CN202958236U - 一种运动场草坪节水技术 - Google Patents
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Abstract
本实用新型的运动场草坪节水技术属于节水领域,由下部的坪床基土、水平摊铺在坪床基土上的多孔薄膜、回填在多孔薄膜上的坪床上层土三部分组成,在坪床基土距离地表15cm处,摊铺有厚度为0.1~0.12mm,孔洞直径为10mm,孔隙度为50%的多孔薄膜,多孔薄膜以上回填有15cm厚的坪床上层土。本实用新型的实施,使得草坪耗水量减少26%,节水效果明显,实施简单,成本低廉,易与其他节水技术集成应用,便于后期管理。
Description
技术领域
本实用新型的运动场草坪节水技术属于节水领域,尤其涉及一种人工草坪的节水。
背景技术
覆盖栽培技术具有增温、节水、早熟、增产等作用,这一技术已在新疆等干旱半干旱区取得良好效果,并大面积推广。目前各种覆盖栽培技术都是在地表覆盖地膜或秸秆从而实现提高表土温度、减少地表蒸发之目的,其多应用于大田作物。缺陷在于铺设的地膜容易造成“白色污染”,限制了该技术在运动场草坪建植中的应用,而且地表覆膜也不易与其他节水技术共同集成应用。
目前许多运动场草坪,尤其是高档场地,考虑到草坪的生长质量、坪床的排水性能、坪床稳定性等,在建植过程中需要对其根系层土壤进行人工更换土层,由于这一过程的存在,就使得根系覆膜技术能够在运动草坪的建植中得以实现,本发明就是在此背景下而得以实现。
发明内容
本实用新型的目的在于提出一种节水效果明显,施工管理方便,易与其他节水技术集成的运动场草坪节水技术。
本实用新型的目的是这样实现的:运动场草坪节水技术由下部的坪床基土、水平摊铺在坪床基土上的多孔薄膜、回填在多孔薄膜上的坪床上层土三部分组成,在坪床基土距离地表15cm处,摊铺有厚度为0.1~0.12mm,孔洞直径为10mm,孔隙度为50%的多孔薄膜,多孔薄膜以上回填有15cm厚的坪床上层土。
由于铺设了这种具有一定孔隙度的多孔薄膜,在灌溉水下渗过程中,一部分水分被阻滞在薄膜上方,也降低了膜下灌溉水向草的根系层深度以下土壤的入渗速度。在灌溉结束后,土壤水分分布趋于稳定,形成稳定蒸发状态,当土壤表层的水分由于蒸发而不断减小时,深层土壤中的水分就会向上运动补给地表,在此过程中,多孔薄膜又可起到阻滞水分向上运动的作用,减少地表蒸发量。如此,即可使灌溉水始终保持在草的根系层深度内的土壤孔隙中,长期供给草坪根系吸水,从而提高灌溉水的利用率。
根据实地测算对比,在不显著影响草坪草生长的情况下,在相同面积,灌溉相同水量,经过相同的时间后,覆膜处理与未作处理的草坪,耗水量减少26%,节水效果明显,实施简单,成本低廉,易与其他节水技术集成应用,便于后期管理。
附图说明:本实用新型的具体结构由以下的附图和实施例给出:
图1是运动场草坪节水技术结构示意图;
图2是多孔薄膜结构示意图。
图例:1、草,2、地表,3、坪床上层土,4、多孔薄膜,5、坪床基土,6、孔洞。
具体实施方式:
本实用新型不受下述实施例的限制,可根据本实用新型的技术方案与实际情况来确定具体的实施方式。
实施例:如图1、2所示,运动场草坪节水技术由下部的坪床基土5、水平摊铺在坪床基土5上的多孔薄膜4、回填在多孔薄膜4上的坪床上层土3三部分组成,在坪床基土5距离地表15cm处,摊铺有厚度为0.1~0.12mm,孔洞直径为10mm,孔隙度为50%的多孔薄膜4,多孔薄膜4以上回填有15cm厚的坪床上层土3。多孔薄膜4为厚度0.1~0.12mm的大棚膜即聚氯乙烯或聚乙烯薄膜,孔洞6由热熔打孔器打出。
以上技术特征构成了本实用新型的最佳实施例,其具有较强的适应性和最佳实施效果,可根据实际需要增减非必要技术特征,来满足不同情况的需要。
Claims (1)
1.一种运动场草坪节水技术,由下部的坪床基土、水平摊铺在坪床基土上的多孔薄膜、回填在多孔薄膜上的坪床上层土三部分组成,其特征在于:在坪床基土距离地表15cm处,摊铺有厚度为0.1~0.12mm,孔洞直径为10mm,孔隙度为50%的多孔薄膜,多孔薄膜以上回填有15cm厚的坪床上层土。
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CN 201220488657 CN202958236U (zh) | 2012-09-24 | 2012-09-24 | 一种运动场草坪节水技术 |
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Cited By (2)
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TWI595831B (zh) * | 2015-06-30 | 2017-08-21 | Non-toxic ginger cultivation methods | |
CN110140569A (zh) * | 2019-06-26 | 2019-08-20 | 河南农业大学 | 一种带热熔冲头的作物掏苗覆土机 |
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2012
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Legal Events
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GR01 | Patent grant | ||
C17 | Cessation of patent right | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20130605 Termination date: 20130924 |