CN203269788U - 一种高效玻璃薄化设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种高效玻璃薄化设备，其蚀刻箱体的内部成型蚀刻腔室和缓冲腔室，缓冲腔室的底部配装至少两条进液管，蚀刻腔室与缓冲腔室之间装设上导流板和下导流板，下导流板开设下导流孔，上导流板开设上导流孔，上导流孔的直径较下导流孔的直径小。工作时，蚀刻剂经由进液管而输入至缓冲腔室内，缓冲腔室能起到缓冲作用；进入至缓冲腔室内的蚀刻剂依次经由下导流孔和上导流孔而进入至蚀刻腔室内；本实用新型通过下导流板和上导流板进行二次导流处理，蚀刻剂最终被上导流孔分成多股细小的蚀刻剂流且均匀平稳地进入至蚀刻腔室内。故而，本实用新型能够有效地避免涡流对玻璃基板蚀刻质量的影响，进而蚀刻质量。
Description
技术领域
本实用新型涉及蚀刻装置技术领域，尤其涉及一种高效玻璃薄化设备。
背景技术
现有技术一般采用浸渍法和喷淋发来加工制造液晶显示器的玻璃基板，其中，浸渍法由于设备简单且成本低的优点而被广泛地应用于液晶显示器的玻璃基板加工制造。
在利用浸渍法加工制造液晶显示器的玻璃基板的过程中，蚀刻剂在箱体内流动并蚀刻玻璃基板，其中，蚀刻剂可以从箱体的顶部淋下，也可以从箱体的底部输入；对于蚀刻剂从箱体底部输入的结构形式而言，由于蚀刻剂通过一个或者多个入口直接通入至箱体的内部，蚀刻剂快速地流动并容易在箱体的内部产生涡流，进而造成箱体内部不同位置的流速不一样以致于影响同一批次玻璃基板的反应效率以及蚀刻质量的一致性。
发明内容
本实用新型的目的在于针对现有技术的不足而提供一种高效玻璃薄化设备，该高效玻璃薄化设备能够有效地避免涡流对玻璃基板蚀刻质量的影响，进而能够有效地提高玻璃基板的蚀刻质量。
为达到上述目的，本实用新型通过以下技术方案来实现。
一种高效玻璃薄化设备，包括蚀刻箱体，蚀刻箱体的内部成型有蚀刻腔室，蚀刻箱体的内部于蚀刻腔室的下方成型有缓冲腔室，蚀刻箱体的内部于蚀刻腔室与缓冲腔室之间设置有搭肩，缓冲腔室的底部配装有至少两条与循环泵体的出液口连接且往缓冲腔室内供给蚀刻剂的进液管，蚀刻腔室与缓冲腔室之间装设有上下层叠且间隔布置的上导流板和下导流板，下导流板搭设于挡肩的上表面，上导流板位于下导流板的上方，下导流板开设有上下完全贯穿且呈均匀分布的下导流孔，上导流板开设有上下完全贯穿且呈均匀分布的上导流孔，上导流孔和下导流孔分别为圆形孔，上导流孔的直径较下导流孔的直径小。
其中，所述蚀刻腔室的内部于所述上导流板的上方装设有固定支撑架，固定支撑架包括有水平横向布置的固定支撑横杆，固定支撑横杆开设有沿长度方向呈均匀间隔布置的卡持槽。
其中，所述蚀刻箱体的上端部配装有与所述蚀刻腔室连通的溢流管。
本实用新型的有益效果为：本实用新型所述的一种高效玻璃薄化设备，其蚀刻箱体的内部成型蚀刻腔室和缓冲腔室，缓冲腔室的底部配装至少两条进液管，蚀刻腔室与缓冲腔室之间装设上导流板和下导流板，下导流板搭设于挡肩，下导流板开设下导流孔，上导流板开设上导流孔，上导流孔和下导流孔分别为圆形孔，上导流孔的直径较下导流孔的直径小。工作时，蚀刻剂经由进液管而输入至缓冲腔室内，缓冲腔室能起到缓冲作用；进入至缓冲腔室内的蚀刻剂依次经由下导流孔和上导流孔而进入至蚀刻腔室内并对蚀刻腔室内的玻璃基板进行蚀刻处理；本实用新型通过下导流板和上导流板对进入蚀刻腔室内的蚀刻剂进行二次导流处理，由于上导流孔较下导流孔的直径小，蚀刻剂最终被上导流板的上导流孔分成多股细小的蚀刻剂流且均匀平稳地进入至蚀刻腔室内。通过上述结构设计，本实用新型能够有效地避免涡流对玻璃基板蚀刻质量的影响，进而能够有效地提高玻璃基板的蚀刻质量。
附图说明
下面利用附图来对本实用新型进行进一步的说明，但是附图中的实施例不构成对本实用新型的任何限制。
图1为本实用新型的结构示意图。
在图1中包括有：
1——蚀刻箱体 11——蚀刻腔室
12——缓冲腔室 13——搭肩
2——进液管 3——上导流板
31——上导流孔 4——下导流板
41——下导流孔 5——固定支撑架
51——固定支撑横杆 511——卡持槽
6——溢流管 7——玻璃基板。
具体实施方式
下面结合具体的实施方式来对本实用新型进行说明。
如图1所示，一种高效玻璃薄化设备，包括蚀刻箱体1，蚀刻箱体1的内部成型有蚀刻腔室11，蚀刻箱体1的内部于蚀刻腔室11的下方成型有缓冲腔室12，蚀刻箱体1的内部于蚀刻腔室11与缓冲腔室12之间设置有搭肩13，缓冲腔室12的底部配装有至少两条与循环泵体的出液口连接且往缓冲腔室12内供给蚀刻剂的进液管2，蚀刻腔室11与缓冲腔室12之间装设有上下层叠且间隔布置的上导流板3和下导流板4，上导流板3位于下导流板4的上方，下导流板4开设有上下完全贯穿且呈均匀分布的下导流孔41，上导流板3开设有上下完全贯穿且呈均匀分布的上导流孔31，上导流孔31和下导流孔41分别为圆形孔，上导流孔31的直径较下导流孔41的直径小。
在本实用新型工作过程中，循环泵体将蚀刻剂通过进液管2而输入至蚀刻箱体1的缓冲腔室12内，缓冲腔室12能够对进入其中的蚀刻剂进行缓冲作用；进入至缓冲腔室12内的蚀刻剂再经由下导流板4的下导流孔41而流入至上导流板3与下导流板4之间的空间，并最后经由上导流板3的上导流孔31而进入至蚀刻腔室11内并对蚀刻腔室11内的玻璃基板7进行蚀刻处理；本实用新型通过下导流板4和上导流板3对进入蚀刻腔室11内的蚀刻剂进行二次导流处理，由于上导流孔31较下导流孔41的直径小，蚀刻剂最终被上导流板3的上导流孔31分成多股细小的蚀刻剂流且均匀平稳地进入至蚀刻腔室11内。
通过上述结构设计，本实用新型能够有效地避免涡流对玻璃基板7蚀刻质量的影响，进而能够有效地提高玻璃基板7的蚀刻质量。
进一步的，为便于待蚀刻的玻璃基板7稳定地放置于蚀刻箱体1的蚀刻腔室11内，本实用新型于蚀刻腔室11的内部于上导流板3的上方装设有固定支撑架5，固定支撑架5包括有水平横向布置的固定支撑横杆51，固定支撑横杆51开设有沿长度方向呈均匀间隔布置的卡持槽511；其中，卡持槽511与玻璃基板7的厚度相匹配，进而稳定地卡持固定玻璃基板7。
更进一步的，蚀刻箱体1的上端部配装有与蚀刻腔室11连通的溢流管6；当蚀刻腔室11内的液体达到溢流管6的高度时，多余的液体经由溢流管6而溢出。
以上内容仅为本实用新型的较佳实施例，对于本领域的普通技术人员，依据本实用新型的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。
Claims (3)
1.一种高效玻璃薄化设备，其特征在于：包括蚀刻箱体（1），蚀刻箱体（1）的内部成型有蚀刻腔室（11），蚀刻箱体（1）的内部于蚀刻腔室（11）的下方成型有缓冲腔室（12），蚀刻箱体（1）的内部于蚀刻腔室（11）与缓冲腔室（12）之间设置有搭肩（13），缓冲腔室（12）的底部配装有至少两条与循环泵体的出液口连接且往缓冲腔室（12）内供给蚀刻剂的进液管（2），蚀刻腔室（11）与缓冲腔室（12）之间装设有上下层叠且间隔布置的上导流板（3）和下导流板（4），上导流板（3）位于下导流板（4）的上方，下导流板（4）开设有上下完全贯穿且呈均匀分布的下导流孔（41），上导流板（3）开设有上下完全贯穿且呈均匀分布的上导流孔（31），上导流孔（31）和下导流孔（41）分别为圆形孔，上导流孔（31）的直径较下导流孔（41）的直径小。
2.根据权利要求1所述的一种高效玻璃薄化设备，其特征在于：所述蚀刻腔室（11）的内部于所述上导流板（3）的上方装设有固定支撑架（5），固定支撑架（5）包括有水平横向布置的固定支撑横杆（51），固定支撑横杆（51）开设有沿长度方向呈均匀间隔布置的卡持槽（511）。
3.根据权利要求2所述的一种高效玻璃薄化设备，其特征在于：所述蚀刻箱体（1）的上端部配装有与所述蚀刻腔室（11）连通的溢流管（6）。
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Cited By (2)
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|---|---|---|---|---|
| CN110565170A (zh) * | 2019-08-30 | 2019-12-13 | 西安奕斯伟硅片技术有限公司 | 一种蚀刻装置及方法 |
| CN111055409A (zh) * | 2019-12-30 | 2020-04-24 | 天韧膜科技(苏州)有限公司 | 一种高分子薄膜表面打湿设备 |
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- 2013-05-28 CN CN 201320296248 patent/CN203269788U/zh not_active Expired - Fee Related
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