CN202858967U

CN202858967U - 足浴盆的按摩结构

Info

Publication number: CN202858967U
Application number: CN 201220506429
Authority: CN
Inventors: 林彬
Original assignee: NINGBO OSUN HEALTH CARE TECHNOLOGY Co Ltd
Current assignee: NINGBO OSUN HEALTH CARE TECHNOLOGY Co Ltd
Priority date: 2012-09-29
Filing date: 2012-09-29
Publication date: 2013-04-10
Anticipated expiration: 2022-09-29

Abstract

本实用新型公开了一种按摩结构，提供了一种水电完全隔离，能耗低噪音小，安全舒适，敲打式按摩的足浴盆的按摩结构，解决了现有技术中存在的按摩舒适性差，盆体易出现渗漏，不仅影响正常使用，且极易导致电机漏电，直接威胁人们的生命安全等的技术问题，它包括盆体，在所述盆体的底部向外延伸形成一体式的圆形凹槽，圆形凹槽的开口端上罩设有弹性膜层，圆形凹槽内设有可沿圆形凹槽内壁上下滑动的磁性活塞，在与磁性活塞对应的圆形凹槽外套设有线圈，线圈与外接电源相连。

Description

足浴盆的按摩结构

技术领域

本实用新型涉及一种按摩结构，尤其涉及一种水电完全隔离，敲打式按摩，安全舒适的足浴盆的按摩结构。

背景技术

随着人们生活水平的提高，可对脚部实施保健按摩的足浴盆开始走入千家万户，尤其是通过电机带动按摩滚轮按摩足部的足浴盆正日益普及应用，它可以帮助人们放松身体，缓解疲劳，但现有足浴盆上的按摩结构一般是通过电机带动滚轮转动，再通过滚轮或滚轮上的按摩体对人体足部进行滚动式按摩，按摩方式单一，按摩舒适性和效果差，无法满足人们的需要，同时用于驱动按摩结构的电机一般是设置在盆体的外侧，电机的输出轴延伸至盆体内带动滚轮转动，尽管电机的输出轴与盆体间设置有密封件，但密封件老化或装配不到位时，盆体内的水即会从密封件装配口外泄，不仅影响人们的正常使用，而且极易导致电机漏电，直接威胁人们的生命安全。

中国专利公开了一种足浴盆用卧式滚轮型按摩装置（CN201768160U），它包括驱动电机和齿轮箱，所述的齿轮箱内安装有齿轮，驱动电机通过传动轴与齿轮相连接，齿轮上连接有按摩组架，按摩组架上安装有按摩滚轮，所述的按摩滚轮可以通过齿轮箱内的齿轮设置为多组，所述的按摩滚轮上设置有按摩单轮，所述的按摩单轮上设置有凸点。此装置即通过电机带动盆体内的按摩滚轮转动来实施按摩功能，因此同样存在按摩方式单一，按摩舒适性和效果差，以及盆体易渗漏，不仅影响正常使用，且极易导致电机漏电，直接威胁人们的生命安全等的技术问题。

发明内容

本实用新型主要是提供了一种水电完全隔离，能耗低噪音小，安全舒适，敲打式按摩的足浴盆的按摩结构，解决了现有技术中存在的按摩舒适性差，盆体易出现渗漏，不仅影响正常使用，且极易导致电机漏电，直接威胁人们的生命安全等的技术问题。

本实用新型的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的：一种足浴盆的按摩结构，包括盆体，在所述盆体的底部向外延伸形成一体式的圆形凹槽，圆形凹槽的开口端上罩设有弹性膜层，圆形凹槽内设有可沿圆形凹槽内壁上下滑动的磁性活塞，在与磁性活塞对应的圆形凹槽外套设有线圈，线圈与外接电源相连。通过在盆体底部一体式成型凸向盆体外的圆形凹槽，并在圆形凹槽内放置一个可沿圆形凹槽内壁上下滑动的磁性活塞，在磁性活塞上方对应的圆形凹槽开口端上罩设一块弹性膜层，使磁性活塞封装在圆形凹槽内，又在圆形凹槽外套装一个外接电源相连的线圈，当线圈与外接电源连通时，线圈产生的磁场即可带动磁性活塞沿圆形凹槽上下滑动，当磁性活塞向上与弹性膜层碰撞时，弹性膜层弹性变性后向上敲打按摩足部，磁性活塞向下回落至圆形凹槽内时，弹性膜层恢复原状，相对传统的滚轮式按摩，舒适度及按摩效果好；圆形凹槽与盆体一体成型，线圈位于盆体外，水电完全隔电，因此盆体不会发生漏水现象，安全性好，结构简单轻巧，方便使用及贮存携带，电磁感应驱动磁性活塞敲击足底，磁性活塞阻力小，能耗低，噪音小，节能环保。

作为优选，在所述弹性膜层的中部一体式连接有弹性按摩头，弹性按摩头的一端延伸在弹性膜层的表面上方，弹性按摩头的另一端延伸至圆形凹槽内。通过在弹性膜层的中部设置弹性按摩头，即可通过弹性按摩头来敲击按摩足底，提高按摩舒适度；弹性按摩头与弹性膜层一体式连接，成型简单，且可避免连接处发生渗漏。

作为优选，在与圆形凹槽开口端对应的弹性膜层上设有环形端盖，弹性膜层夹持在环形端盖与盆体底面间。通过环形端盖来固定弹性膜层，简单方便，密封性好。

作为更优选，在所述圆形凹槽的开口端设有沉孔，环形端盖嵌装在沉孔内且环形端盖的上端面与盆体底面相平齐。将环形端盖嵌装在圆形凹槽开口端的沉孔内，使环形端盖的上端面与盆体底面相平齐时，一是确保盆体的美观性，避免环形端盖划伤足底，二是确保弹性膜层与盆体底面间保持夹紧密封。

作为优选，所述线圈设于壳体内，壳体包括一端开口的环形容纳腔及罩设在环形容纳腔开口端的定位板，在定位板的周边设有定位孔，线圈同轴设于环形容纳腔内，壳体通过螺钉固定在盆体上。将线圈设置在壳体内，保证使用安全性；壳体结构简单，方便安装固定。

作为优选，在所述圆形凹槽的底面中部同轴一体式连接有定位柱，磁性活塞同轴滑动连接在定位柱上。通过在圆形凹槽的底面中部一体式连接定位柱，使磁性活塞滑动连接在定位柱上，确保磁性活塞上下滑动连续平稳，提高按摩的舒适性；定位柱一体式连接，同轴度好，连接方式简单牢固。

磁性活塞可以多棱柱等其它形状，作为优选，所述磁性活塞呈圆柱形，且磁性活塞的磁极方向与圆形凹槽的轴线方向一致。圆柱形易加工，磁性活塞的磁极方向与圆形凹槽的轴线方向一致时，确保磁性活塞沿圆形凹槽内腔上下连续平稳滑动，提高按摩的舒适性。

因此，本实用新型的足浴盆的按摩结构具有下述优点：

1、线圈通电后带动磁性活塞沿密闭的圆形凹槽内壁上下滑动，磁性活塞运行阻力小，能耗低，噪音小；

2、通过磁性活塞带动弹性按摩头上下弹动实现敲打式按摩，结构简单，按摩舒适效果好；

3、水电完全隔离，安全可靠。

附图说明：

图1是本实用新型足浴盆的按摩结构的爆炸图；

图2是本实用新型的局部剖视图。

具体实施方式：

下面通过实施例，并结合附图，对本实用新型的技术方案作进一步具体的说明。

实施例：

如图1所示，本实用新型的足浴盆的按摩结构，包括塑料材质的盆体1，在盆体1的底部向盆体1外延伸形成一个一体式连接的圆形凹槽2，在圆形凹槽2的开口端上同轴开有一个圆形的沉孔7，在圆形凹槽2的底面中部同轴一体式连接一个定位柱11，在定位柱11上同轴套装一个圆柱形的磁性活塞3，磁性活塞3可沿圆形凹槽2内壁上下滑动，磁性活塞3的N极在上、S极在下，如图2所示，在磁性活塞3上方对应的圆形凹槽2的开口端上罩设一块圆形的弹性膜层12，弹性膜层12为硅胶材料，弹性膜层12平铺在沉孔7底部，且弹性膜层12的边沿抵接在沉孔7的内壁面上，在弹性膜层12的中部一体式连接一个同材质的弹性按摩头8，弹性按摩头8呈中间大、两头小的腰鼓形，且弹性按摩头8的最大直径比圆形凹槽2直径小6mm，弹性按摩头8的上端垂直延伸在弹性膜层12的表面上方，弹性按摩头8的下端垂直延伸至圆形凹槽2内，且在弹性按摩头8的下端面中同轴开有一个导向孔，定位柱11的上端滑动插接在导向孔内，在对应于弹性膜层12上方的沉孔7内嵌装一个环形端盖6，环形端盖6的下表面平压在弹性膜层12边沿上，使圆形凹槽2保持密封状态，在与磁性活塞3对应的圆形凹槽2外套装一个线圈4，线圈4安装在壳体内，壳体包括一端开口的环形容纳腔51，线圈4同轴嵌装在环形容纳腔51内，在环形容纳腔51的开口端同轴安装一块正方形的定位板52，定位板52中部开孔且孔的大小与环形容纳腔51的中孔一致，在定位板52的四个转角上分别开有一个定位孔，定位孔内穿插有螺钉53，定位板52朝外并通过螺钉53固定在盆体1上，线圈4与外接电源相连的。

使用时，线圈4接通外接电源，磁性活塞3沿定位柱11在圆形凹槽2内上下滑动，磁性活塞3向上时，推动弹性按摩头8向上，连接在弹性按摩头8上的弹性膜层12弹性变形，弹性按摩头8进一步向上敲打足底，磁性活塞3向下时，弹性膜层12复位并带动弹性按摩头8向下，由此弹性按摩头8反复连续上下弹动形成敲打式按摩，按摩效果好，同时由于磁性活塞3位于圆形凹槽2内的密闭空间内，因此运行阻力小，能耗低，环保节能。

本文中所描述的具体实施例仅仅是对本实用新型的构思作举例说明。本实用新型所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，但并不会偏离本实用新型的精神或者超越所附权利要求书所定义的范围。

Claims

1.一种足浴盆的按摩结构，包括盆体（1），其特征在于：在所述盆体（1）的底部向外延伸形成一体式的圆形凹槽（2），圆形凹槽（2）的开口端上罩设有弹性膜层（12），圆形凹槽（2）内设有可沿圆形凹槽（2）内壁上下滑动的磁性活塞（3），在与磁性活塞（3）对应的圆形凹槽（2）外套设有线圈（4），线圈（4）与外接电源相连。

2.根据权利要求1所述的足浴盆的按摩结构，其特征在于：在所述弹性膜层（12）的中部一体式连接有弹性按摩头（8），弹性按摩头（8）的一端延伸在弹性膜层（12）的表面上方，弹性按摩头（8）的另一端延伸至圆形凹槽（2）内。

3.根据权利要求1或2所述的足浴盆的按摩结构，其特征在于：在与圆形凹槽（2）开口端对应的弹性膜层（12）上设有环形端盖（6），弹性膜层（12）夹持在环形端盖（6）与盆体（1）底面间。

4.根据权利要求3所述的足浴盆的按摩结构，其特征在于：在所述圆形凹槽（2）的开口端设有沉孔（7），环形端盖（6）嵌装在沉孔（7）内且环形端盖（6）的上端面与盆体（1）底面相平齐。

5.根据权利要求1或2所述的足浴盆的按摩结构，其特征在于：所述线圈（4）设于壳体内，壳体包括一端开口的环形容纳腔（51）及罩设在环形容纳腔（51）开口端的定位板（52），在定位板（52）的周边设有定位孔，线圈（4）同轴设于环形容纳腔（51）内，壳体通过螺钉（53）固定在盆体（1）上。

6.根据权利要求1或2所述的足浴盆的按摩结构，其特征在于：在所述圆形凹槽（2）的底面中部同轴一体式连接有定位柱（11），磁性活塞（3）同轴滑动连接在定位柱（11）上。

7.根据权利要求1或2所述的足浴盆的按摩结构，其特征在于：所述磁性活塞（3）呈圆柱形，且磁性活塞（3）的磁极方向与圆形凹槽（2）的轴线方向一致。