CN203016811U - 一种沐足器 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种沐足器,包括设有沐足腔的沐足盆、控制装置,其特征在于,所述沐足腔的底部设置磁疗装置,该磁疗装置包括振动器和多根磁针或磁棒,振动器带动磁针或磁棒。本实用新型结构简单,有效刺激足底反射区,可使相应组织器官的功能得到调节,促进人体新陈代谢。
Description
技术领域
本实用新型涉及沐足器技术领域。
背景技术
脚被称为人的第二心脏,早在《皇帝内经》中就有论述了足部保健养生的目的。脚是人体上一块蕴含无限宝藏的神秘器官,而足掌这个狭小的空间却汇集了身体一般经络。经常进行足浴,使足部的涌泉、太冲、隐白、昆仑等众多穴位受到热力刺激,就会促进人体血脉流通,调理腑脏,平衡阴阳,疏通经脉等。传统的沐足容器一般都是以木制盆为主,因木制盆与塑料盆或金属盆相比,散热较慢,有利于保温,若要取得更好的效果,一般都需要到沐足场所,由专业技师进行脚底按摩,成本较高。为此,市场上出现了一些有足底按摩器的沐足盆,其优点是能够一边沐足一边按摩足部,既节省了时间,又增加了沐足盆的功能,让使用者在沐足的同时,能做到保健与享受同时兼顾;缺点是足底按摩器与人体脚掌接触面大,难以准确刺激脚底穴位,按摩的疗效并不显著,难以与手工按摩相比,不能满足消费者的需求。
发明内容
本实用新型的目的就是为了解决现有技术之不足而提供的一种结构简单,使用方便,穿透性强,能准确刺激脚底穴位,能促进人体循环、新陈代谢的沐足器。
本实用新型是采用如下技术解决方案来实现上述目的:一种沐足器,包括设有沐足腔的沐足盆和控制装置,其特征在于,所述沐足腔的底部设置磁疗装置,该磁疗装置包括振动器和多根磁针或磁棒,振动器连接控制装置,振动器以一定频率振动带动磁针或磁棒振动形成振动磁场,磁场穿透人体脚底,直接刺激穴位,促进人体循环,调节机能植物神经功能,增强肌体的应激力和耐受力,消除疲劳。
进一步地,所述沐足腔包括相互连通的左、右沐足腔,左、右沐足腔之间设置有挡块,左、右沐足腔的上方设置支撑盖板,支撑盖板上设置有放置人脚的凹位。
所述挡块的顶部设置有搓脚按摩轮,搓脚按摩轮表面分布有按摩圆粒。
所述左、右沐足腔的底部表面分布有多颗按摩圆粒。
所述磁针或磁棒垂直设置在沐足腔的下方。
所述磁针或磁棒的N极指向沐足腔。
所述磁针或磁棒为磁场强度在2000A/m以上的永久磁铁件或电磁铁件。
所述多根磁针或磁棒中的相邻两根之间留有间隙。
本实用新型采用上述技术解决方案所能达到的有益效果是:
本实用新型采用在沐足腔的底部设置由若干根磁针或磁棒与振动器组成的磁疗装置,由于多根磁针的端部带有强磁场,而磁针或磁棒之间的间隙磁场却很弱,这种结构,能在人体脚掌底部形成磁场作用的生理落差,有效促进人体循环,达到对脚底穴位的刺激与治疗疾病的作用。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为本实用新型的剖视结构示意图。
附图标记说明:1-沐足腔 2-沐足盆 3-控制装置 4-磁疗装置 401-振动器 402-磁针 5-挡块 6-支撑盖板 7-凹位 8-搓脚按摩轮 9-按摩圆粒 10-按摩圆粒。
具体实施方式
如图1和图2所示,本实用新型是一种沐足器,包括设有沐足腔1的沐足盆2、控制装置3,沐足腔的底部设置磁疗装置4,该磁疗装置4包括振动器401和多根磁针402,振动器401连接控制装置,相邻两根磁针之间留有间隙,磁针垂直设置在沐足腔的下方,磁针N极指向沐足腔,振动器以一定频率振动带动磁针振动形成振动磁场。这里,磁针选用磁场强度在5000A/m的永久磁铁。其中,沐足腔包括相互连通的左、右沐足腔,左、右沐足腔之间设置有挡块5,左、右沐足腔的上方设置支撑盖板6,支撑盖板上设置有放置人脚的凹位7。挡块的顶部设置有搓脚按摩轮8,搓脚按摩轮表面分布有按摩圆粒9。左、右沐足腔的底部表面设置有与人体脚板对应的凹位,凹位上分布有多颗按摩圆粒10。
以上所述的仅是本实用新型的优选实施方式,所述磁针还可以以磁棒的形式,不过磁棒一般做成端部呈锥形效果最佳,本实用新型在不脱离本创造构思的前提下,还可以做出若干变形和改进。
Claims (8)
1.一种沐足器,包括设有沐足腔的沐足盆、控制装置,其特征在于,所述沐足腔的底部设置磁疗装置,该磁疗装置包括振动器和多根磁针或磁棒,振动器带动磁针或磁棒。
2.根据权利要求1所述的一种沐足器,其特征在于,所述沐足腔包括相互连通的左、右沐足腔,左、右沐足腔之间设置有挡块,左、右沐足腔的上方设置支撑盖板,支撑盖板上设置有放置人脚的凹位。
3.根据权利要求2所述的一种沐足器,其特征在于,所述挡块的顶部设置有搓脚按摩轮,搓脚按摩轮表面分布有按摩圆粒。
4.根据权利要求2所述的一种沐足器,其特征在于,所述左、右沐足腔的底部表面分布有多颗按摩圆粒。
5.根据权利要求1所述的一种沐足器,其特征在于,所述磁针或磁棒垂直设置在沐足腔的下方。
6.根据权利要求1所述的一种沐足器,其特征在于,所述磁针或磁棒的N极指向沐足腔。
7.根据权利要求1所述的一种沐足器,其特征在于,所述磁针或磁棒为磁场强度在2000A/m以上的永久磁铁件或电磁铁件。
8.根据权利要求1所述的一种沐足器,其特征在于,所述多根磁针或磁棒中的相邻两根之间留有间隙。
Priority Applications (1)
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2013
- 2013-01-15 CN CN 201320017739 patent/CN203016811U/zh not_active Expired - Fee Related
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GR01 | Patent grant | ||
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