CN203208135U - 一种2.79μm调Q铒激光牙科治疗仪 - Google Patents
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Abstract
一种2.79μm调Q铒激光牙科治疗仪，包括激光电源、激光部件、激光水冷系统、导光输出系统、气水喷雾系统及中央控制系统；激光电源用于向激光部件提供能量；激光部件由全反腔片、起偏器、调Q晶体、氙灯、激光棒、聚光腔、波片、输出腔片构成；激光水冷系统用于冷却激光部件内的激光棒和氙灯进行冷却；导光输出系统用于激光传导，方便操作和使用；气水喷雾系统用于向激光作用的牙体组织喷射气水混合物，具有降低组织温度和参与激光治疗的作用；中央控制系统用于控制所述激光电源、所述激光水冷系统、气水喷雾系统的参数以保证各分系统之间协调工作。本实用新型具有脉宽短、峰值功率高的脉冲调Q激光，作用于牙体组织可以提高消融精度，同时还可以有效减小周围组织的热损伤，有效地降低患者疼痛感。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种2.79μm调Q铒激光牙科治疗仪。
背景技术
龋齿是现代人类患病率最高的牙病之一，俗称“虫牙”。据不完全统计，我国人口拥有的龋齿总数为20多亿个，而且这些龋齿90%没有得到过治疗。龋齿是由于牙斑使牙釉质中的钙与磷溶解形成小洞产生的。龋齿对人的健康危害很大，病变的牙齿不及时治疗会腐蚀牙体组织，产生的酸会破坏牙釉质，损伤牙釉质下面的牙体细胞，严重者会导致全身性感染。
目前龋病治疗主要包括去龋、备洞和充填三个流程，其中备洞是进行牙体牙髓治疗的必要步骤。在此治疗过程中，涡轮手机是一种非常重要的手术器具，是牙科中不可或缺的重要工具之一。但是它不仅切削效率和精度低，同时也存在一些严重的缺陷，如操作过程中涡轮手机切削牙齿时引起的噪声、震动和疼痛，以及涡轮手机磨削时产生的压力和热量等。正是这些缺陷让患者对治疗望而却步，或者只有当病痛严重到不能忍受时，才愿意去接受治疗。因此牙科疾病的治疗引起了人们的广泛关注，对改善牙科疾病治疗的需求越来越迫切。
基于传统手术器具存在的上述不足和局限性，人们迫切希望有一种更好的工具能够补充甚至取代传统涡轮手机在牙科治疗中的作用，激光以其高效无接触等特有的性能首先进入人们的视野，尤其是新兴出现的牙科激光Cr，Er:YSGG铒激光。铒激光是一种硬组织激光，波长位于红外线区，能切割牙釉质、牙本质、龋坏组织和软组织。Cr，Er:YSGG激光晶体产生的2.79μm激光接近水吸收曲线及羟基磷灰石OH-吸收红外线峰值，牙体硬组织的无机成分是以羟基磷灰石为主的生物混晶，因此大量的激光能量在术中被吸收以去除硬组织，入射的能量几乎无残留，不会对周围组织产生高温损害。该激光可以被水强烈吸收，产生光电解效应使水温急剧上升，蒸汽压从组织分子中放出产生微小的爆炸，使靶组织被爆裂性的去除。Cr，Er:YSGG激光在口腔领域的实用性和安全性已得到多方面的认证，并已获得美国食品及药品管理局（FDA）批准，欧美相关产品正陆续进入中国市场。
目前临床应用的铒激光治疗仪都是脉宽几百微秒的低峰值功率的静态激光，脉宽较宽，激光作用于牙体组织的时间较长，易产生热效应的积累造成热损伤问题，造成牙体组织细胞的不可逆坏死等问题。而调Q激光具有窄脉宽（纳秒级）、高峰值功率的特点，可以有效解 决上述热损伤问题。
本实用新型技术是将2.79μm调Q铒激光技术应用到口腔临床中，取代传统牙科手机切割方式，铒激光工作过程中具有低噪、无震、无痛等优点，可以在不进行局部麻醉的情况下高效切割牙体组织，且用激光切割的牙体表面可形成高纵横比的切口，有利于牙体组织的修复。中国专利“一种可调Q的激光牙科治疗机（申请号200920186748.X）”是利用Er:YAG激光晶体产生2.94μm中红外激光，这种Er:YAG激光晶体产生的2.94μm激光发射跃迁出现在Er3+离子的4I11/2态和4I13/2态之间，泵浦阈值高、激光转化效率低。由于Er:YAG低能级的寿命比上能级寿命长很多，给实现粒子数反转带来很大的困难，并不利于Q开关工作方式，目前文献报道的调Q Er:YAG激光器最大脉冲能量仅有137mJ脉宽91.2ns，由于调Q激光脉冲宽度较宽，而且激光系统泵浦阈值高、激光转化效率低，使得该波长的激光牙科治疗仪实用性不高。牙体硬组织的无机成分是以羟基磷灰石为主的生物混晶，Cr，Er:YSGG激光(2.79μm)对牙齿的羟磷灰石中的OH-有强烈的吸收，因此相比于Er:YAG(2.94μm)激光，Cr，Er:YSGG激光比Er:YAG激光对牙体硬组织的消融更安全、精确、快速，且不会引起邻近组织的温度升高，对牙髓、牙周组织无不良影响，无需麻醉即可为患者提供无痛治疗龋齿的服务，这些都将使Cr，Er:YSGG激光(2.79μm)更加适合于牙科的应用。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题为克服现有牙科医疗技术中的不足之处，提供一种2.79μm调Q铒激光(Cr，Er:YSGG）牙科治疗仪，改变了Er:YAG激光器重复频率不高、效率低的难题，以取代传统涡轮机切割牙体硬组织的作用，有效去除根管壁表面的玷污层，兼具有杀菌效应，以提高根管治疗效果，且具有脉宽短、峰值功率高的脉冲调Q激光，作用于牙体组织还可以极大地减小周围组织的热损伤，有效降低患者的疼痛感。
为解决本实用新型的技术问题，所采用的技术方案为：一种2.79μm调Q铒激光牙科治疗仪，包括激光电源、激光部件、激光水冷系统、气水喷雾系统、导光输出系统及中央控制系统；中央控制系统的输出分别连接激光电源、激光水冷系统和气水喷雾系统；气水喷雾系统和激光部件的输出分别与导光输出系统连接；激光水冷系统和激光光源的输出分别接至激光部件连接；激光电源用于向激光部件提供能量；激光水冷系统用于对激光部件内的激光棒和氙灯进行冷却；导光输出系统用于激光传导；气水喷雾系统用于向激光作用的牙体组织喷射气水混合物，具有降低组织温度和参与激光治疗的作用；中央控制系统用于控制激光电源、激光水冷系统、气水喷雾系统的参数使各分系统之间协调工作
其特点在于：
所述激光部件包括全反腔片、电光Q开关、氙灯、激光棒、聚光腔、波片、输出腔片、 退压调Q电路板、激光电源和激光水冷系统；所述激光棒和氙灯并行安装在所述聚光腔内与水冷系统连接，氙灯发出的光称为泵浦光，通过聚光腔将泵浦光最大程度地汇聚到激光棒作为泵浦能量；水冷系统对聚光腔及腔内的激光棒和氙灯进行冷却；所述激光电源为所述氙灯提供电能量，控制氙灯、电光Q开关和水冷系统协调工作；电源内的调Q电源控制电光Q开关打开的时间，提供调Q高压，并通过高压线与调Q晶体两电极相连，两电极位于晶体的两侧，紧贴晶体Y-Z面表面；所述全反腔片和所述输出腔片平行于激光棒两端面放置，电光Q开关置于全反腔片与激光棒端面之间；所述电光Q开关由起偏器和电光调Q晶体组成；所述调Q晶体为硅酸镓镧晶体(LGS)；所述激光棒为Cr，Er:YSGG激光晶体；所述波片为1/4波片。
激光电源给氙灯提供电能使其发光，通过聚光腔漫发射使氙灯发出的光最大限度的进入激光棒中，激光水冷系统与聚光腔内部连接，通过去离子水给激光棒和氙灯进行恒温冷却，激光晶体在氙灯的光泵下发射自然光，通过起偏器后，变成线偏振光。调Q电源和退压调Q电路板共同提供电压，并控制调Q电压的脉冲时间。产生的高压施加在调Q晶体上，电光Q开关处于“关闭”状态，阻断激光振荡的形成。待激光上能级反转的粒子数积累到最大值时，突然撤去调Q晶体上的电压，光沿光轴方向通过晶体，其偏振状态不发生变化，经全反腔片反射后，再次（无变化的）通过调Q晶体和起偏器，电光Q开关处于“打开”状态，使激光器瞬间处于高Q值状态，于是产生雪崩式的激光振荡，就可输出一个调Q脉冲激光。由于使用氙灯泵浦激光棒，会出现严重的热退偏效应，因此在输出腔片和激光棒之间加入1/4波片，补偿热退偏损耗。
所述全反腔片和输出腔片均为白宝石(Al2O3)基片，其中全反腔片单面镀2.79μm全反膜，输出腔片双面分别镀2.79μm增透膜和20～90%反射膜。全反腔片和输出腔片还可以使用YSGG晶体、YAG晶体、氟化钙(CaF2)、氟化镁(MgF2)等材料替代白宝石(Al2O3)材料制作。
所述硅酸镓镧晶体(LGS)是单轴旋光晶体，能运用横向电光效应，折射率n=1.85562.79μm，损伤阈值高达750MW/cm2，且不潮解，LGS介电常数比LN更小，更低的介电常数使得Q开关的电容更小，这能使电光Q开关打开时间更短，有利于获得更窄的脉宽，本实用新型首次将该晶体应用于2.79μm调Q激光技术中，获得了短脉宽、高峰值功率的激光输出。
所述硅酸镓镧晶体(LGS)沿X-Y-Z方向切割设计为方柱状，X轴方向加电场，两Y-Z面镀金作为电极，保证电场的均匀性；沿Z轴方向通光，双X-Y面对称平行，镀2.79μm增透膜；X轴方向施加的电场由调Q电源提供。
所述1/4波片，由氟化镁(MgF2)制成，通光口径12mm，双面镀2.79μm增透膜，垂直于 光路，光轴方向平行于偏振方向，置于输出腔片与激光棒之间，以补偿在高能量泵浦时出现的热退偏效应造成的损耗，从而获得均匀的光斑和较高的输出能量。波片还可以使用YSGG晶体、YAG晶体、氟化钙(CaF2)、白宝石(Al2O3)等材料替代氟化镁(MgF2)。
所述起偏器由2～5片白宝石(Al2O3)、YSGG晶体、YAG晶体、氟化镁(MgF2)或氟化钙(CaF2)片堆构成，放置角度为各自材料在2.79μm波长的布儒斯特角，每片尺寸相同，双面加工要求光学Ⅱ级而且不镀膜。
所述聚光腔其内表面为高反射率漫反射面的陶瓷聚光腔，这种聚光腔能在长时间高能量泵浦时保持良好的稳定性，有效的提高对激光棒的泵浦效率。聚光腔也可以使用镀金腔或镀银玻璃腔替代陶瓷聚光腔使用。
所述的激光电源的工作频率为1～50Hz。
所述水冷却部件的循环回路中串接有去离子净化过滤器，保证冷却水的洁净。
本实用新型的调Q原理，通过使用调Q技术改变激光器的阈值来使上能级粒子数大量积累。当积累到最大值时突然使腔的损耗减小，激光振荡迅速建立，上能级反转粒子数被迅速消耗，从而获得峰值功率很高的巨脉冲。
本实用新型与现有技术相比的优点在于：
（1）本实用新型具有脉宽短、峰值功率高的脉冲调Q激光，作用于牙体组织还可以有效减小周围组织的热损伤，有效的降低患者疼痛感；且取代了传统涡轮机切割牙体硬组织的作用，同时还可以有效去除根管壁表面的玷污层，兼具有杀菌效应，以提高根管治疗效果。
（2）本实用新型采用氙灯泵浦Cr，Er:YSGG晶体，产生脉冲激光。利用灯泵系统可以获得高脉冲能量激光，在调Q模式下有利于获得高能量、窄脉宽的调Q激光。调Q激光脉宽越窄作用于患处时间越短，热损伤问题越小。泵浦源也可以采用LD泵浦，可以有效的减小激光器的热效应问题，使得输出激光更稳定。
（3）本实用新型中选用Cr，Er:YSGG激光晶体产生2.79μm激光，该波段能被牙体硬组织中的主要成分羟基磷灰石OH-强烈吸收，因此该波段激光更适合于牙科的应用；
（4）本实用新型中调Q模式下的脉冲铒激光具有脉宽短的优点，作用于患处可以有效的减小激光与患处的作用时间，降低了激光对患处周边组织的热损伤，有效的提高激光的治疗效果。
（5）本实用新型采用退压式Q开关，调Q晶体选用硅酸镓镧(La3Ga5SiO14，LGS)晶体，该晶体不潮解、物理化学性能稳定，在2.79μm波长的透光性好，损伤阈值高，具有其它调Q晶体无法比拟的优势，保证中红外脉冲激光器输出能量大、脉冲短、光束质量好，长期工作稳定可靠。
（6）本实用新型中调Q晶体采用将硅酸镓镧晶体，为减小四分之一波电压，将X-Y-Z方向切割的LGS电光调Q晶体设计为长方体，在晶体X轴方向加横向电场（电场方向与光路垂直），两Y-Z面镀金作为电极保证了电场的均匀性，沿Z轴方向通光，双X-Y面镀2.79μm增透膜。
（7）本实用新型激光器使用波片补偿热退偏技术，解决了高能量泵浦时热退偏损耗问题，使得输出的激光光斑模式好，能量分布均匀。
（8）本实用新型的聚光腔选为内表面为漫反射面的陶瓷聚光腔，这种聚光腔反射率高，能在长时间高能量泵浦时保持良好的稳定性，为激光器的高效和稳定的输出奠定了良好的基础。聚光腔也可以使用镀金腔或镀银玻璃腔替代陶瓷聚光腔使用，也会获得良好的输出效果。
（9）硅酸镓镧晶体的加电场的Y-Z两对应平行侧面上镀有金膜，使其上加有的横向电场更均匀，调Q的效果也更佳。
（10）本实用新型中水冷系统的循环回路中优选串接去离子净化过滤器，保证了水冷却部件冷却温度的稳定性。
附图说明
图1为本实用新型治疗仪的组成框图；
图2本实用新型激光部件在激光振荡回路上的示意图；
图3为本实用新型的退压调Q电路板结构示意图；
图4为本实用新型输出能量与脉宽随泵浦能量的变化曲线；
图5为本实用新型中调Q模式与静态模式下激光在离体牙齿上窝洞样本正面图；
图6为本实用新型中调Q模式与静态模式下激光在离体牙齿上窝洞样本剖面图。
具体实施方式
如图1所示，本实用新型包括激光部件、激光电源、激光水冷系统、导光输出系统、气水喷雾系统和中央控制系统。中央控制系统用于控制所述激光电源、激光水冷系统、气水喷雾系统的参数大小；所述激光电源用于向所述激光部件提供能量；所述激光水冷系统用于冷却部分所述激光部件；所述导光输出系统用于将产生的激光导向牙体组织；所述气水喷雾系统用于向激光作用的牙体组织喷射气水混合物，具有降低组织温度和参与激光治疗的作用。本实用新型的重点创新在于激光部件，所以下面对针对激光部件进行详细阐述，其它部分与通常的功能与作用及实现等基本相同。
如图2所示，本实用新型激光部件在激光振荡回路上由全反腔片1、调Q晶体2、起偏器3、氙灯4、激光棒5、聚光腔6、波片7、输出腔片8、退压调Q电路板9、调Q电源10、激光电源11和激光水冷系统12构成。
激光棒5下面平行放置氙灯4，激光棒和氙灯同时安装在聚光腔6内，氙灯通过激光电源11提供能量发光，产生的光通过聚光腔漫反射最大限度地进入激光棒内对激光棒进行泵浦；激光水冷系统12与聚光腔内部相连接，为激光棒提供给恒温冷却作用；波片7采用1/4波片，用于补偿高泵浦功率下的热退偏问题；起偏器3采用布儒斯特角(59.8°)放置的2～5片白宝石(Al2O3)等材料片堆构成，用于产生线偏光；电光调Q晶体2和起偏器串联组成电光调Q开关，所述光电调Q晶体为硅酸镓镧晶体，X-Y-Z方向切割的长方体LGS电光调Q晶体，晶体X轴方向加电场，沿Z轴方向通光；由调Q电源10和退压调Q电路板9共同提供1/4波长电压形成所述电场，并控制调Q电压的脉冲时间；调Q电源安装在激光电源内部，激光电源为脉冲氙灯提供能量并同时控制水冷系统、调Q开关等进行协调工作。
全反腔片1和输出腔片8严格平行于激光棒端面放置，基片为白宝石(Al2O3)等材料制作的镜片，其中全反腔片单面镀2.79μm全反膜，输出腔片双面分别镀2.79μm增透膜和20～90%反射膜。激光棒采用Cr，Er:YSGG激光晶体，激光棒两端面镀2.79μm增透膜。沿X-Y-Z方向切割的LGS电光调Q晶体设计为长方体，晶体X轴方向加电场，两Y-Z面镀金作为电极保证了电场的均匀性，沿Z轴方向通光，双X-Y面镀2.79μm增透膜。而电光Q开关工作需要线偏振光，但该波段介质膜起偏器还不成熟，于是本实用新型创新性的采用布儒斯特角放置的2～5片白宝石(Al2O3)等材料制作的窗口片堆作为起偏器，放置角度为各自材料在2.79μm波长的布儒斯特角。激光器通过选用氙灯进行泵浦，氙灯放电回路是由电容和电感构成的单回路RLC电路。闪光灯和激光棒平行置于聚光腔内用恒温循环水进行冷却，冷却系统设计采用较大的水流量以保证有较高冷却效率。但在灯泵激光器系统中，激光棒内仍然会有热沉积，这将导致腔内线偏振光的热退偏效应，于是采用氟化镁(MgF2)等材料制作的1/4波片置于输出腔片与激光棒之间，波片的光轴方向平行于偏振方向，以补偿热退偏效应造成的损耗，从而获得均匀的光斑和较高的输出能量。
根据LGS电光系数小(γ11=2.3pm/V)的特性，电光调Q开关工作方式设计为退压方式。本实用新型设计的退压调Q的电路原理图如图3所示。R1是限流电阻，当激光电源提供的触发信号为0时，冷阴极匝流管Q1不能导通，此时调Q晶体两端加载高压，Q开关处于“关门”状态；当激光电源提供触发信号后，通过高压模块产生高压（HV）脉冲，触发冷阴极闸流管Q1使其导通，此时调Q晶体2被瞬间短路，加载在两端的电压为0，此时Q开关处于“开门”状态。氙灯开始泵浦，电光开关处于关闭状态时，Q开关完全阻止了该泵浦能量下腔内激光振荡，使激光器处于低Q值状态，反转粒子储存在上能级不被损耗，输出激光能量为0，调Q开关处于打开状态时瞬间获得高峰值输出。为了获得高效率，对电光调Q模块延时进行了优化，获得了峰值功率最高的激光输出，且无多脉冲现象。其中冷阴极匝流管 Q1也可以由MOSFET场效应管、雪崩晶体管等开关元件替换。
对上述优化后，本实用新型研制的激光系统可以在1-50Hz重复频率下工作，实现短脉冲、高能量的激光输出。输出的脉冲能量和脉宽随泵浦能量的变化曲线如图4所示，随着泵浦能量的增加，脉宽变窄。在泵浦能量151J、重复率3Hz时获得脉冲能量216mJ，脉宽14.36ns的调Q巨脉冲输出。
2.79μm激光属于固态激光，在作用于牙体硬组织过程中都有水的参与，水不仅冷却作用区域，而且参与了窝洞的机械预备机制。该激光可以被水强烈吸收，产生光电解效应使水温急剧上升，蒸汽压从组织分子中放出产生微小的爆炸，使靶组织被爆裂性的去除。牙釉质、牙本质中羟基磷灰石对铒激光也有很强的吸收率，大量的激光能量在术中被吸收以去除硬组织，入射的能量几乎无残留，不会对周围组织产生高温损害，且龋坏组织的极限拉伸强度较周围的健康釉质和本质低，较低能量的铒激光引发的热压作用就可以将其去除。本实用新型是一种能产生脉冲宽度在10～20ns，脉冲能量两百毫焦耳以上的2.79μm波长的调Q铒激光牙科治疗仪，激光的脉冲宽度控制得的越小，对病变组织周围的健康细胞的热损伤影响越小，同时脉冲能量达到两百毫焦以上，可以有效地增加激光作用于病变组织的深度，有效地提高治疗效率，并高效地对牙体组织进行切除，从而有效减轻病人的疼痛感。
本实用新型与现有技术结果比较如下：
利用本实用新型的调Q牙科治疗仪将调Q激光和静态激光分别作用于离体牙齿，制备窝洞实验样本，通过显微镜观察窝洞正面和剖面如图5和图6所示，左侧的窝洞剖面是调Q模式下激光作用的结果，右边的为静态激光作用的结果，从两个窝洞的正面和剖面图可以看出：
（1）调Q铒激光作用下窝洞表面及洞壁光滑，基本没有碳化现象，静态激光下产生的窝洞表面及洞壁有比较严重的碳化现象。
（2）调Q铒激光窝洞深度比静态激光下产生的窝洞要深。
（3）调Q铒激光由于激光作用时间从50-1000μs下降到20ns以下，对周围的组织损伤大大降低，患者的疼痛感也几乎消失。
显然，本领域的技术人员可以对本实用新型的2.79μm调Q铒激光牙科治疗仪进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若对本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (8)
1.一种2.79μm调Q铒激光牙科治疗仪，包括激光电源、激光部件、激光水冷系统、气水喷雾系统、导光输出系统及中央控制系统；中央控制系统的输出分别连接激光电源、激光水冷系统和气水喷雾系统；气水喷雾系统和激光部件的输出分别与导光输出系统连接；激光水冷系统和激光光源的输出分别接至激光部件连接，其特征在于：
所述激光部件包括全反腔片、电光Q开关、氙灯、激光棒、聚光腔、波片、输出腔片、退压调Q电路板、激光电源和激光水冷系统；所述激光棒和氙灯并行安装在所述聚光腔内与水冷系统连接；所述激光电源通过导线与氙灯两电极相连；电源内的调Q电源通过高压线与调Q晶体两电极相连，两电极位于调Q晶体的两侧，紧贴晶体Y-Z面表面；所述全反腔片和所述输出腔片平行于激光棒两端面放置，电光Q开关置于全反腔片与激光棒端面之间；所述电光Q开关由起偏器和电光调Q晶体组成；所述调Q晶体为硅酸镓镧晶体（LGS）；所述激光棒为Cr，Er:YSGG激光晶体；所述波片为1/4波片。
2.根据权利要求1所述的2.79μm调Q铒激光牙科治疗仪，其特征在于：所述硅酸镓镧晶体（LGS）是单轴旋光晶体，能运用横向电光效应，折射率n=1.85562.79μm，损伤阈值高达750MW/cm2，且不潮解。
3.根据权利要求1所述的2.79μm调Q铒激光牙科治疗仪，其特征在于：所述硅酸镓镧晶体（LGS）沿X-Y-Z方向切割设计为长方体，X轴方向加电场，两Y-Z面对称平行镀金作为电极，保证电场的均匀性；沿Z轴方向通光，双X-Y面镀2.79μm增透膜；X轴方向施加的电场由调Q电源提供。
4.根据权利要求1所述的2.79μm调Q铒激光牙科治疗仪，其特征在于：所述1/4波片通光口径12mm，双面镀2.79μm增透膜，垂直于光路，光轴方向平行于偏振方向，置于输出腔片与激光棒之间。
5.根据权利要求1所述的2.79μm调Q铒激光牙科治疗仪，其特征在于：所述全反腔片和输出腔片均为白宝石(Al2O3)、YSGG晶体、YAG晶体、氟化钙(CaF2)或氟化镁(MgF2)镜片，其中全反腔片单面镀2.79μm全反膜，输出腔片双面分别镀2.79μm增透膜和20%～90%反射膜。
6.根据权利要求1所述的2.79μm调Q铒激光牙科治疗仪，其特征在于：所述聚光腔为漫反射陶瓷聚光腔、采用镀金腔或镀银玻璃聚光腔。
7.根据权利要求1所述的2.79μm调Q铒激光牙科治疗仪，其特征在于：所述激光电 源的工作频率为1～50Hz。
8.根据权利要求1所述的2.79μm调Q铒激光牙科治疗仪，其特征在于：所述激光水冷系统的循环回路中串接有去离子净化过滤器。
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- 2013-04-11 CN CN 201320181380 patent/CN203208135U/zh not_active Expired - Lifetime
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