CN202859344U - 一种牙种植体构件 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种牙种植体构件。所述牙种植体构件1体部末端内设中央垂直通道2，所述牙种植体构件1体部尖端部位设一至多个水平通道3，所述中央垂直通道2分别与水平通道3一端连接导通，所述水平通道3的另一端均匀分布在所述牙种植体构件1周围；所述中央垂直通道2和所述水平通道3中均填充多孔钽材料；所述牙种植体构件1上设有横贯牙种植体构件1的羟基磷灰石填充部位4。这种结构的牙种植体构件，结构简单，便于制造加工，力学稳定性和生物相容性强，种植成功率高。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种牙种植体构件，尤其涉及一种结构简单、制造方便、力学性能稳定、生物相容性好、种植成功率高的牙种植体构件。
背景技术
目前，修复口内牙缺失有多种方法，种植修复术是其中最为有效的方法，已在临床获得广泛应用。这种方法是将种植牙植入牙槽内使种植牙与患者的骨质融合，从而达到治愈目的。牙种植体构件为种植牙的关键部件。一般来说，牙种植体构件从外到内分为基台、颈部和体部三部分。其中，基台与人工义齿直接相连，体部则深入牙槽骨内与骨组织相容；基台与体部通过颈部相连。
牙种植体构件的力学稳定性和生物相容性将极大影响种植的成败。传统的牙种植体构件力学性能不够稳定，生物相容性不高，往往造成种植成功率低下。尤其是上颌磨牙区由于有上颌窦关系，往往骨质不够丰满，非常容易造成种植牙失败。
实用新型内容
针对现有技术存在的上述缺陷，本实用新型旨在提供
一种结构简单、制造方便、力学性能稳定、生物相容性好、种植成功率高的牙种植体构件。
为了实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案：牙种植体构件体部末端内设中央垂直通道，所述牙种植体构件体部尖端部位设一至多个水平通道，所述中央垂直通道分别与水平通道一端连接导通，所述水平通道的另一端均匀分布在所述牙种植体构件周围；所述中央垂直通道和所述水平通道中均填充多孔钽材料；所述牙种植体构件上设有横贯牙种植体构件的羟基磷灰石填充部位。
作为对本技术方案的改进，所述羟基磷灰石填充部位长度约占所述牙种植体构件长度的五分之一。
作为对本技术方案的改进，所述水平通道为4个。
作为对本技术方案的改进，所述中央垂直通道和所述水平通道中的多孔钽材料孔隙率在20%到70%之间。
与现有技术比较，本实用新型由于采用了上述技术方案，结构简单，便于制造加工，力学稳定性和生物相容性强，种植成功率高。
附图说明
图1为本实用新型实施例的结构示意图。
图中：1牙种植体构件、2中央垂直通道、3水平通道、4羟基磷灰石填充部位。
具体实施方式
下面通过实施例对本实用新型进行具体的描述，有必要在此指出的是以下实施例只用于对本实用新型进行进一步的说明，不能理解为对本实用新型保护范围的限制，本领域的技术人员可以根据上述内容对本实用新型作出一些非本质的改进和调整。
实施例：一种牙种植体构件，如图1和图2所示，牙种植体构件1体部末端内设中央垂直通道2，牙种植体构件1体部尖端部位设一至多个水平通道3，中央垂直通道2分别与水平通道3一端连接导通，水平通道3的另一端均匀分布在牙种植体构件1周围。中央垂直通道2和水平通道3中均填充多孔钽材料。所述牙种植体构件1上设有横贯牙种植体构件1的羟基磷灰石填充部位4。
为了使羟基磷灰石有充分的接触面，所述羟基磷灰石填充部位4长度约占所述牙种植体构件1长度的五分之一。
为了制造方便、接触面充分，水平通道3的数量优选4个。
为了更好地发挥启动骨组织生长的作用，中央垂直通道2和水平通道3中的多孔钽材料孔隙率优选在20%到70%之间。
水平通道均匀分布并填充多孔钽材料，以使牙种植体构件与骨质更好地融合，使牙种植体构件受力更趋一致，提高了牙种植体构件的力学性能。同时，中央垂直通道和水平通道中的多孔钽材料加速了骨组织的生长，充分容纳生长出来的骨组织，促进了骨组织与牙种植体构件的融合，大大提高了牙种植体构件的生物相容性，巩固和提升术后效果。羟基磷灰石同样具有明显的提升生物相容性的作用，能大大改善牙种植体构件与人体骨组织的融合性。
Claims (4)
1.一种牙种植体构件，其特征在于：所述牙种植体构件（1）体部末端内设中央垂直通道（2），所述牙种植体构件（1）体部尖端部位设一至多个水平通道（3），所述中央垂直通道（2）分别与水平通道（3）一端连接导通，所述水平通道（3）的另一端均匀分布在所述牙种植体构件（1）周围；所述中央垂直通道（2）和所述水平通道（3）中均填充多孔钽材料；所述牙种植体构件（1）上设有横贯牙种植体构件（1）的羟基磷灰石填充部位（4）。
2.如权利要求1所述的牙种植体构件，其特征在于：所述羟基磷灰石填充部位（4）长度约占所述牙种植体构件（1）长度的五分之一。
3.如权利要求1或2所述的牙种植体构件，其特征在于：所述水平通道（3）数量为4。
4. 如权利要求1或2所述的牙种植体构件，其特征在于：所述中央垂直通道（2）和所述水平通道（3）中的多孔钽材料孔隙率在20%到70%之间。
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2012
- 2012-11-08 CN CN201220585471XU patent/CN202859344U/zh not_active Expired - Fee Related
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