或另加发热体使样品升温到预定的温度，然后通入适量的反应气体，气体经一系列化学反应和等离子体反应，在样品表面形成固态薄膜。随着现代科技飞发展和人类能源资源的短缺，太阳能的利用已经越来越受到重视，太阳能电池作为一种可以将太阳辐射能直接转化为电能的器件，已经得到人们的认可和关注，并迅速得到推广和应用。
目前的太阳能电池生产中一般采用的是等离子体化学气相沉积镀膜设备。使用等离子体化学气相沉积镀膜设备在大面积玻璃基片上沉积非晶硅薄膜时，由于现在的进气系统采用直接送气的方法，沉积盒内部各个位置进气量差异较大，造成沉积的膜层厚度不均匀，从而影响电池的光电转换效率，且由于不同基片上沉积的膜层厚度不一致，偏差很大，导致批量生产合格率偏低。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是提供一种结构简单、送气均匀的等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统，能大大提高镀膜厚度的均一性，提高产品质量和生产率，便于批量生产。
为解决上述技术问题，本实用新型所采取的技术方案是：一种等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统，包括一排支管道，所述支管道的一端均和进气管道的一侧连通，所述进气管道和总管道连通，支管道的上方设有一排出气孔，所述进气管道的另一侧还设有一排支管道，以上构成一组进气装置。
所述支管道对称分布在进气管道的两侧，间隔均匀，支管道上方的出气孔均匀分布。
所述进气管道的前端设置有调节阀门。
设有2组以上的进气装置，各进气装置的进气管道均与总管道连通。
采用上述技术方案所产生的有益效果在于：本实用新型所述支管道对称分布在进气管道的两侧，间隔均匀，支管道上方的出气孔均匀分布，能够保证送气均匀稳定；在所述进气管道上安装调节阀门，能够调节进入各进气管道的送气量，保证送气均匀稳定，有效保证镀膜厚度的均一性；进气装置的组数能够根据实际生产的需要增加，方便进行批量。本实用新型结构简单、送气均匀，能大大提高镀膜厚度的均一性，提高产品质量和生产率，降低成本，提高产品的合格率，便于批量生产。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图；
图中标记：1-总管道；2-调节阀门；3-进气管道；4-支管道；5-出气孔；6-第二密封盖；7-电极板；8-沉积盒；9-第一密封盖。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。
由图1可知，等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统，包括一排支管道4，所述支管道4的一端均和进气管道3的一侧连通，所述进气管道3和总管道1连通，支管道4的上方设有一排出气孔5，所述进气管道3的另一侧还设有一排支管道4，以上构成一组进气装置；所述支管道4对称分布在进气管道3的两侧，间隔均匀，支管道4上方的出气孔5均匀分布；所述进气管道3的前端设置有调节阀门2；设有2组以上的进气装置，各进气装置的进气管道3均与总管道1连通。
所述支管道4对称均匀分布在进气管道3的两侧，在进气管道3的前端安装调节阀门2，调节气量的大小，均是为了保证送入的气量均匀稳定，提高镀膜厚度的均一性，提高产品质量，提高产品的合格率；进气装置的组数可根据生产的需要增加，方便批量生产，提高生产率，降低成本，增加产能。
本实用新型工作原理如下：电极板7均匀放置在沉积盒8内，支管道4放置在电极板7的上方，电极板7外围被沉积盒8包围着，在进气管道3的末端设置有第一密封盖9，支管道4的末端设置有第二密封盖6，防止气体从管道端部排出。经过总管道1输送的气体在进入沉积盒8前分成两组，进入进气管道3，通过调节进气管道3前端的调节阀门2，可以控制进入两侧沉积盒8内的送气量，解决了两个沉积盒8内进气量不均匀的问题；同时采用分组的进气装置，平衡了气体在管道中各个位置的压力，保证了各个出气孔5出气量的一致，使各个电极板7之间送气量分布均匀一致，解决了基片与基片之间膜层厚度的偏差，便于批量生产，起到了增加产能的作用，因此本实用新型具有效率高，节能降耗，提高产品质量，增加产能等优点。
采用上述技术方案所产生的有益效果在于：本实用新型所述支管道4对称分布在进气管道3的两侧，间隔均匀，支管道4上方的出气孔5均匀分布，能够保证送气均匀稳定；在所述进气管道3上安装调节阀门2，能够调节进入各进气管道3的送气量，保证送气均匀稳定，有效保证镀膜厚度的均一性；进气装置的组数能够根据实际生产的需要增加，方便进行批量生产。本实用新型结构简单、送气均匀，能大大提高镀膜厚度的均一性，提高产品质量和生产率，降低成本，提高产品的合格率，便于批量生产。
Claims (4)
1.一种等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统，包括一排支管道（4），所述支管道（4）的一端均和进气管道（3）的一侧连通，所述进气管道（3）和总管道（1）连通，支管道（4）的上方设有一排出气孔（5），其特征在于：所述进气管道（3）的另一侧还设有一排支管道（4），以上构成一组进气装置。
2.根据权利要求1所述的等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统，其特征在于：所述支管道（4）对称分布在进气管道（3）的两侧，间隔均匀，支管道（4）上方的出气孔（5）均匀分布。
3.根据权利要求1所述的等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统，其特征在于：所述进气管道（3）的前端设置有调节阀门（2）。
4.根据权利要求1、2或3所述的等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统，其特征在于：设有2组以上的进气装置，各进气装置的进气管道（3）均与总管道（1）连通。
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| CN2013202504009U CN203284462U (zh) | 2013-05-10 | 2013-05-10 | 等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统 |
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| CN2013202504009U CN203284462U (zh) | 2013-05-10 | 2013-05-10 | 等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统 |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109545885A (zh) * | 2018-10-22 | 2019-03-29 | 浙江光隆能源科技股份有限公司 | 一种太能电池的生产系统 |
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2013
- 2013-05-10 CN CN2013202504009U patent/CN203284462U/zh not_active Expired - Fee Related
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